NanoX-2000/3000系列3D光學干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術的基礎上,以其納米級測量準確度和重復性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域。使用范圍廣:兼容多種測量和觀察需求保護性:非接觸式光學輪廓儀耐用性更強,使用無損可操作性:一鍵式操作,操作更簡單,更方便輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應用。晶片輪廓儀優(yōu)惠價格
輪廓儀、粗糙度儀、三坐標的區(qū)別:關于輪廓儀和粗糙度儀輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產品,輪廓儀主要功能是測量零件表面的輪廓形狀,比如:汽車零件中的溝槽的槽深、槽寬、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),圓柱表面素線的直線度等參數。總之,輪廓儀反映的是零件的宏觀輪廓。粗糙度儀的功能是測量零件表面的磨加工/精車加工工序的表面加工質量,通俗地講,就是零件表面加工得光不光(粗糙度老國標叫光潔度),即粗糙度反映的是零件加工表面的微觀情況。但是,輪廓儀和粗糙度儀關系其實挺密切,現(xiàn)在有一種儀器叫做粗糙度輪廓測量一體機,就是在輪廓儀上加裝了粗糙度測量模塊,這樣既可以測量輪廓尺寸,又可以測量粗糙度,市場上典型產品就是中圖儀器的SJ5701粗糙度輪廓儀。在結構上,輪廓儀基本上都是臺式的,而粗糙度儀以手持式的居多,當然也有臺式的。晶圓片輪廓儀可以試用嗎共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多珍孔盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。
輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求?答:輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm(可擴展),Z向測量范圍蕞大可達10mm,但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測量大尺寸的樣品時,全檢的方式需要進行拼接測量,檢測效率會比較低,建議尋找樣品表面的特征位置或抽取若干區(qū)域進行抽點檢測,以單點或多點反映整個面的粗糙度參數;4.測量的蕞小尺寸是否可以達到12mm,或者能夠測到更小的尺寸?如果需要了解更多,請訪問岱美儀器的官網。
輪廓儀的性能測量模式移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),單色光垂直掃描干涉(CSI)樣品臺150mm/200mm/300mm樣品臺(可選配)XY平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,傾斜:±5°可選手動/電動樣品臺CCD相機像素標配:1280×960視場范圍560×750um(10×物鏡)具體視場范圍取決于所配物鏡及CCD相機光學系統(tǒng)同軸照明無限遠干涉成像系統(tǒng)光源高效LEDZ方向聚焦80mm手動聚焦(可選電動聚焦)Z方向掃描范圍精密PZT掃描(可選擇高精密機械掃描,拓展達10mm)縱向分辨率<0.1nmRMS重復性*0.005nm,1σ臺階測量**準確度≤0.75%;重復性≤0.1%,1σ橫向分辨率≥0.35um(100倍物鏡)檢測速度≤35um/sec,與所選的CCD輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產品,輪廓儀主要功能是測量零件表面的輪廓形狀。
涵蓋面廣的2D、3D形貌參數分析:表面三維輪廓儀可測量300余種2D、3D參數,無論加工的物件使用哪一種評定標準,都可以提供權面的檢測結果作為評定依據,可輕松獲取被測物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數。四、穩(wěn)定性強,高重復性:儀器運用高性能內部抗震設計,不受外部環(huán)境影響測量的準確性。超精密的Z向掃描模塊和測量軟件完美結合,保證高重復性,將測量誤差降低到亞納米級別。三維表面輪廓儀是精密加工領域必不可少的檢測設備,它既保障了生產加工的準確性,又提高了成品的出產效率,滿足用戶對各項2D,3D參數檢測需求的同時,還依然能夠保持高重復性,高穩(wěn)定性的運行,其對精密加工所產生的的作用是舉足輕重的。輪廓儀可用于藍寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)。碳化硅輪廓儀技術支持
包含了從納米到微米級別的輪廓、線粗糙度、面粗糙度等二維、三維參數,作為評定該物件是否合格的標準。晶片輪廓儀優(yōu)惠價格
共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多真孔盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。LED光源通過多真孔盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過MPD的真孔減小到聚焦的部分落在CCD相機上。傳統(tǒng)光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節(jié),但是在共焦圖像中,通過多真孔盤的操作濾除模糊細節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達CCD相機。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內獲得高分辨率。每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點高度捕獲圖像產生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過壓電驅動器和物鏡的精確垂直位移來實現(xiàn)。200到400個共焦圖像通常在幾秒內被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。晶片輪廓儀優(yōu)惠價格
岱美儀器技術服務(上海)有限公司成立于2002-02-07年,在此之前我們已在半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業(yè)中有了多年的生產和服務經驗,深受經銷商和客戶的好評。我們從一個名不見經傳的小公司,慢慢的適應了市場的需求,得到了越來越多的客戶認可。公司現(xiàn)在主要提供半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等業(yè)務,從業(yè)人員均有半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行內多年經驗。公司員工技術嫻熟、責任心強。公司秉承客戶是上帝的原則,急客戶所急,想客戶所想,熱情服務。公司秉承以人為本,科技創(chuàng)新,市場先導,和諧共贏的理念,建立一支由半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀**組成的顧問團隊,由經驗豐富的技術人員組成的研發(fā)和應用團隊。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi秉承著誠信服務、產品求新的經營原則,對于員工素質有嚴格的把控和要求,為半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業(yè)用戶提供完善的售前和售后服務。