珠海玩具真空鍍膜市場

來源: 發(fā)布時間:2022-04-09

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要,直接影響到電鍍的產品品質。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理,表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物,為了避免加工過程中造成的不良,真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學清冼方法將其去掉。對經過清洗處理的清潔表面,不能在大氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至更小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳氫化合物。真空鍍膜加工對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面,一般應貯存在真空干燥箱中。UV真空鍍膜簡單理解就是產品要用UV油做環(huán)保鍍膜加工。珠海玩具真空鍍膜市場

真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設備說明書和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。①檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。②打開總電源開關,設備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位,保證無任何雜質污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動抽真空機械泵。⑦開復合真空計電源(復合真空計型號:Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至110mA時,左旋鈕"1"旋轉至指向2區(qū)段測量位置。⑧當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區(qū)段測量位置。⑨真空鍍膜機開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。⑩低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥(閥桿順時針旋轉)。?等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時,開規(guī)管燈絲開關。江門陶瓷真空鍍膜公司塑料件真空鍍膜企業(yè)數量及分布。

潤溢UV鍍膜生產工藝的流程及參數:一:檢查線體,確認各系統(tǒng)(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運轉正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據具體基材和要求調整;五:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測。

真空鍍膜時,蒸發(fā)料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴散深度通常只為幾百個埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。也就是說比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時,蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當于一個氣喘吁吁的長跑運動員,那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客,當其高速轟擊工件時,不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。淺談真空鍍膜生產中常見問題及解決方法。

真空鍍膜底漆底涂處于基材和真空鍍層之間,其作用主要有:(1)通過底涂封閉基材,防止真空鍍膜時基材中的揮發(fā)性雜質逸出,影響鍍膜質量;(2)塑料表面較粗糙,底涂預處理后,可通過涂層獲得光滑平整的鏡面效果;(3)在薄膜材料上預涂底漆可進一步加強薄膜的阻隔性;(4)預涂底漆有利于獲得更厚的真空鍍層,展現出更高的反射效果和力學性能;(5)某些表面極性較低的基材如PP等與鍍層的附著力較差,通過底漆可獲得較好的鍍層附著性;(6)對某些耐熱性較差的塑料基材,底涂可以起到一定的熱緩沖作用,保護基材免遭熱致形變。真空鍍膜的成本大約是多少?珠海玩具真空鍍膜市場

真空鍍膜是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術。珠海玩具真空鍍膜市場

UV真空鍍膜技術除化學氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下特點:(1)各種鍍膜技術都需一個特定的真空環(huán)境,以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質的不良影響。(2)各種鍍膜技術都需有一個蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進,擴大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質,都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜,還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對其膜厚可進行比較精確的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質量分數,從而防止蒸鍍材料的氧化,把氧的質量分數降低到小的程度,還可以充入惰性氣體等,這對于濕式鍍膜而言是無法實現的。(5)由于鍍膜設備的不斷改進,鍍膜過程可以實現連續(xù)化,從而提高產品的產量,而且在生產過程中對環(huán)境無污染。(6)由于在真空條件下制膜,所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需再加工,這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。珠海玩具真空鍍膜市場

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