什么是負(fù)離子,沃壹小編給大家分析一下
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【負(fù)離子科普二】自然界中的負(fù)離子從哪里來的?
多地呼吸道ganran高發(fā),門診爆滿,秋冬呼吸道疾病高發(fā)期的易踩誤區(qū)
負(fù)離子發(fā)生器的原理是什么呢?
負(fù)離子到底是什么,一般涉及到的行業(yè)、產(chǎn)品有哪些?
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關(guān)于負(fù)離子的常見十問
運(yùn)動,需要選對時間和地點(diǎn)
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濺射靶材的制備
濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類,除嚴(yán)格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外,對熱處理?xiàng)l件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴(yán)格控制。
一、粉末冶金法
粉末冶金法制備靶材時,其關(guān)鍵在于:(1)選擇高純、超細(xì)粉末作為原料;(2)選擇能實(shí)現(xiàn)快速致密化的成形燒結(jié)技術(shù),以保證靶材的低孔隙率,并控制晶粒度;(3)制備過程嚴(yán)格控制雜質(zhì)元素的引入。
二、熔融鑄造法
熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質(zhì)元素含量盡可能低,通常其冶煉和澆注在真空或保護(hù)性氣氛下進(jìn)行。但鑄造過程中,材料組織內(nèi)部難免存在一定的孔隙率,這些孔隙會導(dǎo)致濺射過程中的微粒飛濺,從而影響濺射薄膜的質(zhì)量。為此,需要后續(xù)熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。 通常是放熱反應(yīng),反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑,否則,該化學(xué)反應(yīng)無法繼續(xù)進(jìn)行。二氧化鉿靶功能
陽光控制鍍膜玻璃的優(yōu)點(diǎn) 陽光控制鍍膜玻璃主要就是為了遮光隔熱,根據(jù)它的物理特性也叫做熱反射鍍膜玻璃,在普通的透明玻璃上通過磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍上一層或多層薄膜,在這里我們簡稱反射玻璃。 反射玻璃相對于普通透明玻璃而言,在太陽能的反射性能上,反射玻璃一次的反射比普通玻璃高出4.3倍,第二次的反射高出3.1倍,總的反射就高出3.6倍了;在遮蔽系數(shù)上,反射玻璃比普通玻璃減少0.18,系數(shù)越少,遮光效果就會越好的,減少太陽輻射和熱能的透射;在可見光的反射和透射上,反射玻璃比普通玻璃反射增加了20%~38%,透射減少了55%~70%,具有良好的遮光性能;在傳熱系數(shù)上,反射玻璃比普通玻璃降低了0.4W(m2.K),具有良好的隔熱性能。 利用其良好的遮光和隔熱性能,可以大降低在室內(nèi)制冷和保暖的花費(fèi),是一種非常好的節(jié)能產(chǎn)品,而且可以通過不同的金屬或金屬化合物為靶材,鍍制出不同顏色的反射膜,常見的顏色有茶色、灰色、金黃色、古銅色、褐色、珊瑚黃色,通過不同的配搭,達(dá)到裝飾的效果,即美觀又節(jié)能。常州氧化銦靶品牌由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子。
真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技巧 1、真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。 方法:用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁,( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液,以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)后膜層脫落,并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。 2、當(dāng)粗抽泵(滑閥泵,旋片泵)連續(xù)工作一個月(雨季減半),需更換新油。 方法:擰開放油螺栓,放掉舊油,再將泵啟動數(shù)秒,使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓,加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續(xù)使用半年以上,換油時應(yīng)將油蓋打開,用布擦干凈箱內(nèi)污垢。 3、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個月以上,抽速明顯變慢。 擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個月以上,抽速明顯變慢,或操作失當(dāng),充入大氣,拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴(kuò)散泵油,并裝回機(jī)體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機(jī)。在重新開機(jī)前,要注意檢漏工作。
6. 起輝濺射真空度與前次的差別?
---------更換不同的靶材,起輝壓強(qiáng)不盡相同。
換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的,只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。 五.磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎?磁控濺射過程中,等離子體的離子撞擊靶材,濺射出靶材的原子、原子團(tuán)、離子、電子、光子等,原子、離子、原子團(tuán)沉積到基材上形成薄膜。
濺射發(fā)生在靶材表面,靶材表面物理狀態(tài)不均勻也沒有關(guān)系,濺射的時候會先濺射凸起,濺射時間長了,靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態(tài)不需要拋光。 對于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。
目前市場上常見的合金靶材有哪些? 鈦鋁靶材,TiAl靶材,鈦硅靶材,TiSi靶材,鈦鎢靶材,TiW靶材,鎢鈦靶材WTi靶材,鈦鋁硅靶材,TiAlSi靶材,鉻鋁靶材,CrAl靶材,鉻硅靶材,CrSi靶材,硅鋁靶材,SiAl靶材,鋅錫靶材,ZnSn靶材,鋅鋁靶材,ZnAl靶材,鋁銅靶材,AlCu靶材,鎳鉻靶材,NiCr靶材,鎳釩靶材,NiV靶材,鎳鐵靶材,NiFe靶材,鎳銅靶材,NiCu靶材,鐵鈷靶材,FeCo靶材,鈦鈮靶材,TiNb靶材,鈦鋯靶材,TiZr靶材,銦錫靶材,InSn靶材,銅鋯靶材,CuZr靶材,鎂鋅鈣靶材,MgZnCa靶材,鎳鉻銅靶材,NiCrCu靶材,鉬鈮靶材,MoNb靶材,鋁釹靶材,AlNd靶材,鋁鈧靶材,AlSc靶材,銀鋁靶材,AgAl靶材, 鉻鋁硅靶材,CrAlSi靶材,鏑鋁靶材,DyAl靶材,鈮鋯靶材,NbZr靶材等等。影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中毒。武漢硅靶價錢
純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因?yàn)榘胁牡募兌葘Ρ∧さ男阅苡绊懞艽?。二氧化鉿靶功能
PVD技術(shù)簡介PVD技術(shù)是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比,PVD有很多優(yōu)點(diǎn):如對環(huán)境無污染,是綠色環(huán)保工藝;對操作者無傷害;膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng),膜厚均勻。PVD技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有:蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)),這些方法統(tǒng)稱物相沉積(PhysicalVaporDeposition),簡稱為PVD。行業(yè)內(nèi)通常所說的“IP”(ionplating)離子鍍膜,是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用,為了強(qiáng)調(diào)離子的作用,而統(tǒng)稱為離子鍍膜。二氧化鉿靶功能
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結(jié)爐一臺,真空熔煉設(shè)備兩臺,等靜壓設(shè)備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺,檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。