主要產(chǎn)品：1、鈀 顆粒 99.99%常規(guī)尺寸：φ3*6mm；量大可定做2、鈀 靶材 99.99%?常規(guī)尺寸：φ50*1mm；φ60*3mm；φ76.2*4mm等，尺寸可定做3、電鏡鈀片常規(guī)尺寸：φ57*0.1mm*0.2mm4、鈀 箔片 99.92mm等，尺寸可定做二、其他：打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工。回收流程如下：稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材產(chǎn)品編碼產(chǎn)品名稱規(guī)格應(yīng)用Sc-I4006鈧x真空熔煉Li-G30610鋰顆粒99.9%φ6*10mm真空熔煉Sr-I2011鍶塊狀99%氮氣包裝真空熔煉Mg-G3514鎂顆粒99.93%4mm類球形真空熔煉Mg-I3503鎂塊狀99.95%200g/塊真空熔煉Fe-G3533鐵顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Cr-G3501mm真空熔煉Al-G4066鋁顆粒99.99%φ6*6mm真空熔煉Cu-G5033銅顆粒99.999%φ3*3mm真空熔煉Cu-G3533銅顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Ti-G3033鈦顆粒99.9%φ3*3mm真空熔煉Ni-G3025鎳顆粒99.9%φ2*5mm真空熔煉V-G3015釩顆粒99.9%樹枝狀真空熔煉Mn-F2701采用中頻電源或射頻電源。氟化鋅靶材廠家
靶材的比較大厚度為20-30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角≤10°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種；所述背板的材質(zhì)包括銅和/或鋁。與現(xiàn)有技術(shù)方案相比，本發(fā)明具有以下有益效果：本發(fā)明中，通過調(diào)整靶材表面的高度差及硬度，利用二者之間的協(xié)同效果保證濺射強度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。下面對本發(fā)明進一步詳細說明。但下述的實例 是本發(fā)明的簡易例子，并不**或限制本發(fā)明的權(quán)利保護范圍，本發(fā)明的保護范圍以權(quán)利要求書為準。具體實施方式為更好地說明本發(fā)明，便于理解本發(fā)明的技術(shù)方案，本發(fā)明的典型但非限制性的實施例如下：實施例1本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為；所述靶材表面的硬度為23hv鎮(zhèn)江ZnS靶材綁定此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。
其他服務(wù):打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工服務(wù)。回收流程如下:稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品江陰典譽新材料科技有限公司，是專業(yè)從事鍍膜材料、合金制備等相關(guān)材料研發(fā)、銷售、服務(wù)為一體的全球化高科技綜合性公司。以業(yè)內(nèi) 企業(yè)為支撐，整合技術(shù)資源，擁有自主進出口經(jīng)營權(quán)和成熟的運營管理團隊，科學(xué)化管理運營，為公司向化、高新化發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。典譽新材料在光電器件、芯片半導(dǎo)體、太陽能電池、光學(xué)鍍膜、航空航天、 、冶金、功能材料、新能源等行業(yè)產(chǎn)品開發(fā)、創(chuàng)新方面，有著得天獨厚的優(yōu)勢。以客戶需求為導(dǎo)向，以前沿技術(shù)為基礎(chǔ)，開發(fā)了多個產(chǎn)品系列，涵蓋濺射靶材、蒸鍍膜料、高純合金、金屬粉末、耗材配件等千余種產(chǎn)品，質(zhì)量穩(wěn)定、工藝完善，得到廣大客戶好評。典譽新材料堅持“誠信為本、高質(zhì)的經(jīng)營理念，關(guān)注客戶需求，追求客戶滿意，以服務(wù)求生存，以質(zhì)量求發(fā)展，不斷優(yōu)化產(chǎn)品線，為廣大用戶提供一站式服務(wù)，力爭做全球 的金屬材料供應(yīng)商。
本實施例中，所述防護層400的材料。在其他實施例中，所述防護層的材料還可以為橡膠或棉花。本實施例中，所述防護層400與所述固定板200間通過粘結(jié)劑相粘接。所述防護層400與所述拋光片300間也通過粘結(jié)劑相粘接。在其他實施例中，所述拋光片朝向所述防護層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)(圖中未示出)，所述防護層與所述拋光片間通過所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。所述防護層400包括防護層和第二防護層，所述防護層覆蓋所述頂板210底部表面；所述第二防護層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護層表面與第二防護層表面相垂直。而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。
固定板200的厚度為10mm～15mm。若所述固定板200的厚度過大，使得所述固定板200的重量過大，不便于使用，影響操作的靈活性。若所述固定板200的厚度過小，導(dǎo)致所述固定板200的強度和韌性較差，影響所述靶材拋光裝置100的使用壽命。所述拋光片300表面與靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱相匹配。所述拋光片300表面具有磨砂顆粒，用于增加所述拋光片300與靶材表面間的摩擦力，以提高拋光效率。拋光片300包括拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330。所述拋光片部分310設(shè)置于所述頂板210的底部。所述拋光片第二部分320設(shè)置于所述頂板210與所述側(cè)板220的拐角處，且在所述拋光片部分310及拋光片第三部分330間平滑的過渡。所述拋光片第三部分330設(shè)置于所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面上，所述拋光片第三部分330表面與拋光片部分310表面垂直。靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。鎮(zhèn)江ZnS靶材綁定
靶材太薄、靶材太貴的情況等。 但下列情況綁定有弊端。氟化鋅靶材廠家
靶材磁控濺射的原理是什么？磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，濺射靶材在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設(shè)備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更大，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時還司進行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。氟化鋅靶材廠家
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設(shè)備兩臺，等靜壓設(shè)備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設(shè)備七臺，檢驗設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。