北京鎢鈦靶材

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-26

本實(shí)施例提供一種長壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.95mm;所述靶材表面的硬度為23hv;其中,所述靶材的比較大厚度為27mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括平面、第二平面和斜面;所述斜面與水平面的夾角為3°;所述斜面位于所述平面和第二平面之間;所述平面為圓形;所述第二平面為環(huán)形;所述靶材的材質(zhì)包括鉭;所述背板的材質(zhì)包括鋁。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。實(shí)施例7本實(shí)施例提供一種長壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.75mm;所述靶材表面的硬度為22hv;其中,所述靶材的比較大厚度為20mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面與水平面的夾角為9°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之間;所述平面為圓形;所述第二平面為環(huán)形;所述靶材的材質(zhì)包括鈦;所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。對于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。北京鎢鈦靶材

任何本領(lǐng)域技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動(dòng)與修改,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。本發(fā)明涉及靶材領(lǐng)域,具體涉及一種長壽命靶材組件。背景技術(shù):目前,現(xiàn)有的半導(dǎo)體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經(jīng)到了一個(gè)極限,為提高靶材的使用壽命,節(jié)省多次更換靶材的重復(fù)性。現(xiàn)有的技術(shù)都是通過磁場強(qiáng)度,把靶材表面設(shè)計(jì)成曲面來延長壽命,公開了一種靶材,包括靶材本體及基體,所述基體的至少一面設(shè)有所述靶材本體,所述靶材本體是由高純度靶材合金粉末通過等離子弧噴涂機(jī)噴涂熔焊在所述基體上。所述基體與所述靶材本體的結(jié)合面為呈內(nèi)凹的圓弧面。所述基體為矩形體或圓形。所述靶材的制造方法步驟如下:(1)準(zhǔn)備合金粉體;(2)準(zhǔn)備基體;(3)等離子轉(zhuǎn)移弧噴涂成型;(4)、清理被噴涂層表面,按照步驟(3)的要求再次噴涂處理,直至獲得要求厚度的靶材。本發(fā)明有益效果在于:一是生產(chǎn)的靶材無氣孔殘留;二是生產(chǎn)設(shè)備簡單、投資?。蝗前胁目梢孕迯?fù)再利用。


鎮(zhèn)江氧化鎂靶材定制如果反應(yīng)氣體量增加過度,化合物覆蓋面積增加。

真空鍍膜機(jī)分類真空鍍膜機(jī)在近二十年內(nèi)發(fā)展迅速,其涉足的行業(yè)包括:塑料、五金、建筑、模具、裝飾、陶瓷、汽車等行業(yè),而真空鍍膜設(shè)備根據(jù)各大個(gè)行業(yè)的功能需求,發(fā)展為蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)、多弧離子真空鍍膜機(jī)、磁控濺射真空鍍膜機(jī)。其中蒸發(fā)機(jī)主要應(yīng)用于塑料、五金等行業(yè)。表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的設(shè)備,所鍍膜層特點(diǎn):牢固且細(xì)密,是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備,其大的優(yōu)點(diǎn)是它的環(huán)保性,真空鍍膜設(shè)備屬于無三廢、無污染的清潔生產(chǎn)設(shè)備,無須環(huán)保部門審批。多弧離子真空鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于表面涂裝PVD膜層,是目前世界上先進(jìn)涂裝PVD膜層設(shè)備,真空所自主研發(fā)生產(chǎn)的多弧離子真空鍍膜設(shè)備運(yùn)用PLC及觸摸屏實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化邏輯程序控制操作,設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達(dá)到人機(jī)對話,簡便。

