江蘇軸承鋼金相磨拋機(jī)替代斯特爾

自動(dòng)金相磨拋機(jī)FY-MP-100，簡(jiǎn)介：一、產(chǎn)品特點(diǎn)：8寸觸摸屏操作控制。自動(dòng)調(diào)壓力，精確力度控制。通過(guò)編程實(shí)現(xiàn)連續(xù)制樣，每個(gè)工序完成自動(dòng)停機(jī)，方便更換拋光組織物，同時(shí)可以暫停查看制樣的效果，每部工序倒時(shí)，能精確的制樣和節(jié)省制樣時(shí)間。同時(shí)也可以通過(guò)手動(dòng)操作參數(shù)制樣，方便制樣多樣性。一次可制樣1-6個(gè)。可連接自動(dòng)滴液器功能。自動(dòng)鎖緊功能，LED燈照明。錐度磨盤系統(tǒng)，更換清理更容易。防濺水橢圓水槽設(shè)計(jì)可靠保護(hù)部件的使用壽命及保持機(jī)臺(tái)的整潔。大口徑的排水管道，解決易堵的問(wèn)題。三檔定速，能快速定位常用轉(zhuǎn)速。水流量可調(diào)。免鑲嵌金相磨拋機(jī)輔助磨樣裝置及其方法。江蘇軸承鋼金相磨拋機(jī)替代斯特爾

   金相研磨機(jī)磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選！大直徑的研磨盤會(huì)增加試樣在給定時(shí)間內(nèi)的運(yùn)動(dòng)距離。例如，轉(zhuǎn)速一樣時(shí)，試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運(yùn)動(dòng)距離，分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運(yùn)動(dòng)距離的。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時(shí)，建議將時(shí)間減少為8英寸(200mm)研磨盤的80%或67%。大直徑的研磨機(jī)的試樣制備時(shí)間要短，但耗材消耗稍多，所以大直徑的研磨機(jī)更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。純銻，鉍，鎘，鉛，錫，和鋅是非常軟的難制備的金屬。純銻相當(dāng)脆，但含銻的合金很常見。鉍是一種軟的金屬，制備不是十分困難。然而對(duì)含殘余鉍顆粒的快削鋼，制備就很困難。鎘和鋅，都是六方密排晶格結(jié)構(gòu)，如果切割或研磨太重，則傾向于生成機(jī)械孿晶。鋅比鉛或錫要硬，趨于易碎。鋅被的用于板材防蝕電鍍保護(hù)涂層(鍍鋅鋼)，是經(jīng)常要面對(duì)的問(wèn)題。純鋅制備非常困難。鉛是一種非常軟的易延展的金屬，純鉛試樣非常非常難制備。然而，鉛合金制備相對(duì)較容易。錫在室溫下是體心立方晶格結(jié)構(gòu)的同素異形體，軟易延展的金屬，不容易生成機(jī)械孿晶。陜西鋼鐵行業(yè)金相磨拋機(jī)代理加盟賦耘檢測(cè)技術(shù)（上海）有限公司金相拋光機(jī)金相自動(dòng)磨拋機(jī)金相磨拋機(jī)磨拋機(jī)磨光機(jī)金相研磨機(jī)報(bào)價(jià)！

    金相全自動(dòng)研磨拋光設(shè)備采用多頭試樣夾持器，初的磨拋步驟叫磨平步驟。本步驟必須把切割損傷去除，以便給所有的試樣建立一個(gè)統(tǒng)一的平面，保證在隨后的步驟中每一個(gè)試樣所受的影響都一樣。碳化硅和氧化鋁砂紙通常被用于磨平步驟，并且效果理想。除了這些砂紙之外，還有其它的選擇。其中一種，是用傳統(tǒng)的氧化鋁磨拋石磨平。這就要求一部特殊的設(shè)備，氧化鋁磨拋石必須高速旋轉(zhuǎn)，≥1500rpm以有效研磨。這些氧化鋁磨拋石除了必須定期用金剛石韌磨以保持平整度，研磨損傷大及研磨顆粒容易嵌到試樣里可能會(huì)是一個(gè)要面對(duì)的問(wèn)題。其它材料也被用于磨平步驟和隨后的步驟，以替代SiC砂紙。對(duì)那些非常硬的材料，如陶瓷和燒結(jié)碳化物，一個(gè)或多個(gè)金屬黏結(jié)或樹脂黏結(jié)的金剛石磨盤(傳統(tǒng)類型)粒度從70μm到9μm可以使用。

賦耘檢測(cè)技術(shù)（上海）有限公司金相磨拋機(jī)金相試樣的磨制A、磨平即粗磨：可用砂輪機(jī)或砂紙將試樣磨平，注意冷卻。B、磨光即細(xì)磨：通過(guò)由粗到細(xì)的砂紙磨制，去除表面較深的磨痕及表面加工變形層。每更換一次砂紙，轉(zhuǎn)90度，將上道的劃痕去除。金相砂紙磨料一般為碳化硅和氧化鋁。注意冷卻。C、拋光：去除細(xì)微磨痕和表面變形層，使磨面成為無(wú)劃痕的光滑鏡面。有機(jī)械拋光和電解拋光。機(jī)械拋光：常用的為金剛石研磨膏。電解拋光：采用電化學(xué)溶解作用使表面達(dá)到拋光的目的。手動(dòng)金相磨拋機(jī)操作技巧。

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   金相研磨機(jī)磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選！大直徑的研磨盤會(huì)增加試樣在給定時(shí)間內(nèi)的運(yùn)動(dòng)距離。例如，轉(zhuǎn)速一樣時(shí)，試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運(yùn)動(dòng)距離，分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運(yùn)動(dòng)距離。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時(shí)，建議將時(shí)間減少為8英寸(200mm)研磨盤的80%或67%。大直徑的研磨機(jī)的試樣制備時(shí)間要短，但耗材消耗稍多，所以大直徑的研磨機(jī)更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。為了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，比較好不要超過(guò)500r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些，因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋除去。精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高，拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。金相試樣拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)人員的重視。近年來(lái)，國(guó)內(nèi)外在拋光機(jī)的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機(jī)型、新一代的拋光設(shè)備，正由原來(lái)的手動(dòng)操作發(fā)展成為各種各樣的半自動(dòng)及全自動(dòng)拋光機(jī)。江蘇軸承鋼金相磨拋機(jī)替代斯特爾