進(jìn)口納米壓印推薦產(chǎn)品

納米壓印光刻（NIL）-SmartNIL®用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹：EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。如果要獲得詳細(xì)信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪問官網(wǎng)。 NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級圖案的蕞具成本效益的方法。進(jìn)口納米壓印推薦產(chǎn)品

具體說來就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負(fù)的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域，并導(dǎo)致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。黑龍江納米壓印現(xiàn)場服務(wù)HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù)，可對小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。注：*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。

EVG®770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因?yàn)樗赞┬〉恼嘉幻娣e提供了蕞新的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。

EVG510® HE 熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510® HE 半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有熱壓印腔室，其真空和壓印力可調(diào)，可用于熱壓印各種聚合物材料，可進(jìn)行高深寬比壓印，可用于高質(zhì)量納米微米圖案的熱轉(zhuǎn)印工藝。

EVG510® HE 特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動化熱壓印工藝

配合EVG專有的對準(zhǔn)設(shè)備，可用于需要光學(xué)對準(zhǔn)的壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

主動式水冷系統(tǒng)提供安靜快速均勻的冷卻效果

可選配閉環(huán)冷卻水供應(yīng) EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。山東納米壓印質(zhì)量怎么樣

EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。進(jìn)口納米壓印推薦產(chǎn)品

EVG®620NT特征：頂部和底部對準(zhǔn)能力高精度對準(zhǔn)臺自動楔形補(bǔ)償序列電動和程序控制的曝光間隙支持ZUI新的UV-LED技術(shù)ZUI小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版EVG®620NT附加功能：鍵對準(zhǔn)紅外對準(zhǔn)SmartNILμ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑（基板尺寸）標(biāo)準(zhǔn)光刻：ZUI大150毫米的碎片柔軟的UV-NIL：ZUI大150毫米的碎片SmartNIL®：在100毫米范圍解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外線LED光源對準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5μmSmartNIL®：≤±3微米自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL®：支持進(jìn)口納米壓印推薦產(chǎn)品

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是以提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測量儀內(nèi)的多項(xiàng)綜合服務(wù)，為消費(fèi)者多方位提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測量儀，公司位于金高路2216弄35號6幢306-308室，成立于2002-02-07，迄今已經(jīng)成長為儀器儀表行業(yè)內(nèi)同類型企業(yè)的佼佼者。公司主要提供磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù) 等領(lǐng)域內(nèi)的業(yè)務(wù)，產(chǎn)品滿意，服務(wù)可高，能夠滿足多方位人群或公司的需要。岱美中國將以精良的技術(shù)、優(yōu)異的產(chǎn)品性能和完善的售后服務(wù)，滿足國內(nèi)外廣大客戶的需求。