是為電阻、電容等微型電子元件設計的自動化電鍍裝置,通過三滾筒協(xié)同作業(yè)與全流程智能控制,實現(xiàn)高效、高精度鍍層加工。要點:
三滾筒系統(tǒng):
三個滾筒可同步處理不同工藝或元件(如電阻鍍錫、電容鍍銀),或聯(lián)動提升產(chǎn)能。滾筒采用PP/PVC等耐腐蝕材質,內部防碰撞分區(qū)設計,減少微小元件(如貼片電阻0201)的損傷風險
全自動控制:
集成PLC/工業(yè)電腦系統(tǒng),自動完成上料、電鍍、清洗、烘干流程。通過傳感器實時監(jiān)控鍍液溫度、pH值及電流密度,動態(tài)調節(jié)參數(shù)
電鍍優(yōu)化:
多級過濾與溫控裝置確保鍍液穩(wěn)定性;多點陰極導電技術適配電阻引腳、電容電極的復雜接觸需求
高效靈活:三滾筒并行作業(yè),產(chǎn)能較單筒提升50%以上,可同時處理多規(guī)格元件或多鍍種
鍍層高一致性:滾筒勻速旋轉結合智能調控,確保微小元件表面鍍層均勻
低損耗率:防摩擦結構+精細轉速控制,元件破損率低于0.1%
典型場景:
電阻類:金屬膜電阻端頭鍍錫、高精度電阻鍍金
電容類:鋁電解電容電極鍍銅、MLCC電容鍍鎳抗氧化
關鍵注意:
按元件尺寸匹配滾筒孔徑,防止漏料
定期檢測鍍液金屬離子濃度,避免雜質影響鍍層導電性
維護自動傳輸系統(tǒng),減少卡料風險。 無氰鍍鋅設備使用鋅酸鹽絡合劑替代。國產(chǎn)電鍍設備
龍門式自動線通過龍門機械手(橫跨電鍍槽上方的移動框架)和懸掛系統(tǒng),將工件按預設程序在不同工藝槽(如除油、電鍍、水洗等)間自動轉移,全程由PLC(可編程邏輯控制器)控制,實現(xiàn)無人化連續(xù)生產(chǎn)。
組成
1.龍門機械
手采用伺服電機驅動,雙立柱+橫梁結構,負載能力可達200-1000kg行程精度:±0.1mm(機型可達±0.05mm)移動速度:水平0.5-2m/s,升降0.2-0.5m/s
2.軌道系統(tǒng)
精密導軌+齒輪齒條傳動,支持多工位并行作業(yè)防腐蝕設計(不銹鋼或鍍層保護),適應酸堿環(huán)境
3.掛具系統(tǒng)
定制化夾具,適配不同工件形狀(如支架、吊籃)導電觸點采用銀/銅復合材料,接觸電阻<0.05Ω
4.控制系統(tǒng)
PLC+觸摸屏(HMI),預設上百種工藝配方實時監(jiān)控電流、溫度、pH值,數(shù)據(jù)存儲追溯
滾鍍電鍍設備周邊設備滾鍍設備采用帶孔滾筒裝載小工件,旋轉翻滾中完成電鍍,高效處理螺絲、電子元件等批量小件。
需結合工藝需求、生產(chǎn)規(guī)模、預算及環(huán)保要求,以下建議:
1.工藝類型根據(jù)鍍層種類選擇設備,例如鍍鉻需耐高溫鍍槽,鍍金需高精度整流器。前處理/后處理流程決定是否需要超聲波清洗機、甩干機等配。
2.生產(chǎn)規(guī)模中小批量:優(yōu)先選擇模塊化設備(如可擴展的鍍槽、單機過濾機),降低初期投入。大規(guī)模量產(chǎn):考慮自動化生產(chǎn)線(如機器人上下料、PLC集中控制系統(tǒng)),提升效率。
3.鍍層質量要求高精度產(chǎn)品(如電子元件):需配備在線檢測設備(如X射線測厚儀)、恒溫恒濕控制系統(tǒng)。普通五金件:可選基礎檢測設備(如磁性測厚儀)。
1.鍍槽材質:酸性選聚丙烯(PP),高溫強堿選聚四氟乙烯(PTFE)。尺寸:根據(jù)工件大小和產(chǎn)能計算槽體容積,預留10%-20%余量避免溢出。
2.整流器優(yōu)先選擇高頻開關電源(節(jié)能30%以上),輸出電流需覆蓋最大負載的120%。復雜工藝(如脈沖電鍍)需配置可編程整流器。
3.過濾系統(tǒng)精密電鍍(如PCB):采用多級過濾(濾芯+超濾膜),精度≤1μm。常規(guī)電鍍:選用袋式過濾機,精度5-25μm即可。
4.環(huán)保設備廢氣處理:酸霧量大時選噴淋塔+活性炭吸附廢水處理:重金屬廢水需配備離子交換或反滲透(RO)系統(tǒng)
掛鍍工藝:晶圓固定在掛具上,浸入電鍍液,通過精細控制電流、電壓及溶液成分,在表面沉積均勻金屬層。
電鍍槽:耐腐蝕材質,配備溫控、循環(huán)過濾系統(tǒng),維持鍍液均勻性
