青海EVG620光刻機

來源: 發(fā)布時間:2022-03-07

EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,可在各種應(yīng)用中實現(xiàn)出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,對深腔進行構(gòu)圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)進行加工。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。EVG620NT特征:晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統(tǒng)設(shè)計支持光刻工藝的多功能性易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時、大間隙、晶圓平面或紅外對準,在可編程位置自動定位。青海EVG620光刻機

青海EVG620光刻機,光刻機

我們的研發(fā)實力:EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年,讓我們深入了解他們的獨特需求。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術(shù)和*大的靈活性,使大學(xué)、研究機構(gòu)和技術(shù)開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應(yīng)用項目。此外,研發(fā)設(shè)備與EVG的合心技術(shù)平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈。研發(fā)和權(quán)面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導(dǎo)向,研發(fā)才具有價值,也是我們不斷前進的動力。EVG光刻機優(yōu)惠價格EVG光刻機關(guān)注未來市場趨勢 - 例如光子學(xué) 、光學(xué)3D傳感- 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案。

青海EVG620光刻機,光刻機

IQAligner®NT曝光設(shè)定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式IQAligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光先進的對準功能:自動對準暗場對準功能/完整的明場掩模移動(FCMM)大間隙對準跳動控制對準IQAligner®NT系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除如果您需要確認準確的產(chǎn)品的信息,請聯(lián)系我們。如果需要鍵合機,請看官網(wǎng)信息。

     EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實:“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加?!?“*從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),以進行大批量生產(chǎn)。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場***的地位,同時創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機會。”

      業(yè)界**的設(shè)備制造商**近宣布了擴大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標的計劃,以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機中正在設(shè)計十多種傳感器。其中包括3D感測相機,指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發(fā)射器,激光測距儀和生物傳感器。總體而言,光纖集線器預(yù)計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復(fù)合年增長率超過11%*。 HERCULES對準精度:上側(cè)對準:≤±0.5 μm;底側(cè)對準:≤±1,0 μm;紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基材。

青海EVG620光刻機,光刻機

EVG120特征2:先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能,可確保連續(xù)的高產(chǎn)量;工藝技術(shù)桌越和開發(fā)服務(wù):多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機器控制的集成分析功能設(shè)備和過程性能根蹤功能;并行/排隊任務(wù)處理功能;智能處理功能;發(fā)生和警報分析;智能維護管理和根蹤;技術(shù)數(shù)據(jù):可用模塊;旋涂/OmniSpray®/開發(fā);烤/冷;晶圓處理選項:單/雙EE/邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn);彎曲/翹曲/薄晶圓處理。可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作。光刻機價格怎么樣

EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領(lǐng)域做出巨大的貢獻,以提高蕞重要的光刻技術(shù)的水平。青海EVG620光刻機

儀器儀表行業(yè)本身是一個加入,產(chǎn)出周期較長的行業(yè),所以作為業(yè)內(nèi)廠家,一方面要尋找中、短期市場熱點,另一方面也要在產(chǎn)品、技術(shù)研發(fā)方面有長遠的規(guī)劃;中國的新型工業(yè)化進程,信息化和工業(yè)化融合的進一步加深,帶動各個工業(yè)領(lǐng)域?qū)τ诎雽?dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等產(chǎn)品的需求。磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù) 產(chǎn)品普遍運用于工業(yè)、農(nóng)業(yè)、交通、科技、環(huán)保、**、文教衛(wèi)生、大家生活等各個領(lǐng)域,在旺盛市場需求的帶動下和我國宏觀調(diào)控政策的引導(dǎo)下,我國儀器儀表行業(yè)的發(fā)展有了長足的進步空間。盡管在我國相關(guān)政策的引導(dǎo)和支持下,我國儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展。但是從貿(mào)易整體上看,我國的儀器儀表行業(yè)還是落后于國際水平的。重點技術(shù)缺乏、高精尖產(chǎn)品嚴重依賴進口、儀器儀表產(chǎn)品同質(zhì)化嚴重、生產(chǎn)工藝落后、研發(fā)能力弱、精度不高等問題的凸顯,為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來了嚴峻的挑戰(zhàn)。青海EVG620光刻機

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大。一批專業(yè)的技術(shù)團隊,是實現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標的基礎(chǔ),是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動力。公司以誠信為本,業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀,我們本著對客戶負責,對員工負責,更是對公司發(fā)展負責的態(tài)度,爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀,正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。