南京碳化鈦靶圖片

為什么需在真空中鍍膜？ 在常壓下蒸鍍膜料無法形成理想的薄膜，事實(shí)上，如在壓力不夠低 ( 或者說真空度不夠高 ) 的情況下同樣得不到好的結(jié)果， 比如在10 2托數(shù)量級(jí)下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發(fā)灰、發(fā)黑，而且機(jī)械強(qiáng)度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。 蒸鍍必須在一定的真空條件下進(jìn)行，這是因?yàn)椋?（1）較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發(fā)源到基底的距離。 由于氣體分子的熱運(yùn)動(dòng)，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運(yùn)動(dòng)的速度相當(dāng)?shù)母?( 可達(dá)每秒幾百米 ) 。 （2）在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下， 真空室內(nèi)含有眾多的殘余氣體分子( 氧、氮、水及碳?xì)浠衔锏?) ，它們能給薄膜的鍍制帶來極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短；它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應(yīng)； 它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發(fā)源高溫化合減少其使用壽命；它們?cè)谝颜舭l(fā)的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過程不能順利進(jìn)行……。降低了等離子體阻抗，導(dǎo)致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。南京碳化鈦靶圖片

濺射靶材的分類有哪些？金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(Pb

As)，砷化銦靶材(InAs)。1.金屬靶材：鎳靶、Ni、鈦靶、T濺射靶材i、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、濺射靶材不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

成都陶瓷靶調(diào)試一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當(dāng)發(fā)生靶中毒時(shí)，濺射電壓會(huì)***降低。

購買靶材的注意事項(xiàng)有哪些許多用戶在采購靶材時(shí)沒有從專業(yè)的角度去考慮，下面為大家指出購買靶材時(shí)需要注意的事項(xiàng)。對(duì)于所有的金屬來說，純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，靶材的純度對(duì)后期產(chǎn)品薄膜的性能影響很大。但是每一個(gè)產(chǎn)品對(duì)靶材的純度要求也有不相同的地方。其次就是靶材的雜質(zhì)含量。在經(jīng)過一系列的靶材工藝處理后靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。因?yàn)橛锰幉灰粯?，所以不同用途的靶材?duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。比如現(xiàn)在的半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

什么是真空鍍鋁膜，應(yīng)用在哪些領(lǐng)域？ 真空鍍鋁薄膜是在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜的一種工藝，我國鍍鋁膜產(chǎn)能已達(dá)到40萬噸。主要用于風(fēng)味食品、日用品、農(nóng)產(chǎn)品、藥品、化妝品的包裝。 真空鍍鋁薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子束等加熱方式使鋁熔化蒸發(fā)，在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜的一種工藝。在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄膜或鍍鋁紙。 用于包裝上的真空鍍鋁薄膜具有鋁材用量少、耐折疊性高、阻隔性能高、抗靜電等特點(diǎn)，使鍍鋁薄膜成為一種性能優(yōu)良、經(jīng)濟(jì)美觀的新型復(fù)合薄膜，在許多方面已取代了鋁箔復(fù)合材料。主要用于風(fēng)味食品、日用品、農(nóng)產(chǎn)品、藥品、化妝品等的包裝。一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物。

磁控濺射鍍膜生產(chǎn)ZnO∶Al（AZO）薄膜的工藝探討目前主要的薄膜太陽能電池有：碲化鎘（CdTe）系薄膜太陽能電池、硒銦銅（CIS）系薄膜太陽能電池、非晶硅系薄膜太陽能電池、晶硅系薄膜太陽能電池。研究人員研制出了價(jià)格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶Al陷光結(jié)構(gòu)來作為薄膜太陽能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結(jié)構(gòu)的AZO透明導(dǎo)電薄膜可以增強(qiáng)太陽光的散射作用，改善陷光效果，增加電池對(duì)太陽能的吸收量，提高薄膜太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導(dǎo)電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優(yōu)點(diǎn)，是較為合適的生產(chǎn)AZO薄膜的工藝方法。目前由磁控濺射工藝生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜AZO時(shí)所用靶材有兩種類型：①陶瓷AZO靶材；②合金鋅鋁靶材。應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況，選擇適合本企業(yè)的靶材產(chǎn)品。作為一種新的TCO材料，AZO相對(duì)于ITO和FTO有很大優(yōu)勢，要大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化還必須在如何降低設(shè)備及工藝成本上進(jìn)一步研發(fā)。從根本上說，AZO薄膜的結(jié)構(gòu)性能的好壞決定了其光電性能的優(yōu)劣，必須在工藝參數(shù)上多做研究，實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量和低成本的雙贏。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。南京碳化鈦靶圖片

所以結(jié)論就活性金屬靶材要求表面拋光，不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。南京碳化鈦靶圖片

PVD技術(shù)簡介PVD技術(shù)是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，PVD有很多優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境無污染，是綠色環(huán)保工藝；對(duì)操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻。PVD技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù)）、濺射鍍膜（包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱物相沉積（PhysicalVaporDeposition），簡稱為PVD。行業(yè)內(nèi)通常所說的“IP”（ionplating）離子鍍膜，是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強(qiáng)調(diào)離子的作用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。南京碳化鈦靶圖片

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂兩套，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。