武漢鋅鋁靶廠家

來源: 發(fā)布時間:2021-12-29

磁控濺射鍍膜生產ZnO∶Al(AZO)薄膜的工藝探討目前主要的薄膜太陽能電池有:碲化鎘(CdTe)系薄膜太陽能電池、硒銦銅(CIS)系薄膜太陽能電池、非晶硅系薄膜太陽能電池、晶硅系薄膜太陽能電池。研究人員研制出了價格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶Al陷光結構來作為薄膜太陽能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結構的AZO透明導電薄膜可以增強太陽光的散射作用,改善陷光效果,增加電池對太陽能的吸收量,提高薄膜太陽能電池的轉換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優(yōu)點,是較為合適的生產AZO薄膜的工藝方法。目前由磁控濺射工藝生產透明導電薄膜AZO時所用靶材有兩種類型:①陶瓷AZO靶材;②合金鋅鋁靶材。應根據(jù)實際情況,選擇適合本企業(yè)的靶材產品。作為一種新的TCO材料,AZO相對于ITO和FTO有很大優(yōu)勢,要大規(guī)模產業(yè)化還必須在如何降低設備及工藝成本上進一步研發(fā)。從根本上說,AZO薄膜的結構性能的好壞決定了其光電性能的優(yōu)劣,必須在工藝參數(shù)上多做研究,實現(xiàn)高質量和低成本的雙贏。陽極消失:靶中毒時,接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜,到達陽極的電子無法進入陽極,形成陽極消失現(xiàn)象。武漢鋅鋁靶廠家

真空鍍膜機在塑膠行業(yè)的應用  真空鍍膜機應該普遍,在塑料行業(yè)的應該也很普遍。而塑膠在生活,工業(yè),電器,航空等領域都有涉及。塑膠具有易成型,價格便宜,質量輕,防腐蝕等優(yōu)點,但塑膠的缺點也比較突出,其缺點也制約了塑膠的應用范圍,如不美觀、易老化、機械性能差、易碎易變型、耐熱差等。通過真空鍍膜機的應用,使塑膠表面鍍上特定膜層,東莞匯成真空自主研發(fā)生產的蒸發(fā)真空鍍膜設備將鍍膜機材料和塑膠產呂完美結合,提高了塑膠制品的物理、化學性能。 一、改善表面硬度,原塑膠表面比金屬軟而易受損害,通過真空鍍膜,硬度及耐磨性增加; 二、使塑料表面有導電性; 三、容易清洗,不吸塵; 四、改善塑膠外觀,表面光滑,金屬感強,色澤光鮮,裝飾性提高。武漢鋅鋁靶廠家此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。

涂布技術在真空鍍鋁膜中的應用 將涂布技術與真空鍍鋁技術結合起來,通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層,以達到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等,滿足不同應用領域的要求。 一.經過等離子預處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高,但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高,或者需要用于水煮殺 菌條件時仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求,通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學涂層,該涂層不對鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能,同時可以滿足后續(xù)的水煮殺 菌條件。涂布后的包裝可以滿足巴氏殺 菌的要求,其鍍鋁層不會因為水煮而發(fā)生氧化。  二.為進一步提高鍍鋁膜的阻隔性能,同時保護鍍鋁層在后續(xù)的印刷、復合等加工過程中不被破壞,可以通過在鍍鋁層上涂布一層高阻隔的納米涂層或聚合物涂層來實現(xiàn)。 三.為提高鍍鋁膜的裝飾性能,在基材薄膜鍍鋁前或鍍鋁后進行各種顏色的涂布,或模壓后再進行鍍鋁,使得鍍鋁膜具有多彩的顏色或具有鐳射效果。此類產品可分為三種:包裝用膜、裝飾用膜、標示用膜。主要應用于禮品、禮盒的裝飾或防偽包裝用途,如食品、藥品、玩具等的外包裝以及酒等的防偽包裝。

什么是DLC薄膜?類金剛石薄膜通常又被人們稱為DLC薄膜,是英文詞匯DiamondLikeCarbon的簡稱,它是一類性質近似于金剛石,具有高硬度,高電阻率。良好光學性能等,同時又具有自身獨特摩擦學特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結合方式,從而使其終產生不同的物質:金剛石(diamond)—碳碳以sp3鍵的形式結合;石墨(graphite)—碳碳以sp2鍵的形式結合。而類金剛石(DLC)—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結合,生成的無定形碳的一種亞穩(wěn)定形態(tài),它沒有嚴格的定義,可以包括很寬性質范圍的非晶碳,因此兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性;所以由類金剛石而來的DLC膜同樣是一種亞穩(wěn)態(tài)長程無序的非晶材料,碳原子間的鍵合方式是共價鍵,主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵,而在含氫的DLC膜中還存在一定數(shù)量的C-H鍵。靶中毒時,靶面形成一層絕緣膜,正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋,不能直接進入陰極靶面。

一.靶材磁控濺射的原理是什么?磁控濺射原理:在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,濺射靶材在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),永久磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負高壓,從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。請參考設備商操作手冊中關于如何正確安裝靶材的相關信息。鎳銅靶調試

為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。武漢鋅鋁靶廠家

為什么需在真空中鍍膜? 在常壓下蒸鍍膜料無法形成理想的薄膜,事實上,如在壓力不夠低 ( 或者說真空度不夠高 ) 的情況下同樣得不到好的結果, 比如在10 2托數(shù)量級下蒸鍍鋁,得到的膜層不但不光亮,甚至發(fā)灰、發(fā)黑,而且機械強度極差,用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。 蒸鍍必須在一定的真空條件下進行,這是因為: (1)較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發(fā)源到基底的距離。 由于氣體分子的熱運動,分子之間的碰撞也是極其頻繁的,所以盡管氣體分子運動的速度相當?shù)母?( 可達每秒幾百米 ) 。 (2)在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下, 真空室內含有眾多的殘余氣體分子( 氧、氮、水及碳氫化合物等 ) ,它們能給薄膜的鍍制帶來極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短;它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應; 它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜;它們與蒸發(fā)源高溫化合減少其使用壽命;它們在已蒸發(fā)的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過程不能順利進行……。武漢鋅鋁靶廠家

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