光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測量

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-02-14

輪廓儀的技術(shù)原理被測表面(光)與參考面(光)之間的光程差(高度差)形成干涉移相法(PSI)高度和干涉相位f=(2p/l)2h形貌高度:<120nm精度:<1nmRMS重復(fù)性:0.01nm垂直掃描法(VSI+CSI)精度:?/1000干涉信號~光程差位置形貌高度:nm-mm,精度:>2nm干涉測量技術(shù):快速靈活、超納米精度、測量精度不受物鏡倍率影響以下來自網(wǎng)絡(luò):輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數(shù)值的儀器,采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測試儀是對物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進(jìn)行測試與檢驗(yàn)的儀器,作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范。反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測量

光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測量,輪廓儀

白光干涉輪廓儀對比激光共聚焦輪廓儀白光干涉3D顯微鏡:干涉面成像,多層垂直掃描蕞好高度測量精度:<1nm高度精度不受物鏡影響性價(jià)比好激光共聚焦3D顯微鏡:點(diǎn)掃描合成面成像,多層垂直掃描Keyence(日本)蕞好高度測量精度:~10nm高度精度由物鏡決定,1um精度@10倍90萬-130萬三維光學(xué)輪廓儀采用白光軸向色差原理(性能優(yōu)于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀)對樣品表面進(jìn)行快速、重復(fù)性高、高分辨率的三維測量,測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌,臺階高度,給MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料,光學(xué)元件、陶瓷和先進(jìn)材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供了一個(gè)精確的、價(jià)格合理的計(jì)量方案。(來自網(wǎng)絡(luò))Nano X-3000輪廓儀美元報(bào)價(jià)擯棄傳統(tǒng)檢測方法耗時(shí)耗力,精確度低的缺點(diǎn),**提高加工效率。

光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測量,輪廓儀

輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人:邁爾爾遜1852-1931美國物理學(xué)家曾從事光速的精密測量工作邁克爾遜首倡用光波波長作為長度基準(zhǔn)。1881年,他發(fā)明了一種用以測量微小長度,折射率和光波波長的干涉儀,邁克爾遜干涉儀。他和美國物理學(xué)家莫雷合作,進(jìn)行了注明的邁克爾遜-莫雷實(shí)驗(yàn),否定了以太de存在,為愛因斯坦建立狹義相對論奠定了基礎(chǔ)。由于創(chuàng)制了精密的光學(xué)儀器和利用這些儀器所完成光譜學(xué)和基本度量學(xué)研究,邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。

輪廓儀產(chǎn)品應(yīng)用藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)高精密材料表面缺陷超精密表面缺陷分析,核探測Oled特征結(jié)構(gòu)測量,表面粗糙度外延片表面缺陷檢測硅片外延表面缺陷檢測散熱材料表面粗糙度分析(粗糙度控制)生物、醫(yī)藥新技術(shù),微流控器件微結(jié)構(gòu)均勻性缺陷,表面粗糙度移相算法的優(yōu)化和軟件系統(tǒng)的開發(fā)本作品采用重疊平均移相干涉算法,保證了亞納米量級的測量精度;優(yōu)化軟件控制系統(tǒng),使每次檢測時(shí)間壓縮到10秒鐘以內(nèi),同時(shí)完善的數(shù)據(jù)評價(jià)系統(tǒng)為用戶評價(jià)產(chǎn)品面形質(zhì)量提供了方便。但是在共焦圖像中,通過多***盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。

光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測量,輪廓儀

1)白光輪廓儀的典型應(yīng)用:對各種產(chǎn)品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測量和分析。2)共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多珍孔盤、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過多珍孔盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過MPD的珍孔減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但是在共焦圖像中,通過多珍孔盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內(nèi)獲得高分辨率。每個(gè)共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點(diǎn)高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過壓電驅(qū)動(dòng)器和物鏡的精確垂直位移來實(shí)現(xiàn)。200到400個(gè)共焦圖像通常在幾秒內(nèi)被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。共焦顯微鏡通過壓電驅(qū)動(dòng)器和物鏡的精確垂直位移來實(shí)現(xiàn)。湖北輪廓儀

晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程。光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測量

輪廓儀是一種兩坐標(biāo)測量儀器,儀器傳感器相對被測工件表而作勻速滑行,傳感器的觸針感受到被測表而的幾何變化,在X和Z方向分別采樣,并轉(zhuǎn)換成電信號,該電信號經(jīng)放大和處理,再轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號儲存在計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的存儲器中,計(jì)算機(jī)對原始表而輪廓進(jìn)行數(shù)字濾波,分離掉表而粗糙度成分后再進(jìn)行計(jì)算,測量結(jié)果為計(jì)算出的符介某種曲線的實(shí)際值及其離基準(zhǔn)點(diǎn)的坐標(biāo),或放大的實(shí)際輪廓曲線,測量結(jié)果通過顯示器輸出,也可由打印機(jī)輸出。(來自網(wǎng)絡(luò))輪廓儀在集成電路的應(yīng)用:封磚Bump測量視場:72*96(um)物鏡:干涉50X檢測位置:樣品局部面減薄表面粗糙度分析封裝:300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析面粗糙度分析:2D,3D顯示;線粗糙度分析:Ra,Ry,Rz,…器件多層結(jié)構(gòu)臺階高M(jìn)EMS器件多層結(jié)構(gòu)分析、工藝控制參數(shù)分析激光隱形切割工藝控制世界微一的能夠?qū)崿F(xiàn)激光槽寬度、深度自動(dòng)識別和數(shù)據(jù)自動(dòng)生成,大達(dá)地縮短了激光槽工藝在線檢測的時(shí)間,避免人工操作帶來的一致性,可靠性問題光刻機(jī)輪廓儀自動(dòng)化測量

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