鈦酸鋇靶材調(diào)試

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-12-23

與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv;所得靶材組件濺射強(qiáng)度差,使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。對(duì)比例4與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv;所得靶材組件濺射強(qiáng)度差,使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。通過(guò)上述實(shí)施例和對(duì)比例的結(jié)果可知,本發(fā)明中,通過(guò)調(diào)整靶材表面的高度差及硬度,保證濺射強(qiáng)度,使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。申請(qǐng)人聲明,本發(fā)明通過(guò)上述實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征,但本發(fā)明并不局限于上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征,即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征才能實(shí)施。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了,對(duì)本發(fā)明的任何改進(jìn),對(duì)本發(fā)明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等,均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍和公開(kāi)范圍之內(nèi)。以上詳細(xì)描述了本發(fā)明的 實(shí)施方式,但是,本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié),在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi),可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型,這些簡(jiǎn)單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。為確保足夠的導(dǎo)熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。鈦酸鋇靶材調(diào)試

其他服務(wù):打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工服務(wù)?;厥樟鞒倘缦?稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品江陰典譽(yù)新材料科技有限公司,是專業(yè)從事鍍膜材料、合金制備等相關(guān)材料研發(fā)、銷(xiāo)售、服務(wù)為一體的全球化高科技綜合性公司。以業(yè)內(nèi) 企業(yè)為支撐,整合技術(shù)資源,擁有自主進(jìn)出口經(jīng)營(yíng)權(quán)和成熟的運(yùn)營(yíng)管理團(tuán)隊(duì),科學(xué)化管理運(yùn)營(yíng),為公司向化、高新化發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。典譽(yù)新材料在光電器件、芯片半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、光學(xué)鍍膜、航空航天、 、冶金、功能材料、新能源等行業(yè)產(chǎn)品開(kāi)發(fā)、創(chuàng)新方面,有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以客戶需求為導(dǎo)向,以前沿技術(shù)為基礎(chǔ),開(kāi)發(fā)了多個(gè)產(chǎn)品系列,涵蓋濺射靶材、蒸鍍膜料、高純合金、金屬粉末、耗材配件等千余種產(chǎn)品,質(zhì)量穩(wěn)定、工藝完善,得到廣大客戶好評(píng)。典譽(yù)新材料堅(jiān)持“誠(chéng)信為本、高質(zhì)的經(jīng)營(yíng)理念,關(guān)注客戶需求,追求客戶滿意,以服務(wù)求生存,以質(zhì)量求發(fā)展,不斷優(yōu)化產(chǎn)品線,為廣大用戶提供一站式服務(wù),力爭(zhēng)做全球 的金屬材料供應(yīng)商。成都Eu靶材廠家因?yàn)橛锰幉灰粯?,所以不同用途的靶材?duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。

拋光片部分310的厚度均勻。所述拋光片第三部分330的厚度均勻。位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度不均,即所述拋光片第二部分320的厚度不均。拋光片部分310的厚度與所述拋光片第三部分330的厚度相等,均為2mm~3mm。拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為分體的。在其他實(shí)施例中,所述拋光片部分、拋光片第二部分及拋光片第三部分還可以為一體成型。靶材拋光裝置100還包括:防護(hù)層400,所述防護(hù)層400位于所述固定板200與所述拋光片300之間。所述防護(hù)層400為彈性材料,能夠在所述固定板200及靶材間提供緩沖,避免所述固定板200觸撞靶材導(dǎo)致靶材受損。本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400的厚度為30mm~35mm。若所述防護(hù)層400的厚度過(guò)小,所述防護(hù)層400起到的緩沖效果差,難以有效的保護(hù)靶材。若所述防護(hù)層400的厚度過(guò)大,使得所述防護(hù)層400的體積過(guò)大,進(jìn)而造成所述靶材拋光裝置100的體積過(guò)大,對(duì)操作者使用所述靶材拋光裝置100帶來(lái)不必要的困難。

直流磁控濺射制備鋅-銻熱電薄膜的技術(shù)探討 熱電材料是一種能夠?qū)崿F(xiàn)熱能和電能直接相互轉(zhuǎn)換的綠色環(huán)保型功能材料。近年來(lái)研究發(fā)現(xiàn),熱電薄膜化有助于熱電材料減低熱導(dǎo)率,從而能夠有效的提高材料的熱電轉(zhuǎn)換效率,因此具有十分重要的科學(xué)研究?jī)r(jià)值。Zn-Sb合金是采用的P 型熱電半導(dǎo)體材料之一,但由于其較低的熱電優(yōu)值,所以沒(méi)有得到普遍的應(yīng)用。   但近幾年研究發(fā)現(xiàn),在263 K~767K 溫度區(qū)間穩(wěn)定存在的β-Zn4Sb3 具有非常優(yōu)異的熱電性能,材料少含稀土材料以及可適用于中溫,被國(guó)內(nèi)外認(rèn)為是具有前景的中溫?zé)犭姴牧现弧R虼?,本文選取純度為99.99%的Zn 和Sb 金屬靶作為靶材,采用直流磁控共濺射技術(shù),制備Zn-Sb 合金熱電薄膜,研究不同熱處理?xiàng)l件下合成的Zn-Sb 化合物熱電薄膜的結(jié)構(gòu)與熱電特性變化規(guī)律。   結(jié)果表明,選取適當(dāng)?shù)臑R射Zn和Sb的功率條件,濺射完成合金薄膜后在Ar 氣氛下進(jìn)行623 K 退火熱處理,可形成具有單一β-Zn4Sb3相結(jié)構(gòu)的Zn-Sb 熱電薄膜,且薄膜顆粒大,較致密,所制備的熱電薄膜具有優(yōu)良的熱電性能。陽(yáng)極消失:靶中毒時(shí),接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜,到達(dá)陽(yáng)極的電子無(wú)法進(jìn)入陽(yáng)極,形成陽(yáng)極消失現(xiàn)象。

靶材磁控濺射的原理是什么?磁控濺射原理:在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng),濺射靶材在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場(chǎng),同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負(fù)高壓,從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單,在濺射金屬時(shí),其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更大,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。武漢Au靶材作用

所以如果是表面容易變質(zhì)的靶材,如果不拋光去除表面變質(zhì)部分,沉積到基材上的膜層性質(zhì)就是表面變質(zhì)的雜質(zhì)。鈦酸鋇靶材調(diào)試

本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中,所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400與所述固定板200間通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中,所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)(圖中未示出),所述防護(hù)層與所述拋光片間通過(guò)所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。所述防護(hù)層400包括防護(hù)層和第二防護(hù)層,所述防護(hù)層覆蓋所述頂板210底部表面;所述第二防護(hù)層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護(hù)層表面與第二防護(hù)層表面相垂直。鈦酸鋇靶材調(diào)試

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