常州鎢鈦靶

有些陰極設(shè)計(jì)是與陽(yáng)極的空隙較小，所以在安裝靶材時(shí)需要確保陰極與陽(yáng)極之間沒有接觸也不能存在導(dǎo)體，否則會(huì)產(chǎn)生短路。

請(qǐng)參考設(shè)備商操作手冊(cè)中關(guān)于如何正確安裝靶材的相關(guān)信息。在收緊靶材夾具時(shí)，請(qǐng)先用手轉(zhuǎn)緊一顆鏍栓，再用手轉(zhuǎn)緊對(duì)角線上的另外一顆鏍栓，如此重復(fù)直到安裝上所有鏍栓后，再用工具收緊。七．濺射靶材的制備方法有哪些？濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽(yáng)能電池等眾多領(lǐng)域，不同領(lǐng)域需要的靶材各不相同。 降低了等離子體阻抗，導(dǎo)致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。常州鎢鈦靶

2、鈀 靶材 99.99%?  常規(guī)尺寸：φ50*1mm；φ60*3mm；φ76.2*4mm等，尺寸可定做 3、電鏡鈀片常規(guī)尺寸：φ57*0.1mm；φ57*0.2mm；φ58*0.1mm；φ58*0.2mm 4、鈀 箔片 99.99% 常規(guī)尺寸：100*100*0.2mm等，尺寸可定做 二、其他服務(wù)： 打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工服務(wù)。 回收流程如下： 稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品 供應(yīng)高純靶,鈀靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材 產(chǎn)品編碼 產(chǎn)品名稱 規(guī)格 應(yīng)用 Au-G5034 金 顆粒 99.999% φ3*4mm 熱蒸發(fā)、電子束鍍膜 Pt-G4028 鉑 顆粒 99.99% φ2*8mm 熱蒸發(fā)、電子束鍍膜 Ag-G4025 銀 顆粒 99.99% φ2*5mm 熱蒸發(fā)、電子束鍍膜 Pd-G3536 鈀 顆粒 99.95% φ3*6mm 熱蒸發(fā)、電子束鍍膜 Al-G5033 鋁 顆粒 99.999% φ3*3mm 熱蒸發(fā)、電子束鍍膜 Cr-G3501 鉻 顆粒 99.95% 1-3mm 熱蒸發(fā)、電子束鍍膜 Ti-G4533 鈦 顆粒 99.995% φ3*3mm 熱蒸發(fā)、電子束鍍膜 Ni-G4533 鎳 顆粒 99.995% φ3*3mm 熱蒸發(fā)、電子束鍍膜 S-G5002 硫 顆粒 99.999% 1-6mm 熱蒸發(fā)、武漢三氧化二鐵靶功能如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。

影響磁控靶濺射電壓的主要因素有：靶面磁場(chǎng)、靶材材質(zhì)、氣體壓強(qiáng)、陰-陽(yáng)極間距等。本文詳細(xì)分析這些因素距對(duì)靶濺射電壓的影響。   一、 靶面磁場(chǎng)對(duì)靶濺射電壓的影響 1. 磁控靶的陰極工作電壓，隨著靶面磁場(chǎng)的增加而降低，也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而降低。濺射電流也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而加大。這是因?yàn)榘械臑R射刻蝕槽面會(huì)越來越接近靶材后面的磁鋼的強(qiáng)磁場(chǎng)。因此，靶材的厚度是有限制的。較厚的非磁性靶材能夠在較強(qiáng)的磁場(chǎng)中使用。   2. 鐵磁性靶材會(huì)對(duì)磁控靶的濺射造成影響，由于大部分磁力線從鐵磁性材料內(nèi)部通過，使靶材表面磁場(chǎng)減少，需要很高電壓才能讓靶面點(diǎn)火起輝。除非磁場(chǎng)非常的強(qiáng)，否則磁性材靶材必須比非磁性材料要薄，才能起輝和正常運(yùn)行(永磁結(jié)構(gòu)的Ni靶的典型值<0.16cm，磁控靶非特殊設(shè)計(jì)最大值一般不宜超過3mm，F(xiàn)e，co靶的最大值不超過2mm;電磁結(jié)構(gòu)的靶可以濺射厚一些的靶材，甚至可達(dá)6mm厚)才能起輝和正常運(yùn)行。正常工作時(shí)，磁控靶靶材表面的磁場(chǎng)強(qiáng)度為0.025T~0.05T左右;靶材濺射刻蝕即將穿孔時(shí)，其靶材表面的磁場(chǎng)強(qiáng)度大為提高，接近或大于0.1T左右。

