比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本,復(fù)雜度,和測(cè)量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度,使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測(cè)量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光,它忽略偏振效應(yīng)(絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng))。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備,光譜反射儀成為簡(jiǎn)單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過(guò)10um的手選,而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術(shù)都可用。而且具有快速,簡(jiǎn)便,成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測(cè)量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測(cè)量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。輪廓儀對(duì)載物臺(tái)xy行程為140*110mm(可擴(kuò)展),Z向測(cè)量范圍ZUI大可達(dá)10mm。集成電路輪廓儀特點(diǎn)
輪廓儀在集成電路的應(yīng)用封磚Bump測(cè)量視場(chǎng):72*96(um)物鏡:干涉50X檢測(cè)位置:樣品局部面減薄表面粗糙度分析封裝:300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析面粗糙度分析:2D,3D顯示;線(xiàn)粗糙度分析:Ra,Ry,Rz,…器件多層結(jié)構(gòu)臺(tái)階高M(jìn)EMS器件多層結(jié)構(gòu)分析、工藝控制參數(shù)分析激光隱形切割工藝控制世界為一的能夠?qū)崿F(xiàn)激光槽寬度、深度自動(dòng)識(shí)別和數(shù)據(jù)自動(dòng)生成,大達(dá)地縮短了激光槽工藝在線(xiàn)檢測(cè)的時(shí)間,為了避免人工操作帶來(lái)的一致性,可靠性問(wèn)題歡迎咨詢(xún)。集成電路輪廓儀特點(diǎn)隔振系統(tǒng):集成氣浮隔振 + 大理石基石。
1.3.培訓(xùn)計(jì)劃在完成系統(tǒng)布線(xiàn)并開(kāi)始設(shè)備安裝后,即向甲方和業(yè)主介紹整個(gè)系統(tǒng)的概況及性能、特點(diǎn)、設(shè)備布置情況和相互之間的關(guān)系等,讓甲方和業(yè)主對(duì)整個(gè)系統(tǒng)有一個(gè)權(quán)面的認(rèn)識(shí)。在整個(gè)系統(tǒng)驗(yàn)收前后,安排有關(guān)人員在進(jìn)行培訓(xùn)。1.4.培訓(xùn)形式公司指派技術(shù)人員向相關(guān)人員講解系統(tǒng)的原理、功能、操作及維修保養(yǎng)要點(diǎn);向受訓(xùn)學(xué)員提供和解釋有關(guān)設(shè)計(jì)文件及圖紙等資料,使學(xué)員對(duì)系統(tǒng)的各個(gè)方面都能熟練掌握;針對(duì)系統(tǒng)的具體操作一一指導(dǎo),使相關(guān)人員掌握技術(shù)要領(lǐng);對(duì)學(xué)員提出的問(wèn)題進(jìn)行詳細(xì)解答;
NanoX-系列產(chǎn)品PCB測(cè)量應(yīng)用測(cè)試案例測(cè)量種類(lèi)?基板ASoldMask3D形貌、尺寸?基板ASoldMask粗糙度?基板A綠油區(qū)域3D形貌?基板A綠油區(qū)域Pad粗糙度?基板A綠油區(qū)域粗糙度?基板A綠油區(qū)域pad寬度?基板ATrace3D形貌和尺寸?基板B背面PadNanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設(shè)置,一鍵式操作,自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)?一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)?支持連接MES系統(tǒng),數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC?具備異常報(bào)警,急停等功能,報(bào)警信息可儲(chǔ)存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點(diǎn)(移動(dòng)+聚焦+測(cè)量)(掃描范圍50um)?具備Globalalignment&Unitalignment?自動(dòng)聚焦范圍:±0.3mm?XY運(yùn)動(dòng)速度蕞快粗糙度儀的功能是測(cè)量零件表面的磨加工/精車(chē)加工工序的表面加工質(zhì)量。
輪廓儀的自動(dòng)拼接功能:條件:被測(cè)區(qū)域明顯大于視場(chǎng)的區(qū)域,使用自動(dòng)圖片拼接。需要點(diǎn)擊自動(dòng)拼接,輪廓儀會(huì)把移動(dòng)路徑上的拍圖自動(dòng)拼接起來(lái)。軟件會(huì)自適應(yīng)計(jì)算路徑上移動(dòng)的偏差,自動(dòng)消除移動(dòng)中偏差,減小誤差。但是誤差是一定存在的。白光輪廓儀的典型應(yīng)用:對(duì)各種產(chǎn)品,不見(jiàn)和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺(tái)階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。LED光源通過(guò)多珍孔盤(pán)(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。ADE輪廓儀服務(wù)為先
包含了從納米到微米級(jí)別的輪廓、線(xiàn)粗糙度、面粗糙度等二維、三維參數(shù),作為評(píng)定該物件是否合格的標(biāo)準(zhǔn)。集成電路輪廓儀特點(diǎn)
filmOnline查film3D圖像並與其互動(dòng).請(qǐng)參考我們新型光學(xué)輪廓儀!film3D使得光學(xué)輪廓測(cè)量更易負(fù)擔(dān)蕞后,表面粗糙度和表面形貌測(cè)量可以用比探針式輪廓儀成本更低的儀器來(lái)進(jìn)行。film3D具有3倍於于其成本儀器的次納米級(jí)垂直分辨率,film3D同樣使用了現(xiàn)今蕞高 分辨率之光學(xué)輪廓儀的測(cè)量技術(shù)包含白光干涉(WSI)及相移干涉(PSI)。索取技術(shù)資料索取報(bào)價(jià)這就是您需要的解析力Thefilm3D的直觀軟件包括表面粗糙度,形狀和臺(tái)階高度的測(cè)量。在數(shù)秒內(nèi),您可以獲得平面和曲面表面上測(cè)量所有常見(jiàn)的粗糙度參數(shù)。也可以選擇拼接功能軟件升級(jí)來(lái)組合多個(gè)影像以提供大面積測(cè)量。蕞新!免廢的網(wǎng)路3D影像瀏覽/分析filmOnline可存儲(chǔ)、共享、查看與分析來(lái)自您的光學(xué)輪廓儀或3D顯微鏡之3D影像。任何臺(tái)式電腦,平板電腦或智能手機(jī)上都能查看和操作。享受權(quán)面的圖像分析功能,包括表面輪廓(粗糙度)和階高 分析。其他輪廓儀列為選備的功能已經(jīng)是我們的標(biāo)準(zhǔn)配備為什么需要額外支付每位使用者所需要的功能?每film3D都已標(biāo)配自動(dòng)化X/Y平臺(tái)包含tip/tilt功能。以我們的階高標(biāo)準(zhǔn)片建立標(biāo)準(zhǔn)每film3D配備了一個(gè)10微米階高標(biāo)準(zhǔn)片,可達(dá)%準(zhǔn)確度。另我們還提供具有100nm,2微米以及4微米等多階高標(biāo)準(zhǔn)片。集成電路輪廓儀特點(diǎn)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司是以提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x內(nèi)的多項(xiàng)綜合服務(wù),為消費(fèi)者多方位提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x,公司位于金高路2216弄35號(hào)6幢306-308室,成立于2002-02-07,迄今已經(jīng)成長(zhǎng)為儀器儀表行業(yè)內(nèi)同類(lèi)型企業(yè)的佼佼者。岱美中國(guó)以半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x為主業(yè),服務(wù)于儀器儀表等領(lǐng)域,為全國(guó)客戶(hù)提供先進(jìn)半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x。將憑借高精尖的系列產(chǎn)品與解決方案,加速推進(jìn)全國(guó)儀器儀表產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力的發(fā)展。