磁控靶材面積與承載功率范圍 1、靶材面積與承載功率范圍 (1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。 (2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。 (3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。 2、磁控靶實際承載功率 磁控靶的實際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關(guān)外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。 考慮到濺射靶長期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的使用時的承載功率，直接水冷卻靶實際的承載大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實際承載大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。 磁控靶材(主要是Cu，Ag，黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時，一般是選用經(jīng)過專門設(shè)計“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。其使用時的承載功率，均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定，容易控制。成都銅鋁靶材綁定
靶中毒的解決辦法（1）采用中頻電源或射頻電源。（2）采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。（3）采用孿生靶（4）控制鍍膜模式的變換：在鍍膜前，采集靶中毒的遲滯效應(yīng)曲線，使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿，確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應(yīng)對？磁控濺射金屬靶時，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：1.靶材安裝準(zhǔn)確否?2.靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì)，打磨清理干凈后即可。3.起輝電源是否正常------------檢查靶電源。4.靶與地線之間短路----------關(guān)掉機(jī)器，把設(shè)備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細(xì)清洗一下；----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x，調(diào)整距離即可。5.永磁靶表面場強(qiáng)是否下降太多？---------如果下降太多，需要更換磁鋼。6.起輝濺射真空度與前次的差別？---------更換不同的靶材，起輝壓強(qiáng)不盡相同。換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的，只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。 WS2靶材工廠當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時候，靶完全中毒，在靶面上沉積一層化合金屬膜。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點：
本發(fā)明提供的靶材拋光裝置的技術(shù)方案中，所述靶材拋光裝置包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。位于固定板彎折處的拋光片表面適于對靶材經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，位于側(cè)板上的所述拋光片表面適于對靶材側(cè)壁表面進(jìn)行拋光。所述靶材拋光裝置能夠?qū)Π胁膫?cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱同時進(jìn)行拋光，因此所述靶材拋光裝置有助于提高對靶材表面進(jìn)行拋光的作業(yè)效率。
可選方案中，所述防護(hù)層為彈性材料，所述防護(hù)層的質(zhì)地軟，能夠在所述固定板及靶材間提供緩沖，避免所述固定板觸撞靶材導(dǎo)致靶材受損。
真空離子鍍在航空航天方面的應(yīng)用： 在現(xiàn)代飛機(jī)、航空發(fā)動機(jī)或航空儀表中，特別是在航宇器，如宇宙飛船、人造衛(wèi)星中，有不少旋轉(zhuǎn)零件都要求有良好的潤滑，但往往由于封存過久、環(huán)境溫度過高或太空揮發(fā)等原因，普通油脂潤滑劑已不再適用，從而提出以固體潤滑劑代替。試驗表明，用離子鍍來制作固體潤滑膜，比現(xiàn)有其他方法為優(yōu)。不但附著力強(qiáng)，鍍層又薄又勻，不影響零件的尺寸精度和公差配合。經(jīng)濟(jì)性也好，少許潤滑材料即可鍍很大面積。潤滑膜的質(zhì)量也較好，摩擦系數(shù)小，使用壽命也長。例如有一個人造衛(wèi)星上的精密軸承，未鍍前工作壽命為幾分鐘，根本無法使用;但是經(jīng)離子鍍固體潤滑膜后，則可在飛行中可靠地工作數(shù)千小時之久。離子鍍不能夠鍍許多種常溫固體潤滑材料，而且還能鍍復(fù)各種高溫固體潤滑材料，有的甚至可以在攝氏八百度以上的高溫下發(fā)揮良好的潤滑作用?？慑兊墓腆w潤滑材料有銀、金、銅、鉛、鉛錫合金、氟化物等。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。
純度：純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”、 8”發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
雜質(zhì)含量：靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。 由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子。成都銅鋁靶材綁定
關(guān)掉機(jī)器，把設(shè)備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細(xì)清洗一下。成都銅鋁靶材綁定
熔融鑄造法：
熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質(zhì)元素含量盡可能低，通常其冶煉和澆注在真空或保護(hù)性氣氛下進(jìn)行。但鑄造過程中，材料組織內(nèi)部難免存在一定的孔隙率，這些孔隙會導(dǎo)致濺射過程中的微粒飛濺，從而影響濺射薄膜的質(zhì)量。為此，需要后續(xù)熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。八．購買靶材的注意事項有哪些許多用戶在采購靶材時沒有從專業(yè)的角度去考慮，下面為大家指出購買靶材時需要注意的事項。
對于所有的金屬來說，純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，靶材的純度對后期產(chǎn)品薄膜的性能影響很大。但是每一個產(chǎn)品對靶材的純度要求也有不相同的地方。 成都銅鋁靶材綁定
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設(shè)備兩臺，等靜壓設(shè)備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺，檢驗設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。