氣密性檢漏儀價(jià)錢

檢漏儀應(yīng)用于調(diào)節(jié)閥氣路管道檢漏：調(diào)節(jié)閥檢漏，閥門氣密性測(cè)試方案是向閥門內(nèi)充入設(shè)定壓力的氦氣，如在被檢測(cè)處如閥桿等，用檢漏儀正壓法（吸口法）檢測(cè)，吸口法檢測(cè)的精度可充分滿足氣密性檢測(cè)要求。檢漏儀用于調(diào)節(jié)閥的氣路管道進(jìn)行檢漏, 檢漏標(biāo)準(zhǔn)是漏率小于100ppm或者10-4 至 10-6Pa.m3/s. 同時(shí)需要提供快速, 清潔的檢漏環(huán)境. 采用檢漏儀吸口模式, 即在密封的氣體管路中充入一定量的氦氣, 然后進(jìn)行檢漏。檢漏儀同時(shí)擁有兩種檢漏模式真空模式及正壓模式，可根據(jù)客戶不同需求，選擇不同的檢漏方法。閥門多采用檢漏儀的負(fù)壓模式既真空模式檢漏，其較小可檢查漏率為5X10-12mbar l/s。檢漏儀在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用有三種關(guān)鍵檢漏方法，即正壓吸口式、真空泵檢漏、工作壓力真空泵檢漏。氣密性檢漏儀價(jià)錢

檢漏儀在火電廠的應(yīng)用：檢漏儀先在質(zhì)譜室中將采集的被測(cè)氣體電離，再利用電磁場(chǎng)將不同荷質(zhì)比的離子加以分離檢測(cè)，從中檢測(cè)出事先安排的示蹤氦離子，主要由三大組件構(gòu)成:真空系統(tǒng)、質(zhì)譜室和電子學(xué)控制單元。檢漏儀內(nèi)部配有一臺(tái)旋片式真空泵，用以維持儀器內(nèi)部的高真空。質(zhì)譜室是檢漏儀的重點(diǎn)部分，它包括離子源、聚焦、質(zhì)量分析器和測(cè)量部分。質(zhì)譜室入口連接在渦輪分子泵的前級(jí)真空部分，分子泵對(duì)不同的氣體具有不同的壓縮比特性，氦氣的壓縮比很小，可以逆著分子泵的抽氣方向流動(dòng)進(jìn)入質(zhì)譜室。在質(zhì)譜室中氦氣被電離，氦離子通過質(zhì)量分析器的篩選到達(dá)收集極，產(chǎn)生一個(gè)正比于離子數(shù)量的電流信號(hào)，該信號(hào)經(jīng)過放大和處理即為泄漏率。溫州小型檢漏設(shè)備檢漏儀的日常運(yùn)轉(zhuǎn)之中可以方便的將檢測(cè)的數(shù)據(jù)輸出并且進(jìn)行查詢。

關(guān)于檢漏儀的一些知識(shí)點(diǎn)：儀器的反應(yīng)時(shí)間及清理時(shí)間，儀器的反應(yīng)時(shí)間是質(zhì)譜檢漏儀的主要性能指標(biāo)之一。檢漏時(shí)，當(dāng)氦氣剛剛噴及漏孔處，即使不考慮氦氣通過漏孔的時(shí)間，也不可能立即引起質(zhì)譜室中氦分奢的急劇變化，也就是說不會(huì)立即引起輸出電流的急劇變化，而要有一個(gè)過程。假定漏孔漏率為QHe，質(zhì)譜室處對(duì)氦的抽速為SHe，質(zhì)譜室至被檢容器間的總?cè)莘e為V，那么在dt的時(shí)間內(nèi)漏入的氦氣量為QHedt。它的一部分被抽走，另一部分在質(zhì)譜室中建立起氦分壓pHe（不包括本底）。被抽走的氦量為pHeSHedt，使質(zhì)譜室容積V內(nèi)氦壓力升高dpHe時(shí)的氦量為VdpHe。因此有等式兩邊除以dt，并經(jīng)移項(xiàng)整理后得到。

檢漏儀檢漏法是利用氦分壓力測(cè)量原理，實(shí)現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測(cè)量。當(dāng)被檢件密封面上存在漏孔時(shí)，示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會(huì)從漏孔泄出，泄漏出來的氣體進(jìn)入后，由于選擇性識(shí)別能力，只給出氣體中的氦氣分壓力信號(hào)值。在獲得氦氣信號(hào)值的基礎(chǔ)上，通過標(biāo)準(zhǔn)漏孔比對(duì)的方法就可以獲得漏孔對(duì)氦泄漏量。采用真空法檢漏時(shí)，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣，當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí)，氦氣就會(huì)通過漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部，再進(jìn)入檢漏儀，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。使用檢漏儀要遵照檢漏儀的操作說明操作，直至達(dá)到可以檢測(cè)的狀態(tài)。

檢漏儀的整體結(jié)構(gòu)有哪些？電氣系統(tǒng)，氦質(zhì)譜儀電氣部分的重點(diǎn)是質(zhì)譜室的供電和測(cè)量，其他部分包括真空系統(tǒng)的電源與控制部分，操縱面板及輸出儀表等。主要含有小電流放大器及輸出裝置、低頻發(fā)生器、高壓整流器及發(fā)射電流穩(wěn)定裝置、高壓整流器供給冷陰極磁控規(guī)電源。輔助真空系統(tǒng)的配置，在氦質(zhì)譜儀檢漏技術(shù)中，根據(jù)被檢件的結(jié)構(gòu)，尺寸要求和具體的檢漏條件，設(shè)置具有預(yù)抽被檢件、保證檢漏儀工作真空度、進(jìn)行的氣體分流、縮短反應(yīng)時(shí)間和清理時(shí)間、降低對(duì)靈敏度的不良影響等功能的輔助真空系統(tǒng)，在某些條件下是非常必要的。檢漏儀可以用于鍍膜設(shè)備的檢漏。安徽氦氣檢漏儀哪個(gè)牌子好

便攜式檢漏儀可以快速找到泄漏點(diǎn)，適合批量操作。氣密性檢漏儀價(jià)錢

檢漏儀有測(cè)量誤差的原因：第1，當(dāng)檢漏儀的校準(zhǔn)靈敏度時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)泄漏的位置不同于被檢測(cè)泄漏的位置，即標(biāo)準(zhǔn)泄漏與被檢測(cè)泄漏到檢漏儀之間的距離太大，在途中泄漏的氦損失不相等，導(dǎo)致兩者進(jìn)入檢漏儀的氦可比性差。第二，氦壓或分壓比不等于被檢漏孔和標(biāo)準(zhǔn)漏孔，或氦壓力和分壓比值不能準(zhǔn)確給出，導(dǎo)致無法轉(zhuǎn)換，也會(huì)產(chǎn)生漏率測(cè)量誤差。第三，標(biāo)準(zhǔn)漏孔的標(biāo)稱漏率存在誤差。第四，檢漏儀輸出指示與漏率線性關(guān)系差。第五，當(dāng)校準(zhǔn)靈敏度或通過比較法確定泄漏率時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)泄漏的氣流特性不同于檢測(cè)到的泄漏。氣密性檢漏儀價(jià)錢

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