南京氧化鋁靶材價(jià)格

PECVD 制備氫化非晶硅薄膜   本實(shí)驗(yàn)采用單晶硅片為襯底，按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干，然后置于PECVD系統(tǒng)中。樣品制備條件為襯底溫度250℃，工作氣壓120 Pa， 射頻功率100 W， 氣體流量SiH4/H2=15/5 sccm， 沉積時(shí)間30min， 制備得到a- Si：H 薄膜樣品。   (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨著濺射功率的增大而增大，膜的均勻性將會(huì)變差;   (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度隨著襯底加熱溫度的增大而減小，非晶硅薄膜均勻性變好;   (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范圍內(nèi)，隨著氬氣氣壓的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微變大;   (4) 隨著濺射時(shí)間的增加, 膜的厚度成非線性增加，沉積速率開(kāi)始較快，之后逐漸減慢，膜的表面粗糙度逐漸變大;   (5)隨著濺射氣壓的增大，沉積速率有所降低。靶面金屬化合物的形成。南京氧化鋁靶材價(jià)格

  磁控靶材面積與承載功率范圍 1、靶材面積與承載功率范圍   (1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。   (2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。   (3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。 2、磁控靶實(shí)際承載功率   磁控靶的實(shí)際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關(guān)外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。   考慮到濺射靶長(zhǎng)期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的使用時(shí)的承載功率，直接水冷卻靶實(shí)際的承載大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實(shí)際承載大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。   磁控靶材(主要是Cu，Ag，黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時(shí)，一般是選用經(jīng)過(guò)專門設(shè)計(jì)“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。其使用時(shí)的承載功率，均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。蘇州Au靶材綁定靶材太薄、靶材太貴的情況等。 但下列情況綁定有弊端。

PVD顏色膜之玫瑰金 玫瑰金，單從她那浪漫的名字，就能引起人們無(wú)數(shù)美妙的聯(lián)想。在閃閃發(fā)光的黃金飾品與經(jīng)典高雅的鉑金飾品之后，色調(diào)柔和迷人的玫瑰金飾品漸成為時(shí)尚人士的“新寵”，以她特有的風(fēng)格與文化，演繹出貴金屬飾品的又一片嶄新天地。通常玫瑰金由75％的黃金與其它合金組成（俗稱三色金）。 硬度較純金高，與傳統(tǒng)的黃金和鉑金相比，粉紅色的玫瑰金不但能使有色寶石的色彩更加濃重，還體現(xiàn)了金屬材質(zhì)的精致、細(xì)膩。其粉紅、玫瑰等暖色調(diào)給人們帶來(lái)溫暖與愉快；在款式上也是千姿百態(tài)，有心形、欖尖形、橢圓形、梨形、祖母綠形。各種風(fēng)格迥異的飾品，可謂璀璨耀眼，女性無(wú)論是著職業(yè)裝，還是晚禮服及吊帶裙，與之相配都顯出高雅的氣質(zhì)。 玫瑰金顏色近幾年在手表行業(yè)非常流行，很多品牌都采用PVD在不銹鋼表殼和表帶上沉積玫瑰金涂層的方式進(jìn)行，行業(yè)內(nèi)叫IP玫瑰金，其工藝已經(jīng)非常成熟。玫瑰金鍍層一般有仿金層和玫瑰金層構(gòu)成，底層的仿金層一般為TiCN，主要是增加玫瑰金的硬度和耐磨度。

