EVG ? 620 NT特征： 頂部和底部對準(zhǔn)能力 高精度對準(zhǔn)臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠程技術(shù)支持 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG ? 620 NT附加功能： 鍵對準(zhǔn) 紅外對準(zhǔn) SmartNIL μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片 ...

EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?！? EVG的NILPhotonics?能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。 用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)?技術(shù)，在100毫米范圍內(nèi)。 EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNI...

EVG ? 7200 LA特征： 專有SmartNIL ?技術(shù)，提供了****的印跡形大面積 經(jīng)過驗證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本 強大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2） 對準(zhǔn)：可選的...

客戶示范 ■工藝開發(fā) ■材料測試 ■與合作伙伴共同研發(fā) ■資助項目 ■小批量試生產(chǎn) ■IP管理 ■過程技術(shù)許可證 ■流程培訓(xùn) →世界前列的潔凈室基礎(chǔ)設(shè)施 →**的設(shè)備 →技術(shù)** →**計量 →工藝知識 →應(yīng)用知識 →與NIL的工作印模材料和表面化學(xué)有關(guān)的化學(xué)專業(yè)知識 新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。 岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu) 支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過程和模板 HERCULES ? NIL技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

EVG ? 720自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng) 自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL ?技術(shù) EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu)，具有****的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（ DOEs）。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問官網(wǎng)，獲得更多信息。...

EVG610特征： 頂部和底部對準(zhǔn)能力 高精度對準(zhǔn)臺 自動楔形誤差補償機制 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠程技術(shù)支持 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG610附加功能： 鍵對準(zhǔn) 紅外對準(zhǔn) 納米壓印光刻 μ接觸印刷 EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸） 標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150...

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和開發(fā) NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗證的創(chuàng)新孵化器。 歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。 HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較...

EVG ? 520 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印 氣動壓花選項 軟件控制的流程執(zhí)行 EVG ? 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù) 加熱器尺寸：150毫米，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60、100 kN 比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C 粘合卡盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng) 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ? 620，EVG...

EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo客戶IP的強大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?！? EVG的NILPhotonics?能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)...

EVG ? 720特征： 體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 專有SmartNIL ?技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù) 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式 可選的頂部對準(zhǔn) 可選的迷你環(huán)境 適用于所有市售壓印材料的開放平臺 從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性 系統(tǒng)外殼，可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...

UV納米壓印光刻系統(tǒng) EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng) ■高精度對準(zhǔn)臺 ■自動楔形誤差補償機制 ■電動和程序控制的曝光間隙 ■支持***的UV-LED技術(shù) ■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材 ■體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 ■專有的SmartNIL?技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù) ■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作 ■盒帶間自動處理以及...

EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù)： 加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60 kN 比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C 夾盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng) 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ...