鎮(zhèn)江氮化鈦靶圖片

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-09-15

陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的優(yōu)點(diǎn) 陽(yáng)光控制鍍膜玻璃主要就是為了遮光隔熱,根據(jù)它的物理特性也叫做熱反射鍍膜玻璃,在普通的透明玻璃上通過(guò)磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍上一層或多層薄膜,在這里我們簡(jiǎn)稱(chēng)反射玻璃。         反射玻璃相對(duì)于普通透明玻璃而言,在太陽(yáng)能的反射性能上,反射玻璃一次的反射比普通玻璃高出4.3倍,第二次的反射高出3.1倍,總的反射就高出3.6倍了;在遮蔽系數(shù)上,反射玻璃比普通玻璃減少0.18,系數(shù)越少,遮光效果就會(huì)越好的,減少太陽(yáng)輻射和熱能的透射;在可見(jiàn)光的反射和透射上,反射玻璃比普通玻璃反射增加了20%~38%,透射減少了55%~70%,具有良好的遮光性能;在傳熱系數(shù)上,反射玻璃比普通玻璃降低了0.4W(m2.K),具有良好的隔熱性能。         利用其良好的遮光和隔熱性能,可以大降低在室內(nèi)制冷和保暖的花費(fèi),是一種非常好的節(jié)能產(chǎn)品,而且可以通過(guò)不同的金屬或金屬化合物為靶材,鍍制出不同顏色的反射膜,常見(jiàn)的顏色有茶色、灰色、金黃色、古銅色、褐色、珊瑚黃色,通過(guò)不同的配搭,達(dá)到裝飾的效果,即美觀又節(jié)能。有一部分靶材在安裝之前需要拋光。鎮(zhèn)江氮化鈦靶圖片

氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   在磁控濺射或反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過(guò)程中,工作氣體或反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。   1.工作氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   一般的規(guī)律是:在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí),隨著工作氣體(如氬氣)壓強(qiáng)(0.1~10Pa)的逐步增加,氣體放電等離子體的密度也會(huì)同步增加,致使等離子體等效阻抗減小,磁控靶的濺射電流會(huì)逐步上升,濺射工作電壓亦會(huì)同步下降。   2. 反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   在反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過(guò)程中,在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí),隨著反應(yīng)氣體(如氮?dú)狻⒀鯕?壓強(qiáng)(或流量)的逐步增加(一般應(yīng)注意不要超過(guò)工藝設(shè)定值的上限值),隨著磁控靶面和基片(工件)表面逐步被絕緣膜層覆蓋,陰-陽(yáng)極間放電的等效阻抗也會(huì)同步增高,磁控靶的濺射電流會(huì)逐步下降(直至“陰極中毒”和“陽(yáng)極消失”為止),濺射工作電壓亦會(huì)同步上升。成都氧化鋅錫靶調(diào)試請(qǐng)注意一定要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射冷卻壁的平整度,同時(shí)確保O型密封圈始終在位置上。

高純金屬的概念: 任何金屬都不能達(dá)到純?!案呒儭焙汀俺儭本哂邢鄬?duì)的含義,是指技術(shù)上達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)。由于技術(shù)的發(fā)展,也常使“超純”的標(biāo)準(zhǔn)升級(jí)。例如過(guò)去高純金屬的雜質(zhì)為 ppm級(jí)(即百萬(wàn)分之幾),而超純半導(dǎo)體材料的雜質(zhì)達(dá)ppb級(jí)(十億分之幾),并將逐步發(fā)展到以ppt級(jí)(一萬(wàn)億分之幾)表示。實(shí)際上純度以幾個(gè)“9”(N)來(lái)表示(如雜質(zhì)總含量為百萬(wàn)分之一,即稱(chēng)為6個(gè)“9”或6N),是不完整概念,如電子器件用的超純硅以金屬雜質(zhì)計(jì)算,其純度相當(dāng)于9 個(gè)“9”。 但如計(jì)入碳,則可能不到6個(gè)“9”?!俺儭钡南鄬?duì)名詞是指“雜質(zhì)”,廣義的雜質(zhì)是指化學(xué)雜質(zhì)(元素)及“物理雜質(zhì)”,后者是指位錯(cuò)及空位等,而化學(xué)雜質(zhì)是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。但只當(dāng)金屬純度達(dá)到很高的標(biāo)準(zhǔn)時(shí)(如純度 9N 以上的金屬),物理雜質(zhì)的概念才是有意義的, 因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學(xué)雜質(zhì)的含量作為標(biāo)準(zhǔn),即以金屬中雜質(zhì)總含量為百萬(wàn)分之幾表示。

