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ITO薄膜制作過(guò)程中的影響因素    ITO薄膜在濺鍍過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生不同的特性，有時(shí)候表面光潔度比較低，出現(xiàn)“麻點(diǎn)”的現(xiàn)象，有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)高蝕間隔帶，在蝕刻時(shí)還會(huì)出現(xiàn)直線放射型缺劃或電阻偏高帶，有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)微晶溝縫。         常用的ITO靶材是通過(guò)燒結(jié)法生產(chǎn)的，就是由氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）粉末按照一定的比例進(jìn)行混合，通常質(zhì)量比是90%In2O3和10% SnO2，形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體（氧化銦錫，ITO）。一般通過(guò)外觀就可以了解ITO靶材的質(zhì)量，深灰色是好的，相反越黑質(zhì)量越差，我國(guó)生產(chǎn)的ITO靶材質(zhì)量還可以的是黑灰色的。         研究顯示，在真空鍍膜機(jī)ITO薄膜濺鍍過(guò)程中，使用磁控濺射的方式，基底溫度控制在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見(jiàn)光透過(guò)率下，電阻率達(dá)到低，而薄膜的結(jié)晶度也隨著基底溫度的提高而提高，晶粒尺寸也逐漸增大，超過(guò)200℃后透射率趨于減弱；使用電子束蒸鍍的方式，隨著退火溫度升高，晶粒尺寸變大，表面形貌均一穩(wěn)定，超過(guò)600℃后顆粒變得大小不一，形狀各異，小顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重，薄膜表面形貌破壞。采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。蘇州NiCrCu靶材費(fèi)用

靶材600呈長(zhǎng)方體狀，其頂部表面為靶材濺射面610，底部表面為靶材焊接面620，所述靶材焊接面620貼合于背板表面上，所述靶材600通過(guò)所述靶材焊接面620與背板焊接固定。所述靶材600具有四個(gè)側(cè)壁表面630。靶材600具有十二條側(cè)棱601，各條側(cè)棱601均經(jīng)過(guò)圓角處理。在圓角處理前，所述靶材600的側(cè)棱601位置較為銳利。如果使用側(cè)棱未經(jīng)圓角處理的靶材600進(jìn)行濺射鍍膜，在濺射鍍膜工藝過(guò)程中，所述靶材600的側(cè)棱601位置容易發(fā)生前列放電的現(xiàn)象，導(dǎo)致鍍膜的均勻性差，影響鍍膜質(zhì)量。圓角處理使得靶材側(cè)棱601鈍化，有助于防止前列放電現(xiàn)象的發(fā)生。鎮(zhèn)江B靶材貼合靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來(lái)。

直流磁控濺射制備鋅-銻熱電薄膜的技術(shù)探討 熱電材料是一種能夠?qū)崿F(xiàn)熱能和電能直接相互轉(zhuǎn)換的綠色環(huán)保型功能材料。近年來(lái)研究發(fā)現(xiàn)，熱電薄膜化有助于熱電材料減低熱導(dǎo)率，從而能夠有效的提高材料的熱電轉(zhuǎn)換效率，因此具有十分重要的科學(xué)研究?jī)r(jià)值。Zn-Sb合金是采用的P 型熱電半導(dǎo)體材料之一，但由于其較低的熱電優(yōu)值，所以沒(méi)有得到普遍的應(yīng)用。   但近幾年研究發(fā)現(xiàn)，在263 K~767K 溫度區(qū)間穩(wěn)定存在的β-Zn4Sb3 具有非常優(yōu)異的熱電性能，材料少含稀土材料以及可適用于中溫，被國(guó)內(nèi)外認(rèn)為是具有前景的中溫?zé)犭姴牧现?。因此，本文選取純度為99.99%的Zn 和Sb 金屬靶作為靶材，采用直流磁控共濺射技術(shù)，制備Zn-Sb 合金熱電薄膜，研究不同熱處理?xiàng)l件下合成的Zn-Sb 化合物熱電薄膜的結(jié)構(gòu)與熱電特性變化規(guī)律。   結(jié)果表明，選取適當(dāng)?shù)臑R射Zn和Sb的功率條件，濺射完成合金薄膜后在Ar 氣氛下進(jìn)行623 K 退火熱處理，可形成具有單一β-Zn4Sb3相結(jié)構(gòu)的Zn-Sb 熱電薄膜，且薄膜顆粒大，較致密，所制備的熱電薄膜具有優(yōu)良的熱電性能。

