江西納米壓印質(zhì)保期多久

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-05-16

EVG®510HE特征:用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用自動(dòng)化壓印工藝EVG專有的獨(dú)力對(duì)準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印完全由軟件控制的流程執(zhí)行閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)外部浮雕和冷卻站EVG®510HE技術(shù)數(shù)據(jù):加熱器尺寸:150毫米,200毫米蕞大基板尺寸:150毫米,200毫米蕞小基板尺寸:單芯片,100毫米蕞大接觸力:10、20、60kN最高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C夾盤系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,的SmartView®NT真空:標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴可選:0.00001mbarHERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。江西納米壓印質(zhì)保期多久

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EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案納米壓印光刻的介紹:EVGroup是納米壓印光刻(NIL)的市場領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。江西納米壓印質(zhì)保期多久EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到磚家級(jí)別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

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它為晶圓級(jí)光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計(jì)和制造提供了一種獨(dú)特的方法,可以方便地接觸蕞新研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級(jí)納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動(dòng)晶圓級(jí)光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級(jí)生產(chǎn),先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料,需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性,以及已被證實(shí)的大規(guī)模生產(chǎn)(HVM)的可擴(kuò)展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性,以及自動(dòng)化模制和脫模的專業(yè)知識(shí),才能在已驗(yàn)證的大規(guī)模生產(chǎn)中,以蕞小的形狀因子達(dá)到晶圓級(jí)光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作,促成了工藝流程的研發(fā)與改善,確保晶圓級(jí)光學(xué)元件的高質(zhì)量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品,并增強(qiáng)雙方的專業(yè)技能,從而適應(yīng)當(dāng)前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業(yè)的工藝技術(shù),并將加快新產(chǎn)品設(shè)計(jì)與原型制造的速度,為雙方的客戶保駕護(hù)航?!癗ILPhotonics解決方案支援中心的獨(dú)特之處是:它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時(shí)間研發(fā)產(chǎn)品的需求,同時(shí)保障比較高的保密性。

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。注:*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。

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納米壓印光刻(NIL)-SmartNIL®用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹:EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。如果要獲得詳細(xì)信息,請(qǐng)聯(lián)系岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪問官網(wǎng)。SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn)。江西納米壓印質(zhì)保期多久

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。江西納米壓印質(zhì)保期多久

EVG®770的特征:微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL®簡單實(shí)施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配,壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償可選的自動(dòng)盒帶間處理EVG®770技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米解析度:≤50nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL曝光源:大功率LED(i線)>100mW/cm2對(duì)準(zhǔn):頂側(cè)顯微鏡,用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300nm手個(gè)印刷模具到模具的放置精度:≤1微米有效印記區(qū)域:長達(dá)50x50毫米自動(dòng)分離:支持的前處理:涂層:液滴分配(可選)。江西納米壓印質(zhì)保期多久