磁控靶濺射沉積率的影響因素 濺射沉積率是表征成膜速度的參數(shù),其沉積率高低除了與工作氣體的種類與壓力、靶材種類與“濺射刻蝕區(qū)“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場強(qiáng)度、靶源與基片的間距等影響因素外,還受靶面的功率密度,亦即靶電源輸出的“濺射電壓與電流”兩個(gè)重要因素的直接影響。 1、濺射電壓與沉積率   在影響濺射系數(shù)的諸因數(shù)中,當(dāng)靶材、濺射氣體等業(yè)已選定之后,比較起作用的就是磁控靶的放電電壓。一般來說,在磁控濺射正常工藝范圍內(nèi),放電電壓越高,磁控靶的濺射系數(shù)就越大。 2、濺射電流與沉積率 磁控靶的濺射電流與靶面離子流成正比,因此對沉積率的影響比電壓要大得多。增加濺射電流的辦法有兩個(gè):一個(gè)是提高工作電壓;另一個(gè)是適當(dāng)提高工作氣體壓力。 3、濺射功率與沉積率   一般來說,磁控靶的濺射功率增高時(shí),薄膜的沉積率速率也會(huì)變大;這里有一個(gè)先決條件,就是:加在磁控靶的濺射電壓足夠高,使工作氣體離子在陰-陽極間電場中獲得的能量,足以大過靶材的“濺射能量閥值”。


靶材密度越高,薄膜的性能越好。

中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射與直流反應(yīng)磁控濺射相比具有以下幾個(gè)顯巨優(yōu)點(diǎn):   (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象,中頻反應(yīng)磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應(yīng)磁控濺射鍍制的同種膜相比,膜面缺 陷要少幾個(gè)數(shù)量級;   (2)可以得到比直流反應(yīng)磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率;   (3)中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射的整個(gè)濺射沉積過程,可以始終穩(wěn)定在所設(shè)定的工作點(diǎn)上,為大規(guī)模工業(yè)化穩(wěn)定生產(chǎn)提供了條件。   選用非對稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同,使用單個(gè)磁控靶進(jìn)行反應(yīng)磁控濺射,調(diào)節(jié)相應(yīng)的鍍膜工藝參數(shù),可以消除磁控靶面打弧放電現(xiàn)象和實(shí)現(xiàn)長時(shí)間穩(wěn)定的薄膜沉積,可以達(dá)到上述“中頻-雙靶反應(yīng)磁控濺射”的同樣效果。



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LLZO靶材和LLZTO靶材,是一種新型陶瓷復(fù)合靶材。北京鎢鈦靶材

其他服務(wù):打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工服務(wù)。回收流程如下:稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品江陰典譽(yù)新材料科技有限公司,是專業(yè)從事鍍膜材料、合金制備等相關(guān)材料研發(fā)、銷售、服務(wù)為一體的全球化高科技綜合性公司。以業(yè)內(nèi) 企業(yè)為支撐,整合技術(shù)資源,擁有自主進(jìn)出口經(jīng)營權(quán)和成熟的運(yùn)營管理團(tuán)隊(duì),科學(xué)化管理運(yùn)營,為公司向化、高新化發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。典譽(yù)新材料在光電器件、芯片半導(dǎo)體、太陽能電池、光學(xué)鍍膜、航空航天、 、冶金、功能材料、新能源等行業(yè)產(chǎn)品開發(fā)、創(chuàng)新方面,有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢。以客戶需求為導(dǎo)向,以前沿技術(shù)為基礎(chǔ),開發(fā)了多個(gè)產(chǎn)品系列,涵蓋濺射靶材、蒸鍍膜料、高純合金、金屬粉末、耗材配件等千余種產(chǎn)品,質(zhì)量穩(wěn)定、工藝完善,得到廣大客戶好評。典譽(yù)新材料堅(jiān)持“誠信為本、高質(zhì)的經(jīng)營理念,關(guān)注客戶需求,追求客戶滿意,以服務(wù)求生存,以質(zhì)量求發(fā)展,不斷優(yōu)化產(chǎn)品線,為廣大用戶提供一站式服務(wù),力爭做全球 的金屬材料供應(yīng)商。北京鎢鈦靶材

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結(jié)爐一臺,真空熔煉設(shè)備兩臺,等靜壓設(shè)備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺,檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。

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