穿透率膜厚儀國(guó)內(nèi)代理

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-04-30

    銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物液晶顯示器,有機(jī)發(fā)光二極管變異體,以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物(TCO)來傳輸電流,并作每個(gè)發(fā)光元素的陽(yáng)極。和任何薄膜工藝一樣,了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要。對(duì)于液晶顯示器而言,就需要有測(cè)量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,對(duì)有機(jī)發(fā)光二極管而言,則需要測(cè)量發(fā)光、電注入和封裝層的厚度。在測(cè)量任何多個(gè)層次的時(shí)候,諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學(xué)技術(shù)需要測(cè)量或建模估算每一個(gè)層次的厚度和光學(xué)常數(shù)(反射率和k值)。不幸的是,使得氧化銦錫和其他透明導(dǎo)電氧化物在顯示器有用的特性,同樣使這些薄膜層難以測(cè)量和建模,從而使測(cè)量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難。Filmetrics的氧化銦錫解決方案Filmetrics已經(jīng)開發(fā)出簡(jiǎn)便易行而經(jīng)濟(jì)有效的方法,利用光譜反射率精確測(cè)量氧化銦錫。將新型的氧化銦錫模式和F20-EXR,很寬的400-1700nm波長(zhǎng)相結(jié)合,從而實(shí)現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。氧化銦錫層的特性一旦得到確定,剩余顯示層分析的關(guān)鍵就解決了。 可見光可測(cè)試的深度,良好的厚樣以及多層樣品的局部應(yīng)力。穿透率膜厚儀國(guó)內(nèi)代理

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F40系列將您的顯微鏡變成薄膜測(cè)量工具F40產(chǎn)品系列用于測(cè)量小到1微米的光斑。對(duì)大多數(shù)顯微鏡而言,F(xiàn)40能簡(jiǎn)單地固定在c型轉(zhuǎn)接器上,這樣的轉(zhuǎn)接器是顯微鏡行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)配件。F40配備的集成彩色攝像機(jī),能夠?qū)y(cè)量點(diǎn)進(jìn)行準(zhǔn)確監(jiān)控。在1秒鐘之內(nèi)就能測(cè)定厚度和折射率。像我們所有的臺(tái)式儀器一樣,F(xiàn)40需要連接到您裝有Windows計(jì)算機(jī)的USB端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)完成設(shè)定。F40:20nm-40μm400-850nmF40-EXR:20nm-120μm400-1700nmF40-NIR:40nm-120μm950-1700nmF40-UV:4nm-40μm190-1100nmF40-UVX:4nm-120μm190-1700nm干涉膜厚儀美元價(jià)格可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。

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電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – ZUI簡(jiǎn)單的材料之一, 主要是因?yàn)樗诖蟛糠止庾V上的無吸收性 (k=0), 而且非常接近化學(xué)計(jì)量 (就是說,硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長(zhǎng)的二氧化硅對(duì)光譜反應(yīng)規(guī)范,通常被用來做厚度和折射率標(biāo)準(zhǔn)。 Filmetrics能測(cè)量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對(duì)此薄膜的測(cè)量比很多電介質(zhì)困難,因?yàn)楣瑁旱嚷释ǔ2皇?:4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時(shí)測(cè)量。 更麻煩的是,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,增大測(cè)量難度。 但是幸運(yùn)的是,我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測(cè)量氮化硅薄膜完整特征!