釬焊：一般使用軟釬料的情況下，要求濺射功率小于20W/cm2，釬料常用In、Sn、In-Sn；導(dǎo)電膠：采用的導(dǎo)電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。二.綁定的適用范圍：建議綁定的靶材：ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材；錫、銦等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴的情況等。但下列情況綁定有弊端：1.熔點(diǎn)低的靶材，像銦、硒等，金屬化的時(shí)候可能會(huì)變軟變形；2.貴金屬靶材，一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧，二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料，建議墊一片銅片。三.背靶的選擇對(duì)材質(zhì)的要求：一般選用無(wú)氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右；導(dǎo)電性好：常用無(wú)氧銅，無(wú)氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好；強(qiáng)度足夠：太薄，易變形，不易真空密封；結(jié)構(gòu)要求：空心或者實(shí)心結(jié)構(gòu)；厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強(qiáng)；太薄，容易變形。壓靶蓋旋的過(guò)緊，沒(méi)有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x，調(diào)整距離即可。

拋光片第二部分320呈弧狀，與經(jīng)圓角處理的靶材側(cè)棱相匹配，可對(duì)靶材側(cè)棱進(jìn)行拋光。所述拋光片第三部分330表面為平整的平面，能夠?qū)Π胁膫?cè)壁表面進(jìn)行拋光。因此所述靶材拋光裝置100能夠同時(shí)對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，有助于提高拋光作業(yè)效率。由于操作人員同時(shí)對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，因此操作人員施加在靶材側(cè)壁表面及側(cè)棱上的力度差異小，拋光工藝結(jié)束后，靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面具有相近似甚至完全相同的平整度，使得拋光表面具有良好的均一性，有助于改善濺射鍍膜質(zhì)量。若分步驟對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面進(jìn)行拋光，操作人員在兩個(gè)步驟中施加的力度容易差別較大，造成拋光處理后，靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面粗糙度差異大，使得靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面交接處具有臺(tái)階。在濺射鍍膜過(guò)程中，所述臺(tái)階容易導(dǎo)致前列放電，影響濺射鍍膜的均一性，造成鍍膜質(zhì)量差。在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高空間的導(dǎo)通能力，降低等離子體阻抗，導(dǎo)致濺射電壓降低。上海氮化鈦靶材綁定

濺射過(guò)程不影響靶材合金、混合材質(zhì)的比例和性質(zhì)。蘇州NiCrCu靶材費(fèi)用

陰-陽(yáng)極間距對(duì)靶濺射電壓的影響   真空氣體放電陰-陽(yáng)極間距能夠?qū)Π袨R射電壓造成一定的影響。在陰-陽(yáng)極間距偏大時(shí)，等效氣體放電的內(nèi)阻主要由等離子體等效內(nèi)阻決定，反之，在陰-陽(yáng)極間距偏小時(shí)，將會(huì)導(dǎo)致等離子體放電的內(nèi)阻呈現(xiàn)較小數(shù)值。由于在磁控靶點(diǎn)火起輝后進(jìn)入正常濺射時(shí)，如果陰-陽(yáng)極間距過(guò)小，由于靶電源輸出的濺射電壓具有一定的軟負(fù)載特性，就有可能出現(xiàn)在濺射電流已達(dá)工藝設(shè)定值時(shí)，靶濺射電壓始終很低又調(diào)不起來(lái)的狀況?！肮に囆汀卑须娫纯梢愿纳坪蛷浹a(bǔ)這種狀況;而“經(jīng)濟(jì)型”靶電源對(duì)這種狀況無(wú)能為力。   1. 孿生靶(或雙磁控靶)陰-陽(yáng)極間距   對(duì)稱雙極脈沖中頻靶電源和正弦波中頻靶電源帶孿生靶或雙磁控靶運(yùn)行時(shí)，建議其兩交變陰-陽(yáng)極的小極間距不應(yīng)小于2英2口寸;   2. 單磁控靶陰-陽(yáng)極間距   靶電源帶單磁控靶運(yùn)行時(shí)，一般都不存在這方面問(wèn)題;但是，在小真空室?guī)чL(zhǎng)矩形平面磁控單靶時(shí)容易忽略這個(gè)問(wèn)題，磁控靶面與真空室金屬殼體內(nèi)壁的小極間距一般亦建議不小于2英2口寸。蘇州NiCrCu靶材費(fèi)用

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù)，并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì)，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂?jī)商?，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。