鈰靶材綁定

來源: 發(fā)布時間:2021-10-09

濺射靶材的制備方法有哪些?濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材普遍應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領(lǐng)域,不同領(lǐng)域需要的靶材各不相同。濺射靶材的制備:濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類,除嚴(yán)格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外,對熱處理條件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴(yán)格控制。粉末冶金法:粉末冶金法制備靶材時,其關(guān)鍵在于:(1)選擇高純、超細(xì)粉末作為原料;(2)選擇能實(shí)現(xiàn)快速致密化的成形燒結(jié)技術(shù),以保證靶材的低孔隙率,并控制晶粒度;(3)制備過程嚴(yán)格控制雜質(zhì)元素的引入。真空鍍膜中靶材中毒會出現(xiàn)哪些想象,如何解決?鈰靶材綁定

所述靶材的比較大厚度為23mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面與水平面的夾角為1°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之間;所述***平面為圓形;所述第二平面為環(huán)形;所述靶材的材質(zhì)包括鋁;所述背板的材質(zhì)包括銅和鋁。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。實(shí)施例6本實(shí)施例提供一種長壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.95mm;所述靶材表面的硬度為23hv;其中,所述靶材的比較大厚度為27mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面與水平面的夾角為3°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之間;所述***平面為圓形;所述第二平面為環(huán)形;所述靶材的材質(zhì)包括鉭;所述背板的材質(zhì)包括鋁。蘇州硒化鎢靶材工廠濺射的時候會先濺射凸起,濺射時間長了,靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態(tài)不需要拋光。

本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中,所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400與所述固定板200間通過粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中,所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)(圖中未示出),所述防護(hù)層與所述拋光片間通過所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。所述防護(hù)層400包括防護(hù)層和第二防護(hù)層,所述防護(hù)層覆蓋所述頂板210底部表面;所述第二防護(hù)層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護(hù)層表面與第二防護(hù)層表面相垂直。

真空鍍膜中靶材中毒會出現(xiàn)哪些想象,如何解決?靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子,通常是放熱反應(yīng),反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑,否則,該化學(xué)反應(yīng)無法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo),所以,化學(xué)反應(yīng)必須在一個固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。靶中毒的影響因素:影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下,參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加,化合物生成率增加。如果反應(yīng)氣體量增加過度,化合物覆蓋面積增加,如果不能及時調(diào)整反應(yīng)氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到控制,濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋,當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時候,靶完全中毒,在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應(yīng)。靶材密度越高,薄膜的性能越好。

純度:純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實(shí)際應(yīng)用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”、8”發(fā)展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。雜質(zhì)含量:靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。靶面金屬化合物的形成。常州氧化鋯靶材

適用范圍和背靶的選擇三個方面來為大家介紹一下靶材綁定。鈰靶材綁定

靶材拋光裝置100對所述靶材600進(jìn)行拋光時,將所述靶材拋光裝置100放置于所述靶材600上,使所述拋光片第二部分320表面與所述靶材600的側(cè)棱601表面相貼合,并使所述拋光片部分310表面與所述靶材濺射面610相貼合,且所述拋光片第三部分330表面與所述靶材600的側(cè)壁表面630相貼合。操作人員利用所述把手推動所述靶材拋光裝置100,所述靶材拋光裝置100相對所述靶材600移動,移動方向平行與被拋光的所述側(cè)棱601延伸方向。所述拋光片300表面的磨砂顆粒與靶材600表面相摩擦,以獲得光亮、平整的靶材600表面。此外,還可以通過所述靶材拋光裝置100同時對所述靶材600相交接的兩個側(cè)壁表面630進(jìn)行拋光。具體的,所述拋光片***部分310與所述靶材600的一個側(cè)壁表面630相貼合,所述拋光片第三部分330表面與所述靶材600的另一個側(cè)壁表面630相貼合,所述拋光片第二部分320表面與位于兩個側(cè)壁表面630間的側(cè)棱601表面相貼合。操作人員相對所述靶材600移動所述靶材拋光裝置100,移動方向平行與被拋光的所述側(cè)棱601延伸方向,從而可同時對所述靶材600的兩個側(cè)壁表面630進(jìn)行拋光,且還同時對位于兩個側(cè)壁表面630間的側(cè)棱601表面進(jìn)行拋光,有助于提高拋光作業(yè)效率。鈰靶材綁定

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結(jié)爐一臺,真空熔煉設(shè)備兩臺,等靜壓設(shè)備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺,檢驗設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。

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