PVD顏色膜之玫瑰金 玫瑰金，單從她那浪漫的名字，就能引起人們無數(shù)美妙的聯(lián)想。在閃閃發(fā)光的黃金飾品與經典高雅的鉑金飾品之后，色調柔和迷人的玫瑰金飾品漸成為時尚人士的“新寵”，以她特有的風格與文化，演繹出貴金屬飾品的又一片嶄新天地。通常玫瑰金由75％的黃金與其它合金組成（俗稱三色金）。 硬度較純金高，與傳統(tǒng)的黃金和鉑金相比，粉紅色的玫瑰金不但能使有色寶石的色彩更加濃重，還體現(xiàn)了金屬材質的精致、細膩。其粉紅、玫瑰等暖色調給人們帶來溫暖與愉快；在款式上也是千姿百態(tài)，有心形、欖尖形、橢圓形、梨形、祖母綠形。各種風格迥異的飾品，可謂璀璨耀眼，女性無論是著職業(yè)裝，還是晚禮服及吊帶裙，與之相配都顯出高雅的氣質。 玫瑰金顏色近幾年在手表行業(yè)非常流行，很多品牌都采用PVD在不銹鋼表殼和表帶上沉積玫瑰金涂層的方式進行，行業(yè)內叫IP玫瑰金，其工藝已經非常成熟。玫瑰金鍍層一般有仿金層和玫瑰金層構成，底層的仿金層一般為TiCN，主要是增加玫瑰金的硬度和耐磨度。影響靶中毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過量就會導致靶中毒。南通硫化鎘靶廠家
直流磁控濺射制備鋅-銻熱電薄膜的技術探討 熱電材料是一種能夠實現(xiàn)熱能和電能直接相互轉換的綠色環(huán)保型功能材料。近年來研究發(fā)現(xiàn)，熱電薄膜化有助于熱電材料減低熱導率，從而能夠有效的提高材料的熱電轉換效率，因此具有十分重要的科學研究價值。Zn-Sb合金是采用的P 型熱電半導體材料之一，但由于其較低的熱電優(yōu)值，所以沒有得到普遍的應用。 但近幾年研究發(fā)現(xiàn)，在263 K~767K 溫度區(qū)間穩(wěn)定存在的β-Zn4Sb3 具有非常優(yōu)異的熱電性能，材料少含稀土材料以及可適用于中溫，被國內外認為是具有前景的中溫熱電材料之一。因此，本文選取純度為99.99%的Zn 和Sb 金屬靶作為靶材，采用直流磁控共濺射技術，制備Zn-Sb 合金熱電薄膜，研究不同熱處理條件下合成的Zn-Sb 化合物熱電薄膜的結構與熱電特性變化規(guī)律。 結果表明，選取適當?shù)臑R射Zn和Sb的功率條件，濺射完成合金薄膜后在Ar 氣氛下進行623 K 退火熱處理，可形成具有單一β-Zn4Sb3相結構的Zn-Sb 熱電薄膜，且薄膜顆粒大，較致密，所制備的熱電薄膜具有優(yōu)良的熱電性能。常州鈦酸鍶鋇靶調試濺射出靶材的原子、原子團、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團沉積到基材上形成薄膜。
等離子預處理工藝在真空鍍鋁膜中的應用。 等離子體是電離了的氣體。它由電子、離子和中性粒子3種成分組成，其中電子和離子的電荷總數(shù)基本相等，故整體是電中性的。在基材薄膜鍍鋁前，通過等離子處理裝置將電離的等離子體中的電子或離子打到基材薄膜表面，一方面，可以打開材料的長分子鏈，出現(xiàn)高能基團；另一方面，經打擊使薄膜表面出現(xiàn)細小的凹陷，同時還可使表面雜質離解、重解。電離時放出的臭氧有強氧化性，附著的雜質被氧化而除去，使鍍鋁基材薄膜的表面自由能提高，達到提高鍍鋁層附著牢度的目的。 等離子預處理技術在不同公司其稱呼不同，如英國Bobst公司、德國Leybold Optic萊寶光電等稱之為等離子預處理，美國Applied Material公司稱之為輝光放電，英國Rexam公司為其注冊商標為Camplus技術。另外，不同公司其使用的工藝氣體的組分也有所不同，多數(shù)公司使用氧氣和氬氣的組合，也有少數(shù)公司使用氮氣或氧氣與氮氣的組合。實踐證明經過等離子處理后的薄膜其鍍鋁層附著牢度可以提高30-50%，且表現(xiàn)為非極性材料提高幅度高于極性材料。
濺射鍍膜不良膜層分析，改善方法： 1.白霧主要表現(xiàn)：膜層外觀一層白霧。 原因分析及改善：（白霧可擦拭）：外層膜松散粗糙；出爐溫差大；潮氣吸附；膜層結構不均勻；反應氣體不足/不均勻；外層膜應力大等。 （白霧不可擦拭）：殘留臟污；材腐蝕污染；膜層之間不匹配；反應氣體不足/不均勻；基材受潮污染；真空室臟有水汽；環(huán)境溫差大。 2.發(fā)蒙主要表現(xiàn)：膜層表面粗糙無光。 原因分析及改善：設備漏氣；反應氣體故障；膜層過厚；偏壓故障； 3.色斑主要表現(xiàn)：局部膜色變異。 原因分析及改善：腐蝕，局部折射率改變；前道工程夾具加工方法痕跡（形狀規(guī)則、部位一致、界限分明）； 周轉運輸庫存過程留下痕跡；研磨拋光殘留；多層膜系中，部分膜層過薄；機組微量返油。 4.打火 5.碰擦傷主要表現(xiàn)：劃痕碰傷。 原因分析及改善：劃痕有膜層：鍍前碰擦傷；劃痕無膜層（漏基材）：鍍后碰擦傷。降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。
靶材材質對靶濺射電壓的影響 1. 在真空條件不變的條件下,不同材質與種類靶材對磁控靶的正常濺射電壓會產生一定的影響。 2. 常用的靶材(如銅Cu、鋁Al、鈦Ti?)的正常濺射電壓一般在400~600V的范圍內。 3. 有的難濺射的靶材(如錳Mn、鉻Cr等) 的濺射電壓比較高, 一般需>700V以上才能完成正常磁控濺射過程;而有的靶材(如氧化銦錫ITO) 的濺射電壓比較低，可以在200多伏電壓時實現(xiàn)正常的磁控濺射沉積鍍膜。 4. 實際鍍膜過程中，由于工作氣體壓力變化，或陰極與陽極間距偏小(使真空腔體內阻抗特性發(fā)生變化)，或真空腔體與磁控靶的機械尺寸不匹配，同時選用了輸出特性較軟的靶電源等原因，導致磁控靶的濺射電壓(即靶電源輸出電壓)遠低于正常濺射示值，則可能會出現(xiàn)靶前存雖然呈現(xiàn)出很亮的光圈，就是不能見到靶材離子相應顏色的泛光，以至不能濺射成膜的狀況。為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。揚州銅鎳靶價錢
所以結論就活性金屬靶材要求表面拋光，不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。南通硫化鎘靶廠家
PVD技術常用的方法PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯(lián)系的一種薄膜沉積技術。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應濺射等，而用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進行濺射。RF濺射不可以沉積金屬膜，而且可以沉積多種材料的絕緣介質膜，因而使用范圍較廣。電弧離子鍍陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積，該技術材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。南通硫化鎘靶廠家
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發(fā)展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。