靶材拋光裝置100還包括:防護(hù)層400,所述防護(hù)層400位于所述固定板200與所述拋光片300之間。防護(hù)層400為彈性材料,能夠在所述固定板200及靶材間提供緩沖,避免所述固定板200觸撞靶材導(dǎo)致靶材受損。防護(hù)層400的厚度為30mm~35mm。若所述防護(hù)層400的厚度過小,所述防護(hù)層400起到的緩沖效果差,難以有效的保護(hù)靶材。若所述防護(hù)層400的厚度過大,使得所述防護(hù)層400的體積過大,進(jìn)而造成所述靶材拋光裝置100的體積過大,對操作者使用所述靶材拋光裝置100帶來不必要的困難。防護(hù)層400的材料。在其他實施例中,所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。防護(hù)層400與所述固定板200間通過粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過粘結(jié)劑相粘接。在其他實施例中,所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu),所述防護(hù)層與所述拋光片間通過所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。一般靶材拋光后,濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定,容易控制。合肥鋁鋅靶材價錢
陽光控制鍍膜玻璃的優(yōu)點 陽光控制鍍膜玻璃主要就是為了遮光隔熱,根據(jù)它的物理特性也叫做熱反射鍍膜玻璃,在普通的透明玻璃上通過磁控濺射真空鍍膜機鍍上一層或多層薄膜,在這里我們簡稱反射玻璃。 反射玻璃相對于普通透明玻璃而言,在太陽能的反射性能上,反射玻璃一次的反射比普通玻璃高出4.3倍,第二次的反射高出3.1倍,總的反射就高出3.6倍了;在遮蔽系數(shù)上,反射玻璃比普通玻璃減少0.18,系數(shù)越少,遮光效果就會越好的,減少太陽輻射和熱能的透射;在可見光的反射和透射上,反射玻璃比普通玻璃反射增加了20%~38%,透射減少了55%~70%,具有良好的遮光性能;在傳熱系數(shù)上,反射玻璃比普通玻璃降低了0.4W(m2.K),具有良好的隔熱性能。 利用其良好的遮光和隔熱性能,可以大降低在室內(nèi)制冷和保暖的花費,是一種非常好的節(jié)能產(chǎn)品,而且可以通過不同的金屬或金屬化合物為靶材,鍍制出不同顏色的反射膜,常見的顏色有茶色、灰色、金黃色、古銅色、褐色、珊瑚黃色,通過不同的配搭,達(dá)到裝飾的效果,即美觀又節(jié)能。合肥Sm靶材廠家選擇高純、超細(xì)粉末作為原料。
非晶硅薄膜的制備方法 非晶硅薄膜的制備方法有很多,如低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD),等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD),直流(射頻)磁控濺射等。生長多晶硅薄膜的方法有:化學(xué)氣相沉積包括低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)、大氣壓強化學(xué)氣相沉積(APCVD)、等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)以及液相生長、激光再晶化和固相晶化法(SPC)等。固相晶化法是指在(高溫)退火的條件下,使固態(tài)非晶硅薄膜的硅原子被、重組,從而轉(zhuǎn)化為多晶硅薄膜。它的特點是非晶固體發(fā)生晶化的溫度低于其熔融后結(jié)晶的溫度。常規(guī)高溫爐退火、快速熱退火、金屬誘導(dǎo)晶化、微波誘導(dǎo)晶化等都屬于固相晶化的范疇。本文采用PECVD 和磁控濺射方法在不同的條件下制備了a- Si: H 和a- Si 薄膜,并采取高溫退火和激光誘導(dǎo)晶化的方式,利用X- 射線衍射及拉曼光譜,對制備的非晶硅薄膜晶化過程進(jìn)行了系統(tǒng)地研究。
固定板200的厚度為10mm~15mm。若所述固定板200的厚度過大,使得所述固定板200的重量過大,不便于使用,影響操作的靈活性。若所述固定板200的厚度過小,導(dǎo)致所述固定板200的強度和韌性較差,影響所述靶材拋光裝置100的使用壽命。所述拋光片300表面與靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱相匹配。所述拋光片300表面具有磨砂顆粒,用于增加所述拋光片300與靶材表面間的摩擦力,以提高拋光效率。拋光片300包括拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330。所述拋光片部分310設(shè)置于所述頂板210的底部。所述拋光片第二部分320設(shè)置于所述頂板210與所述側(cè)板220的拐角處,且在所述拋光片部分310及拋光片第三部分330間平滑的過渡。所述拋光片第三部分330設(shè)置于所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面上,所述拋光片第三部分330表面與拋光片部分310表面垂直。采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。
靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.75-6mm,例如可以是5.75mm、5.76mm、5.77mm、5.78mm、5.79mm、5.8mm、5.81mm、5.82mm、5.83mm、5.84mm、5.85mm、5.86mm、5.87mm、5.88mm、5.89mm、5.9mm、5.91mm、5.92mm、5.93mm、5.94mm、5.95mm、5.96mm、5.97mm、5.98mm、5.99mm或6mm等,但不限于所列舉的數(shù)值,該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。本發(fā)明中,所述靶材表面的硬度為20-30hv,例如可以是20hv、21hv、22hv、23hv、24hv、25hv、26hv、27hv、28hv、29hv或30hv等,但不限于所列舉的數(shù)值,該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。本發(fā)明中,通過調(diào)整靶材表面的高度差及硬度,保證濺射強度,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案,所述靶材的比較大厚度為28-30mm,例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等,但不限于所列舉的數(shù)值,該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低,所以反應(yīng)氣體比例增加后,綜合濺射速率降低。合肥鋁鋅靶材價錢
換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的,只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。合肥鋁鋅靶材價錢
氣體壓強對靶濺射電壓的影響 在磁控濺射或反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過程中,工作氣體或反應(yīng)氣體壓強對磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。 1.工作氣體壓強對靶濺射電壓的影響 一般的規(guī)律是:在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時,隨著工作氣體(如氬氣)壓強(0.1~10Pa)的逐步增加,氣體放電等離子體的密度也會同步增加,致使等離子體等效阻抗減小,磁控靶的濺射電流會逐步上升,濺射工作電壓亦會同步下降。 2. 反應(yīng)氣體壓強對靶濺射電壓的影響 在反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過程中,在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時,隨著反應(yīng)氣體(如氮氣、氧氣)壓強(或流量)的逐步增加(一般應(yīng)注意不要超過工藝設(shè)定值的上限值),隨著磁控靶面和基片(工件)表面逐步被絕緣膜層覆蓋,陰-陽極間放電的等效阻抗也會同步增高,磁控靶的濺射電流會逐步下降(直至“陰極中毒”和“陽極消失”為止),濺射工作電壓亦會同步上升。合肥鋁鋅靶材價錢
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結(jié)爐一臺,真空熔煉設(shè)備兩臺,等靜壓設(shè)備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機加工設(shè)備七臺,檢驗設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。