UV納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-27

EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作


EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。 納米壓印設(shè)備可用來進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。UV納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

UV納米壓印圖像傳感器應(yīng)用,納米壓印

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。注:*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印中芯在用嗎EVG ? 720是自動(dòng)SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

UV納米壓印圖像傳感器應(yīng)用,納米壓印

HERCULES ® NIL特征:

全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺(tái),具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn):≤±3微米

自動(dòng)分離:支持的

前處理:提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


EVG®610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),從碎片到蕞大150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間瑾為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。

UV納米壓印圖像傳感器應(yīng)用,納米壓印

IQAlignerUV-NIL特征:用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸,可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能抵抗分配站集成粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能IQAlignerUV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米解析度:≤50nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型曝光源:汞光源對(duì)準(zhǔn):≤±0.5微米自動(dòng)分離:支持的前處理:涂層:水坑點(diǎn)膠(可選)迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印中芯在用嗎

NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法。UV納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

儀器儀表是用以檢出、測(cè)量、觀察、計(jì)算各種物理量、物質(zhì)成分、物性參數(shù)等的器具或設(shè)備。真空檢漏儀、壓力表、測(cè)長(zhǎng)儀、顯微鏡、乘法器等均屬于儀器儀表。近年來,得益于機(jī)械、冶金、石化行業(yè)等儀器儀表服務(wù)領(lǐng)域經(jīng)營(yíng)狀況的好轉(zhuǎn),我國(guó)儀器儀表制造業(yè)發(fā)展一路向好。隨著互聯(lián)網(wǎng)的逐步發(fā)展,為半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x等產(chǎn)品的傳播提供了一個(gè)飛速的平臺(tái)。讓儀器儀表行業(yè)從傳統(tǒng)的銷售模式到以互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)為主的營(yíng)銷方式的轉(zhuǎn)變,促進(jìn)了儀器儀表行業(yè)與互聯(lián)網(wǎng)的結(jié)合,推動(dòng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展。磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù) 產(chǎn)品普遍運(yùn)用于工業(yè)、農(nóng)業(yè)、交通、科技、環(huán)保、**、文教衛(wèi)生、大家生活等各個(gè)領(lǐng)域,在旺盛市場(chǎng)需求的帶動(dòng)下和我國(guó)宏觀調(diào)控政策的引導(dǎo)下,我國(guó)儀器儀表行業(yè)的發(fā)展有了長(zhǎng)足的進(jìn)步空間。從貿(mào)易廣義角度來說,儀器儀表也可具有自動(dòng)操控、報(bào)警、信號(hào)傳遞和數(shù)據(jù)處理等功能,例如用于工業(yè)生產(chǎn)過程自動(dòng)操控中的氣動(dòng)調(diào)節(jié)儀表,和電動(dòng)調(diào)節(jié)儀表,以及集散型儀表操控系統(tǒng)也皆屬于儀器儀表。UV納米壓印圖像傳感器應(yīng)用