樹脂真空鍍膜方法

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-10-21

隨著工業(yè)的迅速發(fā)展,塑料電鍍的應(yīng)用日益普遍,成為塑料產(chǎn)品中表面裝飾的重要手段之一。目前國(guó)內(nèi)外已普遍在ABS、聚丙烯、聚砜、聚碳酸酯、尼龍、酚醛玻璃纖維增強(qiáng)塑料、聚苯乙烯等塑料表面上進(jìn)行電鍍,其中尤以ABS塑料電鍍應(yīng)用廣,電鍍效果好。塑料電鍍外觀要求比金屬制品的電鍍面更光潔,光亮度一般都能達(dá)到,但在其程度上就有一定的差別。通常認(rèn)為,較好的塑料電鍍外觀是亮中發(fā)“烏黑”,光亮度視覺感很“厚實(shí)”。這種宏觀感覺是由表面的微觀狀態(tài)所決定的,也就是說(shuō)微觀表面必須非常平整。塑料電鍍的鍍層不能有霧狀存在,極輕微的霧狀,在強(qiáng)光下或正視時(shí)是發(fā)現(xiàn)不了的,要在特定的角度和光線下才能發(fā)現(xiàn),因此易被忽視。至于露塑、脫皮、毛刺、麻點(diǎn)和深鍍差等缺陷,在塑料電鍍中是不允許存在的。某些次要考核部位及反面等各部位都要有鍍層包覆,且色澤鮮亮,不能發(fā)黑、露塑及有夾具拉毛印。紫外光(UV)固化真空鍍膜底漆。樹脂真空鍍膜方法

PVD技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí),由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下,因此可作為處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用PVD工藝可大幅度提高刀具的切削性能,人們?cè)诟?jìng)相開發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的同時(shí),也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。CVD技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng),在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。湖北五金鋁材真空鍍膜方法進(jìn)口和國(guó)產(chǎn)真空鍍膜技術(shù)的本質(zhì)有何區(qū)別?

與濕式鍍膜技術(shù)相比較,真空鍍膜技術(shù)具有下列優(yōu)點(diǎn):(1)薄膜和基體選材廣,薄膜厚度可進(jìn)行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液,也無(wú)環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較,具有上述一些優(yōu)點(diǎn)。

真空鍍膜時(shí),蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴(kuò)散深度通常只為幾百個(gè)埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。也就是說(shuō)比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說(shuō)幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層,好似截然分開。而離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能。如果說(shuō)普通真空鍍膜的粒子相當(dāng)于一個(gè)氣喘吁吁的長(zhǎng)跑運(yùn)動(dòng)員,那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客,當(dāng)其高速轟擊工件時(shí),不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層,離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米,也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。常見的塑料件產(chǎn)品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍。

UV鍍膜生產(chǎn)工藝流程及參數(shù):一:檢查線體,確認(rèn)各系統(tǒng)(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運(yùn)轉(zhuǎn)正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無(wú)塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整;五:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過(guò)4小時(shí)),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據(jù)需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測(cè)。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。湖北五金鋁材真空鍍膜方法

真空鍍膜主要分蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜和化學(xué)氣相沉積幾種。樹脂真空鍍膜方法

真空鍍膜的方法主要有:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強(qiáng)約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積:通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍:實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼有兩者的工藝特點(diǎn)。樹脂真空鍍膜方法

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