重慶膜厚儀技術(shù)原理

FSM413紅外干涉測(cè)量設(shè)備關(guān)鍵詞：厚度測(cè)量，光學(xué)測(cè)厚，非接觸式厚度測(cè)量，硅片厚度，氮化硅厚度，激光測(cè)厚，近紅外光測(cè)厚，TSV,CD,Trench，砷化鎵厚度，磷化銦厚度，玻璃厚度測(cè)量，石英厚度，聚合物厚度,背磨厚度，上下兩個(gè)測(cè)試頭。Michaelson干涉法，翹曲變形。如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話，可以給我留言！產(chǎn)品名稱：紅外干涉厚度測(cè)量設(shè)備·產(chǎn)品型號(hào)：FSM413EC,FSM413MOT，F(xiàn)SM413SADP，F(xiàn)SM413C2C,FSM8108VITEC2C如果您需要更多的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器。F50測(cè)厚范圍：20nm-70μm；波長(zhǎng)：380-1050nm。重慶膜厚儀技術(shù)原理

更可加裝至三個(gè)探頭，同時(shí)測(cè)量三個(gè)樣品，具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)可供選擇。F40:這型號(hào)安裝在任何顯微鏡外，可提供*小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來(lái)測(cè)量微小樣品。F50:這型號(hào)配備全自動(dòng)XY工作臺(tái)，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過(guò)快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。F70:瑾通過(guò)在F20基本平臺(tái)上增加鏡頭，使用Filmetrics*新的顏色編碼厚度測(cè)量法（CTM），把設(shè)備的測(cè)量范圍極大的拓展至。F10-RT：在F20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測(cè)量，特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測(cè)量。PARTS：在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源，特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測(cè)量。**膜厚測(cè)量?jī)x系統(tǒng)F20使用F20**分光計(jì)系統(tǒng)可以簡(jiǎn)便快速的測(cè)量厚度和光學(xué)參數(shù)（n和k）。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過(guò)薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個(gè)桌面系統(tǒng)組裝起來(lái)。F20包括所有測(cè)量需要的部件：分光計(jì)、光源、光纖導(dǎo)線、鏡頭集和和Windows下運(yùn)行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。膜層實(shí)例幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測(cè)。包括：sio2（二氧化硅）sinx（氮化硅）dlc（類金剛石碳）photoresist。四川膜厚儀有誰(shuí)在用不同的 F50 儀器是根據(jù)波長(zhǎng)范圍來(lái)加以區(qū)分的。

技術(shù)介紹：紅外干涉測(cè)量技術(shù),非接觸式測(cè)量。采用Michaelson干涉方法，紅外波段的激光能更好的穿透被測(cè)物體，準(zhǔn)確的得到測(cè)試結(jié)果。產(chǎn)品簡(jiǎn)介：FSM413EC紅外干涉測(cè)量設(shè)備適用于所有可讓紅外線通過(guò)的材料：硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應(yīng)用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度溝槽深度過(guò)孔尺寸、深度、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度硅片厚度環(huán)氧樹(shù)脂厚度襯底翹曲度晶圓凸點(diǎn)高度(bumpheight)MEMS薄膜測(cè)量TSV深度、側(cè)壁角度...

測(cè)量有機(jī)發(fā)光顯示器有機(jī)發(fā)光顯示器(OLEDs)有機(jī)發(fā)光顯示器正迅速?gòu)膶?shí)驗(yàn)室轉(zhuǎn)向大規(guī)模生產(chǎn)。明亮，超薄，動(dòng)態(tài)的特性使它們成為從手機(jī)到電視顯示屏的手選。組成顯示屏的多層薄膜的精密測(cè)量非常重要，但不能用傳統(tǒng)接觸型的輪廓儀，因?yàn)樗鼤?huì)破壞顯示屏表面。我們的F20-UV，F(xiàn)40-UV，和F10-RT-UV將提供廉價(jià)，可靠，非侵入測(cè)量原型裝置和全像素化顯示屏。我們的光譜儀還可以測(cè)量大氣敏感材料的化學(xué)變化。測(cè)量透明導(dǎo)電氧化膜不論是銦錫氧化物，氧化鋅，還是聚合物（3,4-乙烯基），我們獨(dú)有的ITO光學(xué)模型，加上可見(jiàn)/近紅外儀器，可以測(cè)得厚度和光學(xué)常數(shù)，費(fèi)用和操作難度瑾是光譜橢偏儀的一小部分。F30測(cè)厚范圍：15nm-70μm；波長(zhǎng)：380-1050nm。

    氚燈電腦要求60mb硬盤空間50mb空閑內(nèi)存usb接口電源要求100-240vac,50-60hz,a選配以下鏡頭，就可在F20的基礎(chǔ)上升級(jí)為新一代的F70膜厚測(cè)量?jī)x。鏡頭配件厚度范圍(Index=)精度光斑大小UPG-F70-SR-KIT15nm-50μmnm標(biāo)配mm(可選配下至20μm)LA-CTM-VIS-1mm50μmmμm5μm150μmmμm10μm產(chǎn)品應(yīng)用，在可測(cè)樣品基底上有了極大的飛躍：●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測(cè)量，即使是藥片，木材或紙張等粗糙的非透明基底?！癫ＡЩ蛩芰系陌宀摹⒐艿篮腿萜??！窆鈱W(xué)鏡頭和眼科鏡片。Filmetrics光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x經(jīng)驗(yàn)**無(wú)出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x經(jīng)驗(yàn)**無(wú)出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x經(jīng)驗(yàn)**無(wú)出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x經(jīng)驗(yàn)**無(wú)出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x經(jīng)驗(yàn)**無(wú)出其右Filmetrics光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x經(jīng)驗(yàn)**無(wú)出其右。 F20-UV測(cè)厚范圍：1nm - 40μm；波長(zhǎng)：190-1100nm。高精密儀器膜厚儀國(guó)內(nèi)代理

系統(tǒng)測(cè)試應(yīng)力的精度小于15mpa (0.03cm-1) ，全自動(dòng)的200mm和300mm硅片檢查，自動(dòng)檢驗(yàn)和聚焦的能力。重慶膜厚儀技術(shù)原理

    銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物液晶顯示器，有機(jī)發(fā)光二極管變異體，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物(TCO)來(lái)傳輸電流，并作每個(gè)發(fā)光元素的陽(yáng)極。和任何薄膜工藝一樣，了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要。對(duì)于液晶顯示器而言，就需要有測(cè)量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法，對(duì)有機(jī)發(fā)光二極管而言，則需要測(cè)量發(fā)光、電注入和封裝層的厚度。在測(cè)量任何多個(gè)層次的時(shí)候，諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學(xué)技術(shù)需要測(cè)量或建模估算每一個(gè)層次的厚度和光學(xué)常數(shù)(反射率和k值)。不幸的是，使得氧化銦錫和其他透明導(dǎo)電氧化物在顯示器有用的特性，同樣使這些薄膜層難以測(cè)量和建模，從而使測(cè)量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難。Filmetrics的氧化銦錫解決方案Filmetrics已經(jīng)開(kāi)發(fā)出簡(jiǎn)便易行而經(jīng)濟(jì)有效的方法，利用光譜反射率精確測(cè)量氧化銦錫。將新型的氧化銦錫模式和F20-EXR,很寬的400-1700nm波長(zhǎng)相結(jié)合，從而實(shí)現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。氧化銦錫層的特性一旦得到確定，剩余顯示層分析的關(guān)鍵就解決了。 重慶膜厚儀技術(shù)原理