企業(yè)商機(jī)-納糯三維科技(上海)有限公司
  • 四川微納米Nanoscribe上海
    四川微納米Nanoscribe上海

    QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要:快速原型制作,高精度,高設(shè)計(jì)自由度,簡(jiǎn)易明了的工程流程;工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn);200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專(zhuān)門(mén)使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高...

    2022-02-17
  • 雙光子Nanoscribe上海
    雙光子Nanoscribe上海

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...

    2022-02-16
  • 天津TPP3D打印無(wú)掩膜激光直寫(xiě)
    天津TPP3D打印無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

    為了探索待測(cè)物微納米表面形貌,探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而,由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過(guò)去幾十年中沒(méi)有明顯的研究進(jìn)展,這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能。如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,以實(shí)現(xiàn)對(duì)...

    2022-02-16
  • 進(jìn)口3D打印技術(shù)
    進(jìn)口3D打印技術(shù)

    Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。在全球前列大...

    2022-02-15
  • 廣東工業(yè)級(jí)NanoscribeQuantum X
    廣東工業(yè)級(jí)NanoscribeQuantum X

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Q...

    2022-02-15
  • 海南雙光子Nanoscribe技術(shù)
    海南雙光子Nanoscribe技術(shù)

    借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)...

    2022-02-15
  • 重慶高精度Nanoscribe上海
    重慶高精度Nanoscribe上海

    Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2...

    2022-02-14
  • 湖南Nanoscribe無(wú)掩膜光刻技術(shù)
    湖南Nanoscribe無(wú)掩膜光刻技術(shù)

    Nanoscribe公司成立于2007年,總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄,秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景的德國(guó)卡爾蔡司公司的支持,經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,一直致力于推動(dòng)諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新...

    2022-02-14
  • 湖北實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe
    湖北實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe

    Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)...

    2022-02-13
  • 江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe生物工程
    江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe生物工程

    多年來(lái),Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目,包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開(kāi)發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊(duì)...

    2022-02-13
  • 北京Nanoscribe3D打印技術(shù)
    北京Nanoscribe3D打印技術(shù)

    Nanoscribe公司推出針對(duì)微光學(xué)元件(如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹(shù)脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,這些特性對(duì)于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計(jì)尤為重要,尤其是在沒(méi)有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱性...

    2022-02-12
  • 上海微納米3D打印PPGT
    上海微納米3D打印PPGT

    作為基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的微細(xì)加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者,Nanoscribe在全球30多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?!拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的2PP技術(shù)而感到自豪,憑借我們的技術(shù)支持,我們的客戶實(shí)現(xiàn)了一個(gè)又一個(gè)突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的...

    2022-02-12
  • 天津進(jìn)口3D打印微納光刻
    天津進(jìn)口3D打印微納光刻

    Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過(guò)激光直寫(xiě)而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5...

    2022-02-12
  • 浙江高精度3D打印激光直寫(xiě)
    浙江高精度3D打印激光直寫(xiě)

    Nanoscribe首屆線上用戶大會(huì)于九月順利召開(kāi),在微流控研究中,通常在針對(duì)微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì)結(jié)合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(xué)(RWTHUniversityofAachen)和不來(lái)梅大學(xué)(UniversityofBremen)的研究小組提出將三...

    2022-02-12
  • 四川高分辨率Nanoscribe中國(guó)
    四川高分辨率Nanoscribe中國(guó)

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕澹úA?,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打...

    2022-02-12
  • 河南雙光子無(wú)掩膜光刻激光直寫(xiě)
    河南雙光子無(wú)掩膜光刻激光直寫(xiě)

    借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)...

    2022-02-11
  • 德國(guó)進(jìn)口Nanoscribe微機(jī)械
    德國(guó)進(jìn)口Nanoscribe微機(jī)械

    QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?;陔p光子聚合技術(shù),該激光直寫(xiě)系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于N...

    2022-02-11
  • 湖南超高精度雙光子聚合3D打印
    湖南超高精度雙光子聚合3D打印

    Nanoscribe首屆線上用戶大會(huì)于九月順利召開(kāi),在微流控研究中,通常在針對(duì)微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì)結(jié)合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(xué)(RWTHUniversityofAachen)和不來(lái)梅大學(xué)(UniversityofBremen)的研究小組提出將三...

    2022-02-11
  • 湖北超高速3D打印微納光刻
    湖北超高速3D打印微納光刻

    借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)...

    2022-02-11
  • 湖北無(wú)掩膜光刻設(shè)備
    湖北無(wú)掩膜光刻設(shè)備

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...

    2022-02-11
  • 黑龍江2PP雙光子聚合微納加工系統(tǒng)
    黑龍江2PP雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

    3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過(guò)成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制。通過(guò)使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,機(jī)械,生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)...

    2022-02-11
  • 上海飛秒激光雙光子聚合三維光刻
    上海飛秒激光雙光子聚合三維光刻

    Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來(lái)在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系...

    2022-02-11
  • 海南微納光刻N(yùn)anoscribe無(wú)掩膜激光直寫(xiě)
    海南微納光刻N(yùn)anoscribe無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

    作為基于雙光子聚合技術(shù)( 2PP) 的微細(xì)加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者,Nanoscribe 在全球 30 多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體。 “我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的 2PP 技術(shù)而感到自豪,憑借我們的技術(shù)支持,我們的客戶實(shí)現(xiàn)了一個(gè)又一個(gè)突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿...

    2022-02-10
  • 浙江實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe三維光刻
    浙江實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe三維光刻

    Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印 。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專(zhuān)項(xiàng)技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專(zhuān)項(xiàng)技...

    2022-02-10
  • 河南Nanoscribe無(wú)掩膜光刻PPGT
    河南Nanoscribe無(wú)掩膜光刻PPGT

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和...

    2022-02-10
  • 四川2GLNanoscribe子公司
    四川2GLNanoscribe子公司

    QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和...

    2022-02-10
  • 廣東微納米雙光子聚合無(wú)掩光刻
    廣東微納米雙光子聚合無(wú)掩光刻

    QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?;陔p光子聚合技術(shù),該激光直寫(xiě)系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于N...

    2022-02-10
  • 遼寧德國(guó)無(wú)掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)
    遼寧德國(guó)無(wú)掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

    QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和...

    2022-02-10
  • 江蘇實(shí)驗(yàn)室NanoscribeQX
    江蘇實(shí)驗(yàn)室NanoscribeQX

    來(lái)自德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計(jì)。科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)...

    2022-02-10
  • 湖南雙光子聚合無(wú)掩膜光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě)
    湖南雙光子聚合無(wú)掩膜光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

    雙光子聚合(2PP)是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法。而作為同類(lèi)比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能:首先,在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制,適用于納米和微米級(jí)打印;其次制作高達(dá)50毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu),適...

    2022-02-09
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