目前市場上常見的合金靶材有哪些？ 鈦鋁靶材,TiAl靶材，鈦硅靶材,TiSi靶材，鈦鎢靶材,TiW靶材，鎢鈦靶材WTi靶材，鈦鋁硅靶材,TiAlSi靶材，鉻鋁靶材,CrAl靶材，鉻硅靶材,CrSi靶材，硅鋁靶材,SiAl靶材，鋅錫靶材,ZnSn靶材，鋅鋁靶材,ZnAl靶材，鋁銅靶材,AlCu靶材，鎳鉻靶材,NiCr靶材，鎳釩靶材,NiV靶材，鎳鐵靶材,NiFe靶材，鎳銅靶材,NiCu靶材，鐵鈷靶材,FeCo靶材，鈦鈮靶材,TiNb靶材，鈦鋯靶材,TiZr靶材，銦錫靶材,InSn靶材，銅鋯靶材,CuZr靶材，鎂鋅鈣靶材,MgZnCa靶材，鎳鉻銅靶材,NiCrCu靶材，鉬鈮靶材,MoNb靶材，鋁釹靶材,AlNd靶材，鋁鈧靶材,AlSc靶材，銀鋁靶材,AgAl靶材， 鉻鋁硅靶材,CrAlSi靶材，鏑鋁靶材,DyAl靶材，鈮鋯靶材,NbZr靶材等等。半導體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。合肥釔鐵石榴石靶型號
直流磁控濺射制備鋅-銻熱電薄膜的技術探討 熱電材料是一種能夠實現(xiàn)熱能和電能直接相互轉換的綠色環(huán)保型功能材料。近年來研究發(fā)現(xiàn)，熱電薄膜化有助于熱電材料減低熱導率，從而能夠有效的提高材料的熱電轉換效率，因此具有十分重要的科學研究價值。Zn-Sb合金是采用的P 型熱電半導體材料之一，但由于其較低的熱電優(yōu)值，所以沒有得到普遍的應用。 但近幾年研究發(fā)現(xiàn)，在263 K~767K 溫度區(qū)間穩(wěn)定存在的β-Zn4Sb3 具有非常優(yōu)異的熱電性能，材料少含稀土材料以及可適用于中溫，被國內外認為是具有前景的中溫熱電材料之一。因此，本文選取純度為99.99%的Zn 和Sb 金屬靶作為靶材，采用直流磁控共濺射技術，制備Zn-Sb 合金熱電薄膜，研究不同熱處理條件下合成的Zn-Sb 化合物熱電薄膜的結構與熱電特性變化規(guī)律。 結果表明，選取適當?shù)臑R射Zn和Sb的功率條件，濺射完成合金薄膜后在Ar 氣氛下進行623 K 退火熱處理，可形成具有單一β-Zn4Sb3相結構的Zn-Sb 熱電薄膜，且薄膜顆粒大，較致密，所制備的熱電薄膜具有優(yōu)良的熱電性能。揚州磷酸鐵鋰靶作用磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應對？
電致變色的工作原理： 電致變色材料在外加電場作用下發(fā)生電化學氧化還原反應，得失電子，使材料的顏色發(fā)生變化電致變色器件的典型結構器件結構從上到下分別為：玻璃或透明基底材料、透明導電層（如：ITO）、電致變色層、電解質層、離子存儲層、透明導電層（如：ITO）、玻璃或透明基底材料。器件工作時，在兩個透明導電層之間加上一定的電壓，電致變色層材料在電壓作用下發(fā)生氧化還原反應，顏色發(fā)生變化；而電解質層則由特殊的導電材料組成，如包含有高氯酸鋰、高氯酸納等的溶液或固體電解質材料；離子存儲層在電致變色材料發(fā)生氧化還原反應時起到儲存相應的反離子，保持整個體系電荷平衡的作用，離子存儲層也可以為一種與前面一層電致變色材料變色性能相反的電致變色材料，這樣可以起到顏色疊加或互補的作用。如：電致變色層材料采用的是陽極氧化變色材料，則離子存儲層可采用陰極還原變色材料。
電子束鍍膜 Au-T4025 金 靶材 99.99% φ50.8*5mm 磁控濺射鍍膜 Pt-T4034 鉑 靶材 99.99% φ60*4mm 磁控濺射鍍膜 Pd-T3575 鈀 靶材 99.95% φ101.6*5mm 磁控濺射鍍膜 Ag-T4043 銀 靶材 99.99% φ76.2*3mm 磁控濺射鍍膜 Al-T5015 鋁 靶材 99.999% φ50*5mm 磁控濺射鍍膜 Ti-T4543 鈦 靶材 99.995% φ76.2*3mm 磁控濺射鍍膜 Ni-T4562 鎳 靶材 99.995% φ100*2mm 