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磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應(yīng)對？磁控濺射金屬靶時(shí)，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：1.靶材安裝準(zhǔn)確否?2.靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì)，打磨清理干凈后即可。3.起輝電源是否正常------------檢查靶電源。4.靶與地線之間短路----------關(guān)掉機(jī)器，把設(shè)備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細(xì)清洗一下；----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x，調(diào)整距離即可。5.永磁靶表面場強(qiáng)是否下降太多？---------如果下降太多，需要更換磁鋼。通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級。蘇州鋱靶圖片

    濺射靶材，主要應(yīng)用于IC制造的沉積PVD工藝，是表面電子薄膜制備的關(guān)鍵材料。由于工藝方法是，利用離子源的離子在真空中加速聚集，形成高速離子束流轟擊固體表面，固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面形成沉積薄膜，因此被轟擊的固體原材料，就稱為濺射靶材。濺射靶材普遍用于芯片、面板、太陽能電池制造，分為金屬靶、陶瓷靶和合金靶。芯片制造中，對金屬靶材和合金靶材所用的金屬純度的要求極高，通常要求達(dá)到5N5到6N以上，面板要達(dá)到5N，太陽能電池分別要達(dá)到4N5。問題就出在這里。我國有色金屬資源豐富，產(chǎn)量也不低。但因?yàn)榻饘偬峒児に嚰夹g(shù)和設(shè)備落后，長期以來，濺射靶材和超高純度金屬基材主要被美日壟斷，比如霍尼韋爾、日礦金屬、東曹、普萊克斯、住友化學(xué)、愛發(fā)科，海德魯、三菱材料等。其中日礦金屬全球市占約30%；霍尼韋爾約20%，東曹20%，普萊克斯10%。國內(nèi)靶材企業(yè)的超高純度金屬基材基本上都是進(jìn)口的，價(jià)格昂貴。比如超高純度電解銅，價(jià)格可以達(dá)到40萬人民幣/噸。 蘇州鋱靶圖片當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候，靶完全中毒，在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應(yīng)。

直流磁控濺射制備鋅-銻熱電薄膜的技術(shù)探討 熱電材料是一種能夠?qū)崿F(xiàn)熱能和電能直接相互轉(zhuǎn)換的綠色環(huán)保型功能材料。近年來研究發(fā)現(xiàn)，熱電薄膜化有助于熱電材料減低熱導(dǎo)率，從而能夠有效的提高材料的熱電轉(zhuǎn)換效率，因此具有十分重要的科學(xué)研究價(jià)值。Zn-Sb合金是采用的P 型熱電半導(dǎo)體材料之一，但由于其較低的熱電優(yōu)值，所以沒有得到普遍的應(yīng)用。   但近幾年研究發(fā)現(xiàn)，在263 K~767K 溫度區(qū)間穩(wěn)定存在的β-Zn4Sb3 具有非常優(yōu)異的熱電性能，材料少含稀土材料以及可適用于中溫，被國內(nèi)外認(rèn)為是具有前景的中溫?zé)犭姴牧现?。因此，本文選取純度為99.99%的Zn 和Sb 金屬靶作為靶材，采用直流磁控共濺射技術(shù)，制備Zn-Sb 合金熱電薄膜，研究不同熱處理?xiàng)l件下合成的Zn-Sb 化合物熱電薄膜的結(jié)構(gòu)與熱電特性變化規(guī)律。   結(jié)果表明，選取適當(dāng)?shù)臑R射Zn和Sb的功率條件，濺射完成合金薄膜后在Ar 氣氛下進(jìn)行623 K 退火熱處理，可形成具有單一β-Zn4Sb3相結(jié)構(gòu)的Zn-Sb 熱電薄膜，且薄膜顆粒大，較致密，所制備的熱電薄膜具有優(yōu)良的熱電性能。

PVD技術(shù)常用的方法PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯(lián)系的一種薄膜沉積技術(shù)。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應(yīng)濺射等，而用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。RF濺射不可以沉積金屬膜，而且可以沉積多種材料的絕緣介質(zhì)膜，因而使用范圍較廣。電弧離子鍍陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積，該技術(shù)材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開裂或彎曲。

有些陰極設(shè)計(jì)是與陽極的空隙較小，所以在安裝靶材時(shí)需要確保陰極與陽極之間沒有接觸也不能存在導(dǎo)體，否則會(huì)產(chǎn)生短路。請參考設(shè)備商操作手冊中關(guān)于如何正確安裝靶材的相關(guān)信息。在收緊靶材夾具時(shí)，請先用手轉(zhuǎn)緊一顆鏍栓，再用手轉(zhuǎn)緊對角線上的另外一顆鏍栓，如此重復(fù)直到安裝上所有鏍栓后，再用工具收緊。七．濺射靶材的制備方法有哪些？濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領(lǐng)域，不同領(lǐng)域需要的靶材各不相同。

在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導(dǎo)通能力。蘇州鋱靶圖片

除嚴(yán)格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外，對熱處理?xiàng)l件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴(yán)格控制。蘇州鋱靶圖片

涂布技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用 將涂布技術(shù)與真空鍍鋁技術(shù)結(jié)合起來，通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層，以達(dá)到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的要求。 一．經(jīng)過等離子預(yù)處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高，但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高，或者需要用于水煮殺 菌條件時(shí)仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求，通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學(xué)涂層，該涂層不對鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能，同時(shí)可以滿足后續(xù)的水煮殺 菌條件。涂布后的包裝可以滿足巴氏殺 菌的要求，其鍍鋁層不會(huì)因?yàn)樗蠖l(fā)生氧化。  二．為進(jìn)一步提高鍍鋁膜的阻隔性能，同時(shí)保護(hù)鍍鋁層在后續(xù)的印刷、復(fù)合等加工過程中不被破壞，可以通過在鍍鋁層上涂布一層高阻隔的納米涂層或聚合物涂層來實(shí)現(xiàn)。 三．為提高鍍鋁膜的裝飾性能，在基材薄膜鍍鋁前或鍍鋁后進(jìn)行各種顏色的涂布，或模壓后再進(jìn)行鍍鋁，使得鍍鋁膜具有多彩的顏色或具有鐳射效果。此類產(chǎn)品可分為三種：包裝用膜、裝飾用膜、標(biāo)示用膜。主要應(yīng)用于禮品、禮盒的裝飾或防偽包裝用途，如食品、藥品、玩具等的外包裝以及酒等的防偽包裝。蘇州鋱靶圖片

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂兩套，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。