晶圓納米壓印競爭力怎么樣

客戶示范

■工藝開發(fā)

■材料測試

■與合作伙伴共同研發(fā)

■資助項(xiàng)目

■小批量試生產(chǎn)

■IP管理

■過程技術(shù)許可證

■流程培訓(xùn)

→世界前列的潔凈室基礎(chǔ)設(shè)施

→**的設(shè)備

→技術(shù)**

→**計(jì)量

→工藝知識

→應(yīng)用知識

→與NIL的工作印模材料和表面化學(xué)有關(guān)的化學(xué)專業(yè)知識

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。

EVG的納米壓印設(shè)備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。晶圓納米壓印競爭力怎么樣

    NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開發(fā)和知識產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個(gè)合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個(gè)開放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開發(fā)周期和上市時(shí)間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價(jià)值，不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開發(fā)，還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設(shè)備的關(guān)鍵組件，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達(dá)，支持深度沉浸的AR/MR應(yīng)用，視野更廣，高達(dá)65度。在與增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)硬件制造商進(jìn)行多年研發(fā)之后，肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽(yù)的2019年SID顯示行業(yè)獎(jiǎng)（SIDDisplayIndustryAward2019）。關(guān)于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關(guān)高科技材料領(lǐng)域的**國際技術(shù)集團(tuán)。公司積累了超過130年的經(jīng)驗(yàn)，是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。量產(chǎn)納米壓印可以試用嗎EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺，可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。

    首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板，經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（來自網(wǎng)絡(luò)。

EVG ® 620 NT特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補(bǔ)償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版

EVG ® 620 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

SmartNIL

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范圍

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)：

軟NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)有效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨(dú)特且經(jīng)過驗(yàn)證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個(gè)新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。EVG6200NT納米壓印用途是什么

EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作。晶圓納米壓印競爭力怎么樣

儀器儀表行業(yè)已經(jīng)連續(xù)多年保持了經(jīng)濟(jì)高位運(yùn)行的態(tài)勢。即使當(dāng)全球受金融風(fēng)暴的影響，各個(gè)行業(yè)經(jīng)濟(jì)東圃有所放緩，但從全景發(fā)展情況看來，儀表行業(yè)的增長速度并沒有放緩。我國現(xiàn)有其他有限責(zé)任公司企業(yè)數(shù)千多家，已經(jīng)形成門類品種比較齊全，具有一定技術(shù)基礎(chǔ)和生產(chǎn)規(guī)模的產(chǎn)業(yè)體系。但同時(shí)業(yè)內(nèi)行家也指出，雖然我國測試儀器產(chǎn)業(yè)有了一定的發(fā)展，但遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足國民經(jīng)濟(jì)各行各業(yè)日益增長的迫切需求。工業(yè)領(lǐng)域轉(zhuǎn)型升級、提升發(fā)展質(zhì)量等有利于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展；**安全、社會安全、產(chǎn)業(yè)和信息安全等需要自主、半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī)，膜厚測量儀裝備，成為全社會共識；隨著中國的不斷進(jìn)步，世界上只有一個(gè)救世主——市場，能救企業(yè)的只有你自己——自強(qiáng)，提高貿(mào)易型重點(diǎn)競爭力才是中國制造業(yè)的獨(dú)一出路。以顯微科學(xué)儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例，以親身的實(shí)踐為例，毛磊認(rèn)為，隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展，我國的環(huán)境和實(shí)力都發(fā)生了巨大變化，有了完全不同的基礎(chǔ)，這為國產(chǎn)科學(xué)儀器走向**增強(qiáng)了信心。晶圓納米壓印競爭力怎么樣