磁控濺射鍍膜 Cr-T4554 鉻 靶材 99.995% φ80*4mm 磁控濺射鍍膜 Si-T4533 硅 靶材 99.995% φ60*3mm 磁控濺射鍍膜 Au-W5004 金 絲 99.999% φ1mm 熱蒸發(fā)鍍膜 Al-W5004 鋁 絲 99.999% φ1mm 熱蒸發(fā)鍍膜 Ag-W4004 銀 絲 99.99% φ1mm 熱蒸發(fā)鍍膜 W-W4011 鍍鉻鎢絲 99.99% φ1*130mm 熱蒸發(fā)鍍膜 Au-W5002 鍵合金絲 φ25μm 500m/軸 耗材配件 W-B35310P 鉬舟 310型 100*10*0.3mm 耗材配件 Mo-B35310P 鎢舟 310型 100*10*0.3mm 耗材配件 W-B35215Y 蝴蝶型鎢舟 215型 100*15*0.2mm 耗材配件 C-C4013 石墨 坩堝 25cc 尺寸可定制 耗材配件 Cu-C4014 銅 坩堝 30cc 尺寸可定制 耗材配件 W-C3515 鎢 坩堝 40cc 尺寸可定制 耗材配件 Pt-C3511 鉑 坩堝 7cc 尺寸可定制 耗材配件 SiO2-S4001 石英片 10*10*1mm磨邊 表面拋光 耗材配件 G-S4002 GGG襯底
化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。
真空鍍膜設備替代電鍍設備是發(fā)展的必然 2012年全國化學電鍍產生的污水和重金屬排放量達到3.5億噸，固體廢物達到4.1萬噸，酸性氣體達到2.3萬立方米，由于真空鍍膜設備逐漸應用到市場上，污染排放量比2011年有所下降，但仍是一個不可忽視的數(shù)據(jù)，為處理這大量的污染，大部分企業(yè)已投放了共5868.1億元在污水治理方面，464.8億元在固體廢物治理方面，974.9億元在酸性氣體治理方面，但仍然有部分企業(yè)沒有完善治理措施，造成大量污染。 使用真空鍍膜設備進行電鍍可以有效改善污染情況，它不像化學電鍍需要使用重金屬溶液和酸性溶液進行鍍膜，而是在真空環(huán)境下利用蒸發(fā)或濺射方式進行鍍膜，完全沒有污染產生，是一種綠色低碳、符合可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的產業(yè)，已經越來越多企業(yè)淘汰了舊方式化學電鍍而轉用真空電鍍，但還有很多企業(yè)沒意識到環(huán)保的重要性，不懂得綠色生產其實是為自己和后代創(chuàng)建美好生存環(huán)境的道理。 綠色環(huán)保產業(yè)是必然的發(fā)展趨勢，造成嚴重污染的化學電鍍終會退出歷史舞臺，取而代之的是真空電鍍，利用真空鍍膜機鍍膜成為主流是不可質疑的。而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。揚州磷酸鐵鋰靶作用
如果不能及時調整反應氣體流量，化合物覆蓋面積增加的速率得不到***，濺射溝道將進一步被化合物覆蓋。合肥釔鐵石榴石靶型號
而射頻濺射的使用范圍更為***，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。三．真空鍍膜中靶材中毒會出現(xiàn)哪些想象，如何解決？1、靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學反應無法繼續(xù)進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以，化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。合肥釔鐵石榴石靶型號
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發(fā)展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。