安徽下打光太陽光譜模擬AM0

來源: 發(fā)布時間:2023-02-08

因此,對于地球靜止軌道光學遙感衛(wèi)星在不同日期、不同時間、不同地點拍攝圖像的太陽光照補償值為δet=et(x1,y1,z1,d1,t1)-et(x2,y2,z2,d2,t2),(2)其中,下角標1和2**兩個不同拍攝日期、和/或時間和/或位置。至此,通過獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程,基于上述方法,實現(xiàn)對于不同日期、不同時間、不同地點拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的太陽光照補償值計算。圖3示意性示出了根據(jù)本發(fā)明一示例性實施例的太陽光照補償值計算裝置的框圖,如圖3所示,該裝置300例如可以包括獲取模塊310、***計算模塊320、第二計算模塊330和第三計算模塊340。濺鍍制備低發(fā)射率膜:在第二真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的銅離子沉積在步驟。安徽下打光太陽光譜模擬AM0

這發(fā)生在太陽大氣層的外層(夫瑯和費線),或通過地球大氣層內(nèi)的吸收(由水蒸氣或氧氣等氣體引起的大氣吸收譜線)。每個單獨的條紋由標準具或VIPA的一個FSR隔開。標準具FSR由其制造工藝精確確定,這意味著將原始條紋圖像與現(xiàn)有文獻中的太陽光譜進行比較,即可得到相應的太陽光譜。HN-9332光譜儀在518nm附近記錄的太陽極光光譜顯示了太陽外層的Mg三重態(tài)吸收(除了所示的Mg線和Fe線之外,在太陽光譜的這個區(qū)域也有一些Ni吸收線)。比較LightMachineryHF-8989-2e光譜儀記錄的太陽光譜(紅色數(shù)據(jù))和參考光譜(藍色數(shù)據(jù))山東AM1太陽光譜模擬銷量由于在濺鍍化合物薄膜時,若直接以化合物當作靶材,則所濺鍍出來的薄膜會與靶材成份有所差別。

可選地,根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度,包括:根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像中每個像素對應的地理經(jīng)度和地理緯度;根據(jù)拍攝日期,計算拍攝日期對應的太陽赤緯角及大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度;根據(jù)拍攝時刻和地理經(jīng)度,計算拍攝時刻的太陽時角;根據(jù)太陽赤緯角、太陽時角和地理緯度,計算拍攝時刻的太陽高度角;根據(jù)太陽高度角和拍攝位置高程,計算相對大氣光學質(zhì)量;根據(jù)相對大氣光學質(zhì)量,計算直射輻射大氣透明度系數(shù),并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù),計算散射輻射大氣透明度系數(shù);根據(jù)大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計算太陽直接輻射強度;根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計算太陽散射輻射強度。

反應性濺鍍制備緩沖膜:在第三真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發(fā)生化學反應生成氮化鉻,反應生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜;4)反應性濺鍍制備過渡膜:在第四真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學反應生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻,反應生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜;5)反應性濺鍍制備吸收膜:在第五真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應生成氧化鉻,反應生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜;膜層的附著力根據(jù)標準要求測試,結(jié)果為1級;本申請制備的膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率為77%~82%。

在本申請的一個實施例中,步驟2)中,靶材為銅靶,氬氣流量為50~500sccm,制得的低發(fā)射率膜的厚度為180~220nm。在本申請的一個實施例中,步驟3)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~300sccm,氮氣流量為10~100sccm,制得的緩沖膜的厚度為30~150nm。在本申請的一個實施例中,步驟4)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~500sccm,氮氣流量為10~200sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的過渡膜的厚度為30~100nm。在本申請的一個實施例中,步驟5)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~300sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的吸收膜的厚度為30~120nm。撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜。四川下打光太陽光譜模擬購買

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根據(jù)τs(α,z)=0.2710-0.2939×τd(α,z)(9)其中,τs(α,z)為散射輻射大氣透明度系數(shù)。s27,根據(jù)大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計算太陽直接輻射強度。在本實施例一可行的方式中,根據(jù)ed(d,α,z)=e(d)×τd(α,z)×sinα(x,y,d,t)(10)計算太陽直接輻射強度ed(d,α,z)。s28,根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計算太陽散射輻射強度。在本實施例一可行的方式中,根據(jù)計算太陽散射輻射強度es(α,z),k2為常系數(shù),根據(jù)大氣質(zhì)量渾濁程度,取值范圍通常為0.6≤k2≤0.9。s103,根據(jù)太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的太陽總輻照強度。在本實施例一可行的方式中,根據(jù)安徽下打光太陽光譜模擬AM0

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