四川MgF2靶材

磁控濺射鍍膜生產(chǎn)ZnO∶Al（AZO）薄膜的工藝探討 目前主要的薄膜太陽(yáng)能電池有：碲化鎘（CdTe）系薄膜太陽(yáng)能電池、硒銦銅（CIS）系薄膜太陽(yáng)能電池、非晶硅系薄膜太陽(yáng)能電池、晶硅系薄膜太陽(yáng)能電池。研究人員研制出了價(jià)格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶Al陷光結(jié)構(gòu)來(lái)作為薄膜太陽(yáng)能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結(jié)構(gòu)的AZO透明導(dǎo)電薄膜可以增強(qiáng)太陽(yáng)光的散射作用，改善陷光效果，增加電池對(duì)太陽(yáng)能的吸收量，提高薄膜太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導(dǎo)電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優(yōu)點(diǎn)，是較為合適的生產(chǎn)AZO薄膜的工藝方法。 目前由磁控濺射工藝生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜AZO時(shí)所用靶材有兩種類型：①陶瓷AZO靶材；②合金鋅鋁靶材。應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況，選擇適合本企業(yè)的靶材產(chǎn)品。 作為一種新的TCO材料，AZO相對(duì)于ITO和FTO有很大優(yōu)勢(shì)，要大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化還必須在如何降低設(shè)備及工藝成本上進(jìn)一步研發(fā)。從根本上說(shuō)，AZO薄膜的結(jié)構(gòu)性能的好壞決定了其光電性能的優(yōu)劣，必須在工藝參數(shù)上多做研究，實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量和低成本的雙贏。金屬靶材，一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧，二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料，建議墊一片銅片。四川MgF2靶材

本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.95mm；所述靶材表面的硬度為23hv；其中，所述靶材的比較大厚度為27mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鉭；所述背板的材質(zhì)包括鋁。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實(shí)施例7本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.75mm；所述靶材表面的硬度為22hv；其中，所述靶材的比較大厚度為20mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為9°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鈦；所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。安徽碳化鎳靶材如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。

陰-陽(yáng)極間距對(duì)靶濺射電壓的影響   真空氣體放電陰-陽(yáng)極間距能夠?qū)Π袨R射電壓造成一定的影響。在陰-陽(yáng)極間距偏大時(shí)，等效氣體放電的內(nèi)阻主要由等離子體等效內(nèi)阻決定，反之，在陰-陽(yáng)極間距偏小時(shí)，將會(huì)導(dǎo)致等離子體放電的內(nèi)阻呈現(xiàn)較小數(shù)值。由于在磁控靶點(diǎn)火起輝后進(jìn)入正常濺射時(shí)，如果陰-陽(yáng)極間距過(guò)小，由于靶電源輸出的濺射電壓具有一定的軟負(fù)載特性，就有可能出現(xiàn)在濺射電流已達(dá)工藝設(shè)定值時(shí)，靶濺射電壓始終很低又調(diào)不起來(lái)的狀況?！肮に囆汀卑须娫纯梢愿纳坪蛷浹a(bǔ)這種狀況;而“經(jīng)濟(jì)型”靶電源對(duì)這種狀況無(wú)能為力。   1. 孿生靶(或雙磁控靶)陰-陽(yáng)極間距   對(duì)稱雙極脈沖中頻靶電源和正弦波中頻靶電源帶孿生靶或雙磁控靶運(yùn)行時(shí)，建議其兩交變陰-陽(yáng)極的小極間距不應(yīng)小于2英2口寸;   2. 單磁控靶陰-陽(yáng)極間距   靶電源帶單磁控靶運(yùn)行時(shí)，一般都不存在這方面問(wèn)題;但是，在小真空室?guī)чL(zhǎng)矩形平面磁控單靶時(shí)容易忽略這個(gè)問(wèn)題，磁控靶面與真空室金屬殼體內(nèi)壁的小極間距一般亦建議不小于2英2口寸。

拋光片部分310的厚度均勻。所述拋光片第三部分330的厚度均勻。位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度不均，即所述拋光片第二部分320的厚度不均。拋光片部分310的厚度與所述拋光片第三部分330的厚度相等，均為2mm～3mm。拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為分體的。在其他實(shí)施例中，所述拋光片部分、拋光片第二部分及拋光片第三部分還可以為一體成型。靶材拋光裝置100還包括：防護(hù)層400，所述防護(hù)層400位于所述固定板200與所述拋光片300之間。所述防護(hù)層400為彈性材料，能夠在所述固定板200及靶材間提供緩沖，避免所述固定板200觸撞靶材導(dǎo)致靶材受損。本實(shí)施例中，所述防護(hù)層400的厚度為30mm～35mm。若所述防護(hù)層400的厚度過(guò)小，所述防護(hù)層400起到的緩沖效果差，難以有效的保護(hù)靶材。若所述防護(hù)層400的厚度過(guò)大，使得所述防護(hù)層400的體積過(guò)大，進(jìn)而造成所述靶材拋光裝置100的體積過(guò)大，對(duì)操作者使用所述靶材拋光裝置100帶來(lái)不必要的困難。熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。

純度：純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”、8”發(fā)展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。雜質(zhì)含量：靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo)，所以，化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。四川MgF2靶材

選擇能實(shí)現(xiàn)快速致密化的成形燒結(jié)技術(shù)，以保證靶材的低孔隙率，并控制晶粒度。四川MgF2靶材

靶材拋光裝置100對(duì)所述靶材600進(jìn)行拋光時(shí)，將所述靶材拋光裝置100放置于所述靶材600上，使所述拋光片第二部分320表面與所述靶材600的側(cè)棱601表面相貼合，并使所述拋光片部分310表面與所述靶材濺射面610相貼合，且所述拋光片第三部分330表面與所述靶材600的側(cè)壁表面630相貼合。操作人員利用所述把手推動(dòng)所述靶材拋光裝置100，所述靶材拋光裝置100相對(duì)所述靶材600移動(dòng)，移動(dòng)方向平行與被拋光的所述側(cè)棱601延伸方向。所述拋光片300表面的磨砂顆粒與靶材600表面相摩擦，以獲得光亮、平整的靶材600表面。此外，還可以通過(guò)所述靶材拋光裝置100同時(shí)對(duì)所述靶材600相交接的兩個(gè)側(cè)壁表面630進(jìn)行拋光。具體的，所述拋光片***部分310與所述靶材600的一個(gè)側(cè)壁表面630相貼合，所述拋光片第三部分330表面與所述靶材600的另一個(gè)側(cè)壁表面630相貼合，所述拋光片第二部分320表面與位于兩個(gè)側(cè)壁表面630間的側(cè)棱601表面相貼合。操作人員相對(duì)所述靶材600移動(dòng)所述靶材拋光裝置100，移動(dòng)方向平行與被拋光的所述側(cè)棱601延伸方向，從而可同時(shí)對(duì)所述靶材600的兩個(gè)側(cè)壁表面630進(jìn)行拋光，且還同時(shí)對(duì)位于兩個(gè)側(cè)壁表面630間的側(cè)棱601表面進(jìn)行拋光，有助于提高拋光作業(yè)效率。四川MgF2靶材

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù)，并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì)，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂?jī)商?，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。