什么是負(fù)離子,沃壹小編給大家分析一下
負(fù)離子室內(nèi)呼吸健唐解決方案燃爆國(guó)際綠色建博覽會(huì)
【負(fù)離子科普二】自然界中的負(fù)離子從哪里來(lái)的?
多地呼吸道ganran高發(fā),門(mén)診爆滿,秋冬呼吸道疾病高發(fā)期的易踩誤區(qū)
負(fù)離子發(fā)生器的原理是什么呢?
負(fù)離子到底是什么,一般涉及到的行業(yè)、產(chǎn)品有哪些?
負(fù)離子空氣凈化器去除PM2.5
關(guān)于負(fù)離子的常見(jiàn)十問(wèn)
運(yùn)動(dòng),需要選對(duì)時(shí)間和地點(diǎn)
負(fù)離子給我們生活帶來(lái)的好處-空氣凈化負(fù)離子發(fā)生器制造商
所述把手510包括桿狀部511和第二桿狀部512,所述桿狀部511的一端連接所述頂板210,另一端連接所述第二桿狀部512。所述桿狀部511延伸方向與所述頂板210表面相垂直,所述第二桿狀部512延伸方向與所述頂板210表面相平行。所述把手510的結(jié)構(gòu)有利...
基于非晶IGZO真空材料的阻變存儲(chǔ)器與憶阻器 從真空材料結(jié)構(gòu)及電子結(jié)構(gòu)角度入手,將In、Ga 元素引入到ZnO 材料中形成InGaZnO(IGZO)非晶合金材料,由于球?qū)ΨQ的In 5s 軌道交疊較大,使得該材料具有形變對(duì)電學(xué)輸運(yùn)影響較小且遷移率較高的特點(diǎn)。 ...
靶中毒現(xiàn)象: 正離子堆積:靶中毒時(shí),靶面形成一層絕緣膜,正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋,不能直接進(jìn)入陰極靶面,而是堆積在靶面上,容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧,使陰極濺射無(wú)法進(jìn)行下去。(2)陽(yáng)極消失:靶中毒時(shí),接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜,...
真空鍍膜離子鍍簡(jiǎn)析 真空鍍膜離子鍍,電鍍混合廢水處理生化過(guò)程與傳統(tǒng)的物理和化學(xué)過(guò)程,生物絮凝劑之間的區(qū)別可連續(xù)操作過(guò)程中的育種,生物絮凝劑,以去除金屬離子與生物絮凝增加量的增加的劑量,傳統(tǒng)的離子交換過(guò)程中的離子交換樹(shù)脂的交換容量是有限的,飽和吸附后,不再能夠除...
真空技術(shù)中的清潔處理 (一)概述 真空技術(shù)清潔處理一般指的是真空裝置的結(jié)構(gòu)材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空,增加連接強(qiáng)度和氣密性,提高產(chǎn)品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類(lèi)型 ①油脂:加工、安裝和操作時(shí)...
有一部分靶材在安裝之前需要拋光,比如鋁靶材等活性金屬靶材,長(zhǎng)期暴露在大氣中,表面容易形成一層氧化皮,在直流脈沖、中頻濺射過(guò)程中,離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮,所以一般在濺射的時(shí)候進(jìn)行物理拋光。 一般靶材拋光后,濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定,容易...
什么是靶材綁定 主要從靶材綁定的定義,適用范圍和背靶的選擇三個(gè)方面來(lái)為大家介紹一下靶材綁定。 一.靶材綁定的定義 靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來(lái)。主要由三種方式:壓接、釬焊和導(dǎo)電膠。 1.壓接:采用壓條,一般為了提高接觸的良...
靶中毒的解決辦法(1)采用中頻電源或射頻電源。(2)采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。(3)采用孿生靶(4)控制鍍膜模式的變換:在鍍膜前,采集靶中毒的遲滯效應(yīng)曲線,使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿,確保工藝過(guò)程始終處于沉積速率陡降前的模式。磁控濺射不起輝的常...
靶材材質(zhì)對(duì)靶濺射電壓的影響 1. 在真空條件不變的條件下,不同材質(zhì)與種類(lèi)靶材對(duì)磁控靶的正常濺射電壓會(huì)產(chǎn)生一定的影響。 2. 常用的靶材(如銅Cu、鋁Al、鈦Ti?)的正常濺射電壓一般在400~600V的范圍內(nèi)。 3. 有的難濺射的靶材(如錳Mn、鉻...