1、激光測(cè)厚儀是利用激光的反射原理,根據(jù)光切法測(cè)量和觀察機(jī)械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測(cè)量產(chǎn)品的厚度,是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)測(cè)量?jī)x器。它可直接輸出數(shù)字信號(hào)與工業(yè)計(jì)算機(jī)相連接,并迅速處理數(shù)據(jù)并輸出偏差值到各種工業(yè)設(shè)備。2、X射線測(cè)厚儀利用X射線穿透被測(cè)材料時(shí),X射線的強(qiáng)度的變化與材料的厚度相關(guān)的特性,滄州歐譜從而測(cè)定材料的厚度,是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)計(jì)量?jī)x器。它以PLC和工業(yè)計(jì)算機(jī)為和新,采集計(jì)算數(shù)據(jù)并輸出目標(biāo)偏差值給軋機(jī)厚度控制系統(tǒng),達(dá)到要求的軋制厚度。主要應(yīng)用行業(yè):有色金屬的板帶箔加工、冶金行業(yè)的板帶加工。3、紙張測(cè)厚儀:適用于4mm以下的各種薄膜、紙張、紙板以及其他片狀材料厚度的測(cè)量。4、薄膜測(cè)厚儀:用于測(cè)定薄膜、薄片等材料的厚度,測(cè)量范圍寬、測(cè)量精度高,具有數(shù)據(jù)輸出、任意位置置零、公英制轉(zhuǎn)換、自動(dòng)斷電等特點(diǎn)。5、涂層測(cè)厚儀:用于測(cè)量鐵及非鐵金屬基體上涂層的厚度.6、超聲波測(cè)厚儀:超聲波測(cè)厚儀是根據(jù)超聲波脈沖反射原理來進(jìn)行厚度測(cè)量的,當(dāng)探頭發(fā)射的超聲波脈沖通過被測(cè)物體到達(dá)材料分界面時(shí),脈沖被反射回探頭,通過精確測(cè)量超聲波在材料中傳播的時(shí)間來確定被測(cè)材料的厚度。適用于所有可讓紅外線通過的材料 硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物等。

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測(cè)量復(fù)雜的有機(jī)材料典型的有機(jī)發(fā)光顯示膜包括幾層: 空穴注入層,空穴傳輸層,以及重組/發(fā)光層。所有這些層都有不尋常有機(jī)分子(小分子和/或聚合物)。雖然有機(jī)分子高度反常色散,測(cè)量這些物質(zhì)的光譜反射充滿挑戰(zhàn),但對(duì)Filmetrics卻不盡然。我們的材料數(shù)據(jù)庫(kù)覆蓋整個(gè)OLED的開發(fā)歷史,能夠處理隨著有機(jī)分子而來的高折射散射和多種紫外光譜特征。軟基底上的薄膜有機(jī)發(fā)光顯示器具有真正柔性顯示的潛力,要求測(cè)量像PET(聚乙烯)塑料這樣有高雙折射的基準(zhǔn),這對(duì)托偏儀測(cè)量是個(gè)嚴(yán)重的挑戰(zhàn): 或者模擬額外的復(fù)雜光學(xué),或者打磨PET背面。 而這些對(duì)我們非偏振反射光譜來說都不需要,極大地節(jié)約了人員培訓(xùn)和測(cè)量時(shí)間。操作箱中測(cè)量有機(jī)發(fā)光顯示器材料對(duì)水和氧極度敏感。 很多科研小組都要求在控制的干燥氮?dú)獠僮飨渲袦y(cè)量。 而我們體積小,模塊化,光纖設(shè)計(jì)的儀器提供非密封、實(shí)時(shí)“操作箱”測(cè)量。采購(gòu)膜厚儀可咨詢和聯(lián)系岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司。導(dǎo)電氧化物膜厚儀要多少錢

一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺(tái)式測(cè)量系統(tǒng)。 測(cè)量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。穿透率膜厚儀國(guó)內(nèi)代理

測(cè)量有機(jī)發(fā)光顯示器有機(jī)發(fā)光顯示器(OLEDs)有機(jī)發(fā)光顯示器正迅速?gòu)膶?shí)驗(yàn)室轉(zhuǎn)向大規(guī)模生產(chǎn)。明亮,超薄,動(dòng)態(tài)的特性使它們成為從手機(jī)到電視顯示屏的手選。組成顯示屏的多層薄膜的精密測(cè)量非常重要,但不能用傳統(tǒng)接觸型的輪廓儀,因?yàn)樗鼤?huì)破壞顯示屏表面。我們的F20-UV,F(xiàn)40-UV,和F10-RT-UV將提供廉價(jià),可靠,非侵入測(cè)量原型裝置和全像素化顯示屏。我們的光譜儀還可以測(cè)量大氣敏感材料的化學(xué)變化。測(cè)量透明導(dǎo)電氧化膜不論是銦錫氧化物,氧化鋅,還是聚合物(3,4-乙烯基),我們獨(dú)有的ITO光學(xué)模型,加上可見/近紅外儀器,可以測(cè)得厚度和光學(xué)常數(shù),費(fèi)用和操作難度瑾是光譜橢偏儀的一小部分。穿透率膜厚儀國(guó)內(nèi)代理