上海銦靶型號(hào)

6.起輝濺射真空度與前次的差別？---------更換不同的靶材，起輝壓強(qiáng)不盡相同。換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的，只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。五．磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎？磁控濺射過程中，等離子體的離子撞擊靶材，濺射出靶材的原子、原子團(tuán)、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團(tuán)沉積到基材上形成薄膜。濺射發(fā)生在靶材表面，靶材表面物理狀態(tài)不均勻也沒有關(guān)系，濺射的時(shí)候會(huì)先濺射凸起，濺射時(shí)間長了，靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態(tài)不需要拋光。濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。上海銦靶型號(hào)

ITO薄膜制作過程中的影響因素    ITO薄膜在濺鍍過程中會(huì)產(chǎn)生不同的特性，有時(shí)候表面光潔度比較低，出現(xiàn)“麻點(diǎn)”的現(xiàn)象，有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)高蝕間隔帶，在蝕刻時(shí)還會(huì)出現(xiàn)直線放射型缺劃或電阻偏高帶，有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)微晶溝縫。         常用的ITO靶材是通過燒結(jié)法生產(chǎn)的，就是由氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）粉末按照一定的比例進(jìn)行混合，通常質(zhì)量比是90%In2O3和10% SnO2，形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體（氧化銦錫，ITO）。一般通過外觀就可以了解ITO靶材的質(zhì)量，深灰色是好的，相反越黑質(zhì)量越差，我國生產(chǎn)的ITO靶材質(zhì)量還可以的是黑灰色的。         研究顯示，在真空鍍膜機(jī)ITO薄膜濺鍍過程中，使用磁控濺射的方式，基底溫度控制在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見光透過率下，電阻率達(dá)到低，而薄膜的結(jié)晶度也隨著基底溫度的提高而提高，晶粒尺寸也逐漸增大，超過200℃后透射率趨于減弱；使用電子束蒸鍍的方式，隨著退火溫度升高，晶粒尺寸變大，表面形貌均一穩(wěn)定，超過600℃后顆粒變得大小不一，形狀各異，小顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重，薄膜表面形貌破壞。常州氧化鎵鋅靶哪家好起輝電源是否正常------------檢查靶電源。

密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘?duì)濺射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。是晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

濺射過程不影響靶材合金、混合材質(zhì)的比例和性質(zhì)，所以如果是表面容易變質(zhì)的靶材，如果不拋光去除表面變質(zhì)部分，沉積到基材上的膜層性質(zhì)就是表面變質(zhì)的雜質(zhì)。有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬靶材，長期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮，在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮，所以一般在濺射的時(shí)候進(jìn)行物理拋光。一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定，容易控制。所以結(jié)論就是，活性金屬靶材要求表面拋光，不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。靶中毒的解決辦法：采用孿生靶。

目前市場上常見的合金靶材有哪些？ 鈦鋁靶材,TiAl靶材，鈦硅靶材,TiSi靶材，鈦鎢靶材,TiW靶材，鎢鈦靶材WTi靶材，鈦鋁硅靶材,TiAlSi靶材，鉻鋁靶材,CrAl靶材，鉻硅靶材,CrSi靶材，硅鋁靶材,SiAl靶材，鋅錫靶材,ZnSn靶材，鋅鋁靶材,ZnAl靶材，鋁銅靶材,AlCu靶材，鎳鉻靶材,NiCr靶材，鎳釩靶材,NiV靶材，鎳鐵靶材,NiFe靶材，鎳銅靶材,NiCu靶材，鐵鈷靶材,FeCo靶材，鈦鈮靶材,TiNb靶材，鈦鋯靶材,TiZr靶材，銦錫靶材,InSn靶材，銅鋯靶材,CuZr靶材，鎂鋅鈣靶材,MgZnCa靶材，鎳鉻銅靶材,NiCrCu靶材，鉬鈮靶材,MoNb靶材，鋁釹靶材,AlNd靶材，鋁鈧靶材,AlSc靶材，銀鋁靶材,AgAl靶材， 鉻鋁硅靶材,CrAlSi靶材，鏑鋁靶材,DyAl靶材，鈮鋯靶材,NbZr靶材等等。

5. 永磁靶表面場強(qiáng)是否下降太多？ ---------如果下降太多，需要更換磁鋼。合肥鉑靶圖片

有一部分靶材在安裝之前需要拋光。上海銦靶型號(hào)

  磁控靶材面積與承載功率范圍 1、靶材面積與承載功率范圍   (1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。   (2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。   (3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。 2、磁控靶實(shí)際承載功率   磁控靶的實(shí)際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關(guān)外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。   考慮到濺射靶長期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的使用時(shí)的承載功率，直接水冷卻靶實(shí)際的承載大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實(shí)際承載大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。   磁控靶材(主要是Cu，Ag，黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時(shí)，一般是選用經(jīng)過專門設(shè)計(jì)“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。其使用時(shí)的承載功率，均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。上海銦靶型號(hào)

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂兩套，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。