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磁控濺射鍍膜生產(chǎn)ZnO∶Al(AZO)薄膜的工藝探討 目前主要的薄膜太陽(yáng)能電池有:碲化鎘(CdTe)系薄膜太陽(yáng)能電池、硒銦銅(CIS)系薄膜太陽(yáng)能電池、非晶硅系薄膜太陽(yáng)能電池、晶硅系薄膜太陽(yáng)能電池。研究人員研制出了價(jià)格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶Al陷光結(jié)構(gòu)來(lái)作為薄膜太陽(yáng)能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結(jié)構(gòu)的AZO透明導(dǎo)電薄膜可以增強(qiáng)太陽(yáng)光的散射作用,改善陷光效果,增加電池對(duì)太陽(yáng)能的吸收量,提高薄膜太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導(dǎo)電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優(yōu)點(diǎn),是較為合適的生產(chǎn)AZO薄膜的工藝方法。 目前由磁控濺射工藝生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜AZO時(shí)所用靶材有兩種類(lèi)型:①陶瓷AZO靶材;②合金鋅鋁靶材。應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況,選擇適合本企業(yè)的靶材產(chǎn)品。 作為一種新的TCO材料,AZO相對(duì)于ITO和FTO有很大優(yōu)勢(shì),要大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化還必須在如何降低設(shè)備及工藝成本上進(jìn)一步研發(fā)。從根本上說(shuō),AZO薄膜的結(jié)構(gòu)性能的好壞決定了其光電性能的優(yōu)劣,必須在工藝參數(shù)上多做研究,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量和低成本的雙贏。對(duì)于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。常州CrCuNi靶材調(diào)試
靶材的雜質(zhì)含量。在經(jīng)過(guò)一系列的靶材工藝處理后靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。因?yàn)橛锰幉灰粯?,所以不同用途的靶材?duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。比如現(xiàn)在的半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘?duì)濺射速率有著很大的影響,并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。蘇州Zr靶材綁定真空鍍膜中靶材中毒會(huì)出現(xiàn)哪些想象,如何解決?
固定板200的厚度為10mm~15mm。若所述固定板200的厚度過(guò)大,使得所述固定板200的重量過(guò)大,不便于使用,影響操作的靈活性。若所述固定板200的厚度過(guò)小,導(dǎo)致所述固定板200的強(qiáng)度和韌性較差,影響所述靶材拋光裝置100的使用壽命。所述拋光片300表面與靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱相匹配。所述拋光片300表面具有磨砂顆粒,用于增加所述拋光片300與靶材表面間的摩擦力,以提高拋光效率。拋光片300包括拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330。所述拋光片部分310設(shè)置于所述頂板210的底部。所述拋光片第二部分320設(shè)置于所述頂板210與所述側(cè)板220的拐角處,且在所述拋光片部分310及拋光片第三部分330間平滑的過(guò)渡。所述拋光片第三部分330設(shè)置于所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面上,所述拋光片第三部分330表面與拋光片部分310表面垂直。
本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中,所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400與所述固定板200間通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中,所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)(圖中未示出),所述防護(hù)層與所述拋光片間通過(guò)所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。所述防護(hù)層400包括防護(hù)層和第二防護(hù)層,所述防護(hù)層覆蓋所述頂板210底部表面;所述第二防護(hù)層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護(hù)層表面與第二防護(hù)層表面相垂直。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽(yáng)能電池等眾多領(lǐng)域。
鋁鈧合金靶材(AlSc),尺寸按需求定制,比列按需求定制,含鈧比較高能做到AlSc45wt%,質(zhì)量?jī)?yōu)異,雜質(zhì)含量低,歡迎新老客戶來(lái)電咨詢洽談。江陰典譽(yù)新材料科技有限公司生產(chǎn)的金屬鈧,品質(zhì)優(yōu)異,**全球。鋁鈧合金生產(chǎn)歷史悠久,擁有豐富的經(jīng)驗(yàn),目前推出的鋁鈧合金靶材已被微電子行業(yè)大型廠商采用。相關(guān)靶材清單如下:稀土合金靶材:鋁鈧AlSc;鈰釓CeGd;鈰鎂CeMg;鈰釤CeSm;鏑鈷DyCo;鏑鐵DyFe;釓銅GdCu;釓鐵GdFe;鈥銅HoCu;鑭鋁LaAl;鑭鎳LaNi;鋁釹AlNd;釹鐵NdFe;釹鐵硼NdFe;鎳鎂鈰NiMgCe;鎳鎂鐵鈰NiMgFeCe;鋱鏑鐵TbDyFe;鋱鐵TbFe;釔鋁YAl;釔銅YCu;釔鐵YFe;釔鎂YMg;釔鎳YNi;釔鋯ZrY制備過(guò)程嚴(yán)格控制雜質(zhì)元素的引入。蘇州Zr靶材綁定
不拋光去除表面變質(zhì)部分,沉積到基材上的膜層性質(zhì)就是表面變質(zhì)的雜質(zhì)。常州CrCuNi靶材調(diào)試
ITO薄膜制作過(guò)程中的影響因素 ITO薄膜在濺鍍過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生不同的特性,有時(shí)候表面光潔度比較低,出現(xiàn)“麻點(diǎn)”的現(xiàn)象,有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)高蝕間隔帶,在蝕刻時(shí)還會(huì)出現(xiàn)直線放射型缺劃或電阻偏高帶,有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)微晶溝縫。 常用的ITO靶材是通過(guò)燒結(jié)法生產(chǎn)的,就是由氧化銦(In2O3)和氧化錫(SnO2)粉末按照一定的比例進(jìn)行混合,通常質(zhì)量比是90%In2O3和10% SnO2,形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體(氧化銦錫,ITO)。一般通過(guò)外觀就可以了解ITO靶材的質(zhì)量,深灰色是好的,相反越黑質(zhì)量越差,我國(guó)生產(chǎn)的ITO靶材質(zhì)量還可以的是黑灰色的。 研究顯示,在真空鍍膜機(jī)ITO薄膜濺鍍過(guò)程中,使用磁控濺射的方式,基底溫度控制在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見(jiàn)光透過(guò)率下,電阻率達(dá)到低,而薄膜的結(jié)晶度也隨著基底溫度的提高而提高,晶粒尺寸也逐漸增大,超過(guò)200℃后透射率趨于減弱;使用電子束蒸鍍的方式,隨著退火溫度升高,晶粒尺寸變大,表面形貌均一穩(wěn)定,超過(guò)600℃后顆粒變得大小不一,形狀各異,小顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重,薄膜表面形貌破壞。常州CrCuNi靶材調(diào)試
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類(lèi)靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車(chē)玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類(lèi)機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。