常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設(shè)計和加工。又稱粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。 2. IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據(jù)客戶的要求鍍不同的厚度。 3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成，但很難達到真金的亮度。 4. 銀色系列，一般是鉻的化合物，顏色深淺可調(diào)整，可分冷色系列和暖色系列，冷色系列帶藍調(diào)，金屬光感好，暖色系列帶黃調(diào)，接近不銹鋼本色。 5. 黑色系列，一般是成份是金屬的碳化物，顏色深淺可以調(diào)整，色調(diào)根據(jù)客戶的要求也可以調(diào)整，不同的金屬碳化物具有不同的特性和色調(diào)，可以根據(jù)客戶的需要選擇不同的膜系。 6. 藍色系列，有天空藍，冰藍色，海洋藍，深藍等等，不同色系成份也有所不一樣。
反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低，所以反應(yīng)氣體比例增加后，綜合濺射速率降低。山東錳鎳酸鋰靶材
鋅錫合金，鋅鋁合金，錫鎘合金，銅銦合金，銅銦鎵合金，銅鎵合金，以及錫，鉬，鈦等旋轉(zhuǎn)靶材高純鋁靶材Al高純銅靶材Cu高純鐵靶材Fe高純鈦靶材Ti高純鎳靶材Ni高純鎂靶材Mg高純鉻靶材Cr高純鋅靶材Zn高純銀靶材Ag高純鈷靶材Co高純鈮靶材Nb高純錫靶材Sn高純銦靶材In高純鋯靶材Zr高純鉭靶材Ta高純鍺靶材Ge高純硅靶材Si高純鎢靶材W高純鉿靶材Hf高純釔靶材Y高純釓靶材Gd高純釤靶材Sm高純鏑靶材Dy高純鈰靶材Ce高純鑭靶材La高純金靶材Au高純不銹鋼靶材高純石墨靶材C高純硒靶材Se高純鉬靶材Mo高純合金濺射靶材二元合金靶鎳鉻靶Ni-Cr鎳鐵靶Ni-Fe鎳鈷靶Ni-Co鎳鋯靶Ni-Zr鎳鋁靶Ni-Al鎳銅靶Ni-Cu鎳釩靶Ni-V銅銦靶Cu-In銅鎵靶Cu-Ga銅硒靶Cu-Se鈦鋁靶Ti-Al鋁硅靶Al-Si鋁銅靶Al-Cu鋁鈦靶Al-Ti鋁鎂靶Al-Mg銀銅靶Ag-Cu鐵錳靶Fe-Mn銦錫靶In-Sn鈷鐵靶Co-Fe鎢鈦靶W-Ti鋅鋁靶Zn-Al鋁鈧靶Al-Sc銅錫靶Cu-Sn鋯鋁靶Zr-Al鋯鐵靶Zr-Fe鋯硅靶Zr-Si釩鋁靶V-Al硼鐵靶B-Fe鋁硅靶Al-Si硼鐵靶B-Fe多元合金靶鈷鐵硼靶Co-Fe-B銅銦鎵靶Cu-In-Ga銅銦鎵硒靶Cu-In-Ga-Se等。旋轉(zhuǎn)靶材用途編輯太陽能電池，建筑玻璃，汽車玻璃，半導體，平板電視等。山東錳鎳酸鋰靶材不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。
靶中毒現(xiàn)象：正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。靶中毒的物理解釋：一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當發(fā)生靶中毒時，濺射電壓會明顯降低。金屬靶材與化合物靶材本來濺射速率就不一樣，一般情況下金屬的濺射系數(shù)要比化合物的濺射系數(shù)高，所以靶中毒后濺射速率低。（3）反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低，所以反應(yīng)氣體比例增加后，綜合濺射速率降低。
利用原子力顯微鏡(AFM)和掃描電子顯微鏡(SEM)，對所制備的非晶硅薄膜進行了定性和定量的表征，研究了濺射功率、襯底溫度、濺射時間、氬氣氣壓等因素對非晶硅薄膜表面形貌和厚度的影響。實驗結(jié)果表明：非晶硅薄膜的表面粗糙度會隨濺射功率、濺射時間和濺射氣壓的增加而增大，而隨著襯底加熱溫度的增加而減小。 對制備的非晶硅薄膜在不同溫度和時間進行了退火處理。再利用X- 射線衍射儀(XRD)和拉曼光譜儀，對不同退火溫度的樣品進行晶化程度的表征。實驗結(jié)果表明：不同條件制備的非晶硅薄膜在750℃退火1 h 后就已發(fā)生不同程度的晶化，并且直流磁控濺射制備的非晶硅薄膜比射頻磁控濺射制備的非晶硅薄膜更容易發(fā)生晶化;退火溫度越高，非晶硅薄膜晶化速率越快。 此外，通過拉曼激光誘導晶化，結(jié)果表明：拉曼激光誘導非晶硅晶化為局域晶化，具有晶化速度快的特點;晶化過程中，需要控制激光強度，過強的激光會把非晶硅薄膜燒蝕掉。
通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級。
與實施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對比例4與實施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。通過上述實施例和對比例的結(jié)果可知，本發(fā)明中，通過調(diào)整靶材表面的高度差及硬度，保證濺射強度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。申請人聲明，本發(fā)明通過上述實施例來說明本發(fā)明的詳細結(jié)構(gòu)特征，但本發(fā)明并不局限于上述詳細結(jié)構(gòu)特征，即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細結(jié)構(gòu)特征才能實施。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了，對本發(fā)明的任何改進，對本發(fā)明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等，均落在本發(fā)明的保護范圍和公開范圍之內(nèi)。以上詳細描述了本發(fā)明的 實施方式，但是，本發(fā)明并不限于上述實施方式中的具體細節(jié)，在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本發(fā)明的保護范圍。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標之一。上海CuZr靶材型號
純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。山東錳鎳酸鋰靶材
陰-陽極間距對靶濺射電壓的影響 真空氣體放電陰-陽極間距能夠?qū)Π袨R射電壓造成一定的影響。在陰-陽極間距偏大時，等效氣體放電的內(nèi)阻主要由等離子體等效內(nèi)阻決定，反之，在陰-陽極間距偏小時，將會導致等離子體放電的內(nèi)阻呈現(xiàn)較小數(shù)值。由于在磁控靶點火起輝后進入正常濺射時，如果陰-陽極間距過小，由于靶電源輸出的濺射電壓具有一定的軟負載特性，就有可能出現(xiàn)在濺射電流已達工藝設(shè)定值時，靶濺射電壓始終很低又調(diào)不起來的狀況?！肮に囆汀卑须娫纯梢愿纳坪蛷浹a這種狀況;而“經(jīng)濟型”靶電源對這種狀況無能為力。 1. 孿生靶(或雙磁控靶)陰-陽極間距 對稱雙極脈沖中頻靶電源和正弦波中頻靶電源帶孿生靶或雙磁控靶運行時，建議其兩交變陰-陽極的小極間距不應(yīng)小于2英2口寸; 2. 單磁控靶陰-陽極間距 靶電源帶單磁控靶運行時，一般都不存在這方面問題;但是，在小真空室?guī)чL矩形平面磁控單靶時容易忽略這個問題，磁控靶面與真空室金屬殼體內(nèi)壁的小極間距一般亦建議不小于2英2口寸。山東錳鎳酸鋰靶材
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設(shè)備兩臺，等靜壓設(shè)備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設(shè)備七臺，檢驗設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。