非晶硅薄膜 多晶硅薄膜具有較高的電遷移率和穩(wěn)定的光電性能，是制備微電子器件、薄膜晶體管、大面積平板液晶顯示的質(zhì)量材料。多晶硅薄膜被公認(rèn)為是制備低耗、理想的薄膜太陽(yáng)能電池的材料。因此，如何制備多晶硅薄膜是一個(gè)非常有意義的研究課題。固相法是制備多晶硅薄膜的一種常用方法，它是在高溫退火的條件下，使非晶硅薄膜通過(guò)固相相變而成為多晶硅薄膜。本文采用固相法，利用X- ray 衍射及拉曼光譜，對(duì)用不同方法制備的非晶硅薄膜的晶化過(guò)程進(jìn)行了系統(tǒng)地研究。   在硅薄膜太陽(yáng)能電池材料中，非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池制造工藝相對(duì)簡(jiǎn)單，但是存在光電轉(zhuǎn)換效率低，壽命短，穩(wěn)定性不好，并且存在光致衰退效應(yīng)(S-W 效應(yīng))等缺點(diǎn)。單晶硅薄膜太陽(yáng)能電池因?yàn)橹谱鞴に嚭椭谱鞒杀镜仍蚴冀K得不到推廣，而多晶硅薄膜材料在長(zhǎng)波段具有光敏性，能有效的吸收可見(jiàn)光并且具有光照穩(wěn)定性。濺射出靶材的原子、原子團(tuán)、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團(tuán)沉積到基材上形成薄膜。

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種靶材拋光裝置。背景技術(shù)：濺射鍍膜屬于物相沉積方法制備薄膜的工藝之一，具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出，并沉積在基材或工件表面，從而形成薄膜。由于背板具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能，且還可以起到固定支撐作用，因此，靶材在鍍膜前需與背板焊接在一起，然后共同裝配至濺射基臺(tái)。一般活性金屬靶材，例如鋁靶材，由于長(zhǎng)期暴露在空氣中，靶材表面材料容易氧化形成一層氧化皮。在直流脈沖、中頻濺射過(guò)程中，離子撞擊的能量不足以破壞該氧化皮，導(dǎo)致靶材原子或分子難以逸出，因此在將靶材安裝至濺射基臺(tái)之前，需要對(duì)靶材表面進(jìn)行拋光。此外，對(duì)于活性金屬靶材及非活性金屬靶材，拋光操作有利于改善靶材的濺射速率的穩(wěn)定性，有助于提高濺射鍍膜質(zhì)量。目前業(yè)內(nèi)通常采用人工手動(dòng)對(duì)靶材表面進(jìn)行拋光，即操作人員手持砂紙對(duì)靶材的各個(gè)表面進(jìn)行拋光，作業(yè)效率低。靶材磁控濺射的原理是什么？無(wú)錫銦靶材費(fèi)用

壓靶蓋旋的過(guò)緊，沒(méi)有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x，調(diào)整距離即可。南京氧化鋁靶材價(jià)格

鋁鈧合金靶材（AlSc)，尺寸按需求定制，比列按需求定制，含鈧比較高能做到AlSc45wt%，質(zhì)量?jī)?yōu)異，雜質(zhì)含量低，歡迎新老客戶來(lái)電咨詢洽談。江陰典譽(yù)新材料科技有限公司生產(chǎn)的金屬鈧，品質(zhì)優(yōu)異，**全球。鋁鈧合金生產(chǎn)歷史悠久，擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)，目前推出的鋁鈧合金靶材已被微電子行業(yè)大型廠商采用。相關(guān)靶材清單如下：稀土合金靶材：鋁鈧AlSc;鈰釓CeGd;鈰鎂CeMg;鈰釤CeSm;鏑鈷DyCo;鏑鐵DyFe;釓銅GdCu;釓鐵GdFe;鈥銅HoCu;鑭鋁LaAl;鑭鎳LaNi;鋁釹AlNd;釹鐵NdFe;釹鐵硼NdFe；鎳鎂鈰NiMgCe;鎳鎂鐵鈰NiMgFeCe;鋱鏑鐵TbDyFe;鋱鐵TbFe;釔鋁YAl;釔銅YCu;釔鐵YFe;釔鎂YMg;釔鎳YNi;釔鋯ZrY南京氧化鋁靶材價(jià)格

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù)，并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì)，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂?jī)商?，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。