常見(jiàn)的PVD裝飾膜主要有幾大色系:1.IP玫瑰金(rosegold)是一種黃金和銅的合金,由于其具有非常時(shí)尚、靚麗的玫瑰紅色彩,因而普遍用于首飾設(shè)計(jì)和加工。又稱(chēng)粉色金(pinkgold)、紅色金(redgold)。2.IP金,用離子鍍膜的方式,讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上,一般由仿金層和表面金層兩層,表面金層的顏色與24K黃金一樣,厚度可以根據(jù)客戶(hù)的要求鍍不同的厚度。3.仿金系列(包括仿金色和仿玫瑰金),不含黃金,一般成份是由TiNTiCNZrNZrCN等陶瓷化合物組成,但很難達(dá)到真金的亮度。4.銀色系列,一般是鉻的化合物,顏色深淺可調(diào)整,可分冷色系列和暖色系列,冷色系列帶藍(lán)調(diào),金屬光感好,暖色系列帶黃調(diào),接近不銹鋼本色。5.黑色系列,一般是成份是金屬的碳化物,顏色深淺可以調(diào)整,色調(diào)根據(jù)客戶(hù)的要求也可以調(diào)整,不同的金屬碳化物具有不同的特性和色調(diào),可以根據(jù)客戶(hù)的需要選擇不同的膜系。6.藍(lán)色系列,有天空藍(lán),冰藍(lán)色,海洋藍(lán),深藍(lán)等等,不同色系成份也有所不一樣。所以在安裝靶材時(shí)需要對(duì)陰極冷卻水槽進(jìn)行檢查和清理,確保冷卻水循環(huán)的順暢和進(jìn)出水口不會(huì)被堵塞。

純度

 純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”、 8”發(fā)展到12”, 而布線(xiàn)寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿(mǎn)足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線(xiàn)條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

2.雜質(zhì)含量

靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。 壓靶蓋旋的過(guò)緊,沒(méi)有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x,調(diào)整距離即可。鎮(zhèn)江氮化鈦靶圖片

七.濺射靶材的制備方法有哪些?鎮(zhèn)江氮化鈦靶圖片

濺射靶材的制備

濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類(lèi),除嚴(yán)格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外,對(duì)熱處理?xiàng)l件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴(yán)格控制。

一、粉末冶金法

粉末冶金法制備靶材時(shí),其關(guān)鍵在于:(1)選擇高純、超細(xì)粉末作為原料;(2)選擇能實(shí)現(xiàn)快速致密化的成形燒結(jié)技術(shù),以保證靶材的低孔隙率,并控制晶粒度;(3)制備過(guò)程嚴(yán)格控制雜質(zhì)元素的引入。

二、熔融鑄造法

熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質(zhì)元素含量盡可能低,通常其冶煉和澆注在真空或保護(hù)性氣氛下進(jìn)行。但鑄造過(guò)程中,材料組織內(nèi)部難免存在一定的孔隙率,這些孔隙會(huì)導(dǎo)致濺射過(guò)程中的微粒飛濺,從而影響濺射薄膜的質(zhì)量。為此,需要后續(xù)熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。 鎮(zhèn)江氮化鈦靶圖片

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類(lèi)靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶(hù)要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車(chē)玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類(lèi)機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠(chǎng)的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶(hù)的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶(hù)的需求為導(dǎo)向,客戶(hù)的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。

標(biāo)簽: 靶材