高純金屬的概念： 任何金屬都不能達(dá)到純?！案呒儭焙汀俺儭本哂邢鄬?duì)的含義，是指技術(shù)上達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)。由于技術(shù)的發(fā)展，也常使“超純”的標(biāo)準(zhǔn)升級(jí)。例如過去高純金屬的雜質(zhì)為 ppm級(jí)（即百萬分之幾）,而超純半導(dǎo)體材料的雜質(zhì)達(dá)ppb級(jí)（十億分之幾）,并將逐步發(fā)展到以ppt級(jí)（一萬億分之幾）表示。實(shí)際上純度以幾個(gè)“9”(N)來表示（如雜質(zhì)總含量為百萬分之一，即稱為6個(gè)“9”或6N），是不完整概念，如電子器件用的超純硅以金屬雜質(zhì)計(jì)算，其純度相當(dāng)于9 個(gè)“9”。 但如計(jì)入碳，則可能不到6個(gè)“9”?！俺儭钡南鄬?duì)名詞是指“雜質(zhì)”，廣義的雜質(zhì)是指化學(xué)雜質(zhì)（元素）及“物理雜質(zhì)”，后者是指位錯(cuò)及空位等，而化學(xué)雜質(zhì)是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。但只當(dāng)金屬純度達(dá)到很高的標(biāo)準(zhǔn)時(shí)(如純度 9N 以上的金屬)，物理雜質(zhì)的概念才是有意義的， 因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學(xué)雜質(zhì)的含量作為標(biāo)準(zhǔn)，即以金屬中雜質(zhì)總含量為百萬分之幾表示。濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘?duì)濺射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。

是晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。 為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。常州鎢鈦靶

比如鋁靶材等活性金屬靶材，長(zhǎng)期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮。常州鎢鈦靶

塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣，使體積脹大，變脆乃至破裂成碎片?；瘜W(xué)性質(zhì)不活潑，常溫下在空氣和潮濕環(huán)境中穩(wěn)定，加熱至 800℃，鈀表面形成一氧化鈀薄膜。 二、主要產(chǎn)品： 1、鈀 顆粒 99.99% 常規(guī)尺寸：φ3*6mm；量大可定做 2、鈀 靶材 99.99%?  常規(guī)尺寸：φ50*1mm；φ60*3mm；φ76.2*4mm等，尺寸可定做 3、電鏡鈀片常規(guī)尺寸：φ57*0.1mm *0.2mm 4、鈀 箔片 99.9 2mm等，尺寸可定做 二、其他 ： 打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工 。 回收流程如下： 稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品 高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材 產(chǎn)品編碼 產(chǎn)品名稱 規(guī)格 應(yīng)用 Sc-I4006 鈧 x 真空熔煉 Li-G30610 鋰 顆粒 99.9% φ6*10mm 真空熔煉 Sr-I2011 鍶 塊狀 99% 氮?dú)獍b 真空熔煉 Mg-G3514 鎂 顆粒 99.93% 4mm類球形 真空熔煉 Mg-I3503 鎂 塊狀 99.95%  200g/塊 真空熔煉 Fe-G3533 鐵 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Cr-G3501 mm 真空熔煉 Al-G4066 鋁 顆粒 99.99% φ6*6mm 真空熔煉 Cu-G5033 銅 顆粒 99.999% φ3*3mm 真空熔煉 Cu-G3533 銅 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Ti-G3033 鈦 顆粒 99.9% φ3*3mm 真空熔煉 Ni-G3025 鎳 顆粒 99.9% φ2*5mm 真空熔煉 V-G3015 釩 顆粒 99.9% 樹枝狀常州鎢鈦靶

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì)，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂?jī)商?，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。