掛具與陽極:鈦或鉑金陽極,掛具設計適配晶圓尺寸,確保電場分布均勻
自動化傳輸:機械臂自動上下料,減少人工污染風險
控制系統(tǒng):PLC/計算機實時調控電流密度、電鍍時間、pH值等參數(shù)
高均勻性:通過脈沖電鍍或水平電鍍技術(如ECP),減少邊緣效應,實現(xiàn)亞微米級鍍層均勻性
低缺陷率:鍍液雜質控制(<0.1ppm)與膜厚在線監(jiān)測,降低孔洞、結節(jié)等缺陷
高產(chǎn)能:支持多晶圓并行處理
銅互連:在邏輯芯片中沉積多層銅導線,替代傳統(tǒng)鋁工藝以降低電阻
TSV填充:為3D封裝提供垂直導電通道,實現(xiàn)芯片堆疊
凸塊電鍍:在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊,用于Flip-Chip鍵合
RDL(重布線層):沉積銅層實現(xiàn)芯片I/O端口的重新布局
半導體掛鍍設備通過精密電化學控制與自動化技術,解決了納米級金屬沉積的均勻性與可靠性難題,是先進芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關聯(lián)芯片的導電性、散熱及良率 鍍銅設備的陽極磷銅板定期活化處理,維持表面活性,穩(wěn)定銅離子濃度,保障鍍層沉積速率。
電鍍生產(chǎn)線其組成部分圍繞 “前處理→電鍍處理→后處理→輔助控制” 具體如下:
一、工藝處理系統(tǒng)
1. 前處理設備
除油裝置:
化學除油槽:使用堿性溶液或表面活性劑,去除工件表面油污。
電解除油槽:通過電化學作用強化除油效果,分陽極除油(適用于鋼鐵件)和陰極除油(適用于鋁、銅等易腐蝕金屬)。
酸洗 / 活化設備:
酸洗槽-活化槽-水洗槽
2.電鍍處理設備
鍍槽主體:
按電鍍方式分類:
掛鍍槽:用于中大件或精密件
滾鍍機:用于小尺寸、大批量工件(如螺絲、電子元件)
連續(xù)鍍設備:針對帶狀 / 線狀工件(如鋼帶、銅線)
槽體材料:根據(jù)電解液性質選擇
3. 后處理設備
清洗系統(tǒng):多級水洗(冷水洗、熱水洗),去除鍍層表面殘留電解液,防止腐蝕。
鈍化 / 封閉裝置:
鈍化槽:通過鉻酸鹽、無鉻鈍化劑等形成保護膜(如鍍鋅后的藍白鈍化、五彩鈍化),提高耐腐蝕性。
封閉槽:用于多孔鍍層(如陽極氧化膜),通過熱水封閉或有機涂層封閉,增強膜層致密性。
干燥設備:
熱風干燥箱:適用于小件批量干燥,溫度可控(50~150℃)。
離心干燥機:滾鍍后工件甩干(滾筒直接接入,快速去除表面水分)。
特殊處理:如鍍后拋光(機械或電解拋光)、涂油(防銹)等。 滾鍍機滾筒采用聚氯乙烯材質打孔設計,確保電解液流通,配合變頻電機調節(jié)轉速,保障小件鍍層均勻。四川超硬鍍層電鍍設備
無氰電鍍設備配套活化劑與絡合劑,替代傳統(tǒng)含氰工藝,在保障鍍層質量的同時提升安全性。國產(chǎn)電鍍設備
按電鍍工藝藥劑添加
分化學鎳自動加藥設備:通過先進傳感器和控制系統(tǒng),實時監(jiān)測化學鎳溶液濃度、pH值、溫度等參數(shù),依預設工藝要求自動調整添加劑加入量,保障溶液穩(wěn)定性,提高電鍍產(chǎn)品一致性與質量。還具備高效節(jié)能特點,減少化學品浪費與環(huán)境污染,同時減輕工人勞動強度。
電鍍藥水全自動添加系統(tǒng):如秒準MAZ-XR300A18,基于莫塞萊定律和比爾-朗伯定律,利用軟X射線和可見光譜對電鍍液中金屬離子(如Ni2?、Sn2?等)和非金屬組分(如磷酸、氫氧化鈉等添加劑)進行定性、定量分析。具備自清洗功能,支持多通道采樣,可全組分在線分析,適用于高溫強腐蝕性環(huán)境,安全性高。
pH自動加藥機:用于維持電鍍液pH值穩(wěn)定。電鍍過程中,pH值變化會影響鍍層質量,該設備通過pH傳感器實時監(jiān)測,當pH值偏離設定范圍,自動控制加酸或加堿泵添加相應藥劑,使pH值保持在合適區(qū)間。
光亮劑自動加藥機:光亮劑能提升電鍍層光亮程度和表面質量。此設備依據(jù)電鍍液中光亮劑濃度變化,自動添加光亮劑,保證鍍層外觀質量穩(wěn)定,避免因光亮劑不足或過量導致鍍層發(fā)暗、出現(xiàn)條紋等問題。 國產(chǎn)電鍍設備