常州CuCrNi靶材圖片

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-09-06

靶中毒現(xiàn)象:

正離子堆積:靶中毒時(shí),靶面形成一層絕緣膜,正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋,不能直接進(jìn)入陰極靶面,而是堆積在靶面上,容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧,使陰極濺射無(wú)法進(jìn)行下去。(2)陽(yáng)極消失:靶中毒時(shí),接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜,到達(dá)陽(yáng)極的電子無(wú)法進(jìn)入陽(yáng)極,形成陽(yáng)極消失現(xiàn)象。

靶中毒的物理解釋:

一般情況下,金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高,靶中毒后,靶材表面都是金屬化合物,在受到離子轟擊之后,釋放的二次電子數(shù)量增加,提高了空間的導(dǎo)通能力,降低了等離子體阻抗,導(dǎo)致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間,當(dāng)發(fā)生靶中毒時(shí),濺射電壓會(huì)明顯降低。

金屬靶材與化合物靶材本來(lái)濺射速率就不一樣,一般情況下金屬的濺射系數(shù)要比化合物的濺射系數(shù)高,所以靶中毒后濺射速率低。(3)反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來(lái)就比惰性氣體的濺射效率低,所以反應(yīng)氣體比例增加后,綜合濺射速率降低。 熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。常州CuCrNi靶材圖片

什么是DLC薄膜? 類金剛石薄膜通常又被人們稱為DLC薄膜,是英文詞匯Diamond Like Carbon的簡(jiǎn)稱,它是一類性質(zhì)近似于金剛石,具有高硬度,高電阻率。良好光學(xué)性能等,同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結(jié)合方式,從而使其終產(chǎn)生不同的物質(zhì):金剛石(diamond)—碳碳以 sp3鍵的形式結(jié)合;石墨(graphite)—碳碳以sp2鍵的形式結(jié)合。 而類金剛石(DLC)—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合,生成的無(wú)定形碳的一種亞穩(wěn)定形態(tài),它沒(méi)有嚴(yán)格的定義,可以包括很寬性質(zhì)范圍的非晶碳,因此兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性;所以由類金剛石而來(lái)的DLC膜同樣是一種亞穩(wěn)態(tài)長(zhǎng)程無(wú)序的非晶材料,碳原子間的鍵合方式是共價(jià)鍵,主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵,而在含氫的DLC膜中還存在一定數(shù)量的C-H鍵。鈷靶材圖片為確保足夠的導(dǎo)熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。

作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案,所述靶材的比較大厚度為28-30mm,例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等,但不限于所列舉的數(shù)值,該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案,所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板。

作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案,所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)。

作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案,所述靶材包括用于濺射的濺射面。

推薦地,所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面。

作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案,所述斜面與水平面的夾角≤10°,例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等,但不限于所列舉的數(shù)值,該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案,所述斜面位于所述***平面和第二平面之間。

推薦地,所述平面為圓形。

推薦地,所述第二平面為環(huán)形。

陰-陽(yáng)極間距對(duì)靶濺射電壓的影響   真空氣體放電陰-陽(yáng)極間距能夠?qū)Π袨R射電壓造成一定的影響。在陰-陽(yáng)極間距偏大時(shí),等效氣體放電的內(nèi)阻主要由等離子體等效內(nèi)阻決定,反之,在陰-陽(yáng)極間距偏小時(shí),將會(huì)導(dǎo)致等離子體放電的內(nèi)阻呈現(xiàn)較小數(shù)值。由于在磁控靶點(diǎn)火起輝后進(jìn)入正常濺射時(shí),如果陰-陽(yáng)極間距過(guò)小,由于靶電源輸出的濺射電壓具有一定的軟負(fù)載特性,就有可能出現(xiàn)在濺射電流已達(dá)工藝設(shè)定值時(shí),靶濺射電壓始終很低又調(diào)不起來(lái)的狀況?!肮に囆汀卑须娫纯梢愿纳坪蛷浹a(bǔ)這種狀況;而“經(jīng)濟(jì)型”靶電源對(duì)這種狀況無(wú)能為力。   1. 孿生靶(或雙磁控靶)陰-陽(yáng)極間距   對(duì)稱雙極脈沖中頻靶電源和正弦波中頻靶電源帶孿生靶或雙磁控靶運(yùn)行時(shí),建議其兩交變陰-陽(yáng)極的小極間距不應(yīng)小于2英2口寸;   2. 單磁控靶陰-陽(yáng)極間距   靶電源帶單磁控靶運(yùn)行時(shí),一般都不存在這方面問(wèn)題;但是,在小真空室?guī)чL(zhǎng)矩形平面磁控單靶時(shí)容易忽略這個(gè)問(wèn)題,磁控靶面與真空室金屬殼體內(nèi)壁的小極間距一般亦建議不小于2英2口寸。如果反應(yīng)氣體量增加過(guò)度,化合物覆蓋面積增加。

 靶中毒的解決辦法(1)采用中頻電源或射頻電源。(2)采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。(3)采用孿生靶(4)控制鍍膜模式的變換:在鍍膜前,采集靶中毒的遲滯效應(yīng)曲線,使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿,確保工藝過(guò)程始終處于沉積速率陡降前的模式。磁控濺射不起輝的常見(jiàn)原因有哪些,怎么應(yīng)對(duì)?磁控濺射金屬靶時(shí),無(wú)法起輝的原因有很多,常見(jiàn)主要原因有:1.靶材安裝準(zhǔn)確否?2.靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì),打磨清理干凈后即可。3.起輝電源是否正常------------檢查靶電源。4.靶與地線之間短路----------關(guān)掉機(jī)器,把設(shè)備的濺射靶卸下來(lái),靶附近的零件仔細(xì)清洗一下;----------壓靶蓋旋的過(guò)緊,沒(méi)有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x,調(diào)整距離即可。5.永磁靶表面場(chǎng)強(qiáng)是否下降太多?---------如果下降太多,需要更換磁鋼。6.起輝濺射真空度與前次的差別?---------更換不同的靶材,起輝壓強(qiáng)不盡相同。換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的,只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。 濺射過(guò)程不影響靶材合金、混合材質(zhì)的比例和性質(zhì)。鎮(zhèn)江AlCu靶材工廠

因?yàn)橛锰幉灰粯?,所以不同用途的靶材?duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。常州CuCrNi靶材圖片

玫瑰金靶材有哪些? PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的,不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別,大概分為以下幾種: 1、皇冠金(crown gold),黃金含量在22K(91.667%),由英國(guó)亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見(jiàn)的也是典型的18K玫瑰金,黃金含量也在18K(75%),但其它另含有約4%的銀和21%的銅,呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金,黃金含量在14K(58.33%),其它添加金屬為銅(41.67%)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素,用來(lái)達(dá)到不同的色調(diào)或用來(lái)改變鍍層的性能,這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因之一。常州CuCrNi靶材圖片

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。

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