所述靶材的比較大厚度為24mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁；所述背板的材質(zhì)包括銅。
所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。
實(shí)施例5
本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.82mm；所述靶材表面的硬度為21hv；
其中，所述靶材的比較大厚度為23mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為1°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁；所述背板的材質(zhì)包括銅和鋁。
所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。 純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。常州鉛靶材圖片
PECVD 制備氫化非晶硅薄膜 本實(shí)驗(yàn)采用單晶硅片為襯底，按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干，然后置于PECVD系統(tǒng)中。樣品制備條件為襯底溫度250℃，工作氣壓120 Pa， 射頻功率100 W， 氣體流量SiH4/H2=15/5 sccm， 沉積時(shí)間30min， 制備得到a- Si：H 薄膜樣品。 (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨著濺射功率的增大而增大，膜的均勻性將會(huì)變差; (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度隨著襯底加熱溫度的增大而減小，非晶硅薄膜均勻性變好; (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范圍內(nèi)，隨著氬氣氣壓的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微變大; (4) 隨著濺射時(shí)間的增加, 膜的厚度成非線性增加，沉積速率開始較快，之后逐漸減慢，膜的表面粗糙度逐漸變大; (5)隨著濺射氣壓的增大，沉積速率有所降低。杭州鍍膜靶材廠家陽極消失：靶中毒時(shí)，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達(dá)陽極的電子無法進(jìn)入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。
靶材的比較大厚度為30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為8°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鈦；所述背板的材質(zhì)包括銅。
所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。
本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.8mm；所述靶材表面的硬度為22hv；
其中，所述靶材的比較大厚度為28mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鉭；所述背板的材質(zhì)包括銅。
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種靶材拋光裝置。
背景技術(shù)：
濺射鍍膜屬于物相沉積方法制備薄膜的工藝之一，具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出，并沉積在基材或工件表面，從而形成薄膜。
由于背板具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能，且還可以起到固定支撐作用，因此，靶材在鍍膜前需與背板焊接在一起，然后共同裝配至濺射基臺(tái)。
一般活性金屬靶材，例如鋁靶材，由于長(zhǎng)期暴露在空氣中，靶材表面材料容易氧化形成一層氧化皮。在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞該氧化皮，導(dǎo)致靶材原子或分子難以逸出，因此在將靶材安裝至濺射基臺(tái)之前，需要對(duì)靶材表面進(jìn)行拋光。此外，對(duì)于活性金屬靶材及非活性金屬靶材，拋光操作有利于改善靶材的濺射速率的穩(wěn)定性，有助于提高濺射鍍膜質(zhì)量。
目前業(yè)內(nèi)通常采用人工手動(dòng)對(duì)靶材表面進(jìn)行拋光，即操作人員手持砂紙對(duì)靶材的各個(gè)表面進(jìn)行拋光，作業(yè)效率低。 采用中頻電源或射頻電源。
磁控濺射鍍膜生產(chǎn)ZnO∶Al（AZO）薄膜的工藝探討 目前主要的薄膜太陽能電池有：碲化鎘（CdTe）系薄膜太陽能電池、硒銦銅（CIS）系薄膜太陽能電池、非晶硅系薄膜太陽能電池、晶硅系薄膜太陽能電池。研究人員研制出了價(jià)格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶Al陷光結(jié)構(gòu)來作為薄膜太陽能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結(jié)構(gòu)的AZO透明導(dǎo)電薄膜可以增強(qiáng)太陽光的散射作用，改善陷光效果，增加電池對(duì)太陽能的吸收量，提高薄膜太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導(dǎo)電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優(yōu)點(diǎn)，是較為合適的生產(chǎn)AZO薄膜的工藝方法。 目前由磁控濺射工藝生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜AZO時(shí)所用靶材有兩種類型：①陶瓷AZO靶材；②合金鋅鋁靶材。應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況，選擇適合本企業(yè)的靶材產(chǎn)品。 作為一種新的TCO材料，AZO相對(duì)于ITO和FTO有很大優(yōu)勢(shì)，要大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化還必須在如何降低設(shè)備及工藝成本上進(jìn)一步研發(fā)。從根本上說，AZO薄膜的結(jié)構(gòu)性能的好壞決定了其光電性能的優(yōu)劣，必須在工藝參數(shù)上多做研究，實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量和低成本的雙贏。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。杭州鍍膜靶材廠家
靶面金屬化合物的形成。常州鉛靶材圖片
本實(shí)施例中，所述防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中，所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。
本實(shí)施例中，所述防護(hù)層400與所述固定板200間通過粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中，所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)(圖中未示出)，所述防護(hù)層與所述拋光片間通過所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。
所述防護(hù)層400包括防護(hù)層和第二防護(hù)層，所述防護(hù)層覆蓋所述頂板210底部表面；所述第二防護(hù)層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護(hù)層表面與第二防護(hù)層表面相垂直。 常州鉛靶材圖片
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì)，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂?jī)商?，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。