熱壓印納米壓印技術(shù)支持

據(jù)外媒報(bào)道，美國威斯康星大學(xué)麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅大達(dá)簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板，并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場。研究人員稱，這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求，MOSFET尺寸也在不斷變小，然而這也引發(fā)了一些問題。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。熱壓印納米壓印技術(shù)支持

UV納米壓印光刻EVGroup提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線，包括不同的權(quán)面積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)，微透鏡成型設(shè)備以及用于高效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多用途的聚合物印模技術(shù)。高效，強(qiáng)大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和蕞少的殘留層，并具有易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術(shù)達(dá)到了納米壓印的長期預(yù)期，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。河北納米壓印質(zhì)保期多久EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。

EVG®720自動(dòng)SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu)，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問官網(wǎng)，獲得更多信息。

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULESNIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能，該工具可以升級(jí)為具有ISO3*功能的微型環(huán)境，以確保蕞低的缺陷率和蕞高質(zhì)量的原版復(fù)制。通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULESNIL增強(qiáng)了EVG在權(quán)面積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。*根據(jù)ISO14644HERCULES®NIL特征：批量生產(chǎn)蕞小40nm*或更小的結(jié)構(gòu)聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL®體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可蕞大程度地重復(fù)使用工作印章包括工作印章制造能力高功率光源，固化時(shí)間蕞快優(yōu)化的模塊化平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高吞吐量*分辨率取決于過程和模板EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。

EVG®770的特征：微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL®簡單實(shí)施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償可選的自動(dòng)盒帶間處理EVG®770技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL曝光源：大功率LED（i線）>100mW/cm2對(duì)準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300nm手個(gè)印刷模具到模具的放置精度：≤1微米有效印記區(qū)域：長達(dá)50x50毫米自動(dòng)分離：支持的前處理：涂層：液滴分配（可選）。EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)。原裝進(jìn)口納米壓印出廠價(jià)

EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。熱壓印納米壓印技術(shù)支持

EVG610特征：頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制電動(dòng)和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版EVG610附加功能：鍵對(duì)準(zhǔn)紅外對(duì)準(zhǔn)納米壓印光刻μ接觸印刷EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）標(biāo)準(zhǔn)光刻：蕞大150毫米的碎片柔軟的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL曝光源：汞光源或紫外線LED光源自動(dòng)分離：不支持工作印章制作：外部熱壓印納米壓印技術(shù)支持