背景技術(shù): 濺射鍍膜屬于物相沉積方法制備薄膜的工藝之一,具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面,使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出,并沉積在基材或工件表面,從而形成薄膜。由于背板具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能,且還可以起到固定支撐作用,因此,靶材在鍍膜前需與背板...
目前市場(chǎng)上常見(jiàn)的合金靶材有哪些? 鈦鋁靶材,TiAl靶材,鈦硅靶材,TiSi靶材,鈦鎢靶材,TiW靶材,鎢鈦靶材WTi靶材,鈦鋁硅靶材,TiAlSi靶材,鉻鋁靶材,CrAl靶材,鉻硅靶材,CrSi靶材,硅鋁靶材,SiAl靶材,鋅錫靶材,ZnSn靶材,鋅鋁靶材,...
等離子預(yù)處理工藝在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用。 等離子體是電離了的氣體。它由電子、離子和中性粒子3種成分組成,其中電子和離子的電荷總數(shù)基本相等,故整體是電中性的。在基材薄膜鍍鋁前,通過(guò)等離子處理裝置將電離的等離子體中的電子或離子打到基材薄膜表面,一方面,可以打開(kāi)材料的...
真空鍍膜中靶材中毒會(huì)出現(xiàn)哪些想象,如何解決? 靶面金屬化合物的形成。 由金屬靶面通過(guò)反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過(guò)程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子,通常是放熱反應(yīng),反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去...
本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中,所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。 本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400與所述固定板200間通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中,所述拋光片朝向所述防護(hù)...
磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎?磁控濺射過(guò)程中,等離子體的離子撞擊靶材,濺射出靶材的原子、原子團(tuán)、離子、電子、光子等,原子、離子、原子團(tuán)沉積到基材上形成薄膜。 濺射發(fā)生在靶材表面,靶材表面物理狀態(tài)不均勻也沒(méi)有關(guān)系,濺射的時(shí)候會(huì)先濺射凸起,濺射時(shí)間長(zhǎng)...
其他服務(wù): 打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工服務(wù)。 回收流程如下:稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司,是專業(yè)從事鍍膜材料、合金制備等相關(guān)材料研發(fā)、銷(xiāo)售、服務(wù)為一體的全球化高科技綜合性公司。以業(yè)內(nèi)...
鈀,是銀白色過(guò)渡金屬,較軟,有良好的延展性和可塑性,能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣,使體積***脹大,變脆乃至破裂成碎片。 原 子 量:106.4 密 度(20℃)/g?cm-3:12.02 熔 點(diǎn)/℃:1552 蒸發(fā)溫度/℃:1460 沸 ...
鈀,是銀白色過(guò)渡金屬,較軟,有良好的延展性和可塑性,能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣,使體積***脹大,變脆乃至破裂成碎片。 原 子 量:106.4 密 度(20℃)/g?cm-3:12.02 熔 點(diǎn)/℃:1552 蒸發(fā)溫度/℃:1460 沸 ...
熔融鑄造法: 熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質(zhì)元素含量盡可能低,通常其冶煉和澆注在真空或保護(hù)性氣氛下進(jìn)行。但鑄造過(guò)程中,材料組織內(nèi)部難免存在一定的孔隙率,這些孔隙會(huì)導(dǎo)致濺射過(guò)程中的微粒飛濺,從而影響濺射薄膜的質(zhì)量。為此,需要后...
鋁鈧合金靶材(AlSc),尺寸按需求定制,比列按需求定制,含鈧比較高能做到AlSc45wt%,質(zhì)量?jī)?yōu)異,雜質(zhì)含量低,歡迎新老客戶來(lái)電咨詢洽談。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司生產(chǎn)的金屬鈧,品質(zhì)優(yōu)異,**全球。鋁鈧合金生產(chǎn)歷史悠久,擁有豐富的經(jīng)驗(yàn),目前推出...
電解錳 片狀 99.7% 1-10mm 真空熔煉 Co-F3501 電解鈷 片狀 99.95% 1-10mm 真空熔煉 Co-I3504 電積鈷 塊狀 99.95% 40*40*5mm 真空熔煉 Co-G3533 鈷 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔...