直流磁控濺射制備鋅-銻熱電薄膜的技術(shù)探討 熱電材料是一種能夠?qū)崿F(xiàn)熱能和電能直接相互轉(zhuǎn)換的綠色環(huán)保型功能材料。近年來研究發(fā)現(xiàn)，熱電薄膜化有助于熱電材料減低熱導(dǎo)率，從而能夠有效的提高材料的熱電轉(zhuǎn)換效率，因此具有十分重要的科學(xué)研究價值。Zn-Sb合金是采用的P 型熱...

真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技巧 1、真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。 方法：用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并...

中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射與直流反應(yīng)磁控濺射相比具有以下幾個顯巨優(yōu)點(diǎn)： (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象，中頻反應(yīng)磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應(yīng)磁控濺射鍍制的同種膜相比，膜面缺 陷要少幾個數(shù)量級; (2)可以得到比直流反應(yīng)磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率; ...

利用原子力顯微鏡(AFM)和掃描電子顯微鏡(SEM)，對所制備的非晶硅薄膜進(jìn)行了定性和定量的表征，研究了濺射功率、襯底溫度、濺射時間、氬氣氣壓等因素對非晶硅薄膜表面形貌和厚度的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：非晶硅薄膜的表面粗糙度會隨濺射功率、濺射時間和濺射氣壓的增加而增...

電解錳片狀99.7%1-10mm真空熔煉Co-F3501電解鈷片狀99.95%1-10mm真空熔煉Co-I3504電積鈷塊狀99.95%40*40*5mm真空熔煉Co-G3533鈷顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉W-G3536m真空熔煉Ta-G3533鉭顆...

中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射與直流反應(yīng)磁控濺射相比具有以下幾個顯巨優(yōu)點(diǎn)： (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象，中頻反應(yīng)磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應(yīng)磁控濺射鍍制的同種膜相比，膜面缺 陷要少幾個數(shù)量級; (2)可以得到比直流反應(yīng)磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率; ...

磁控靶材面積與承載功率范圍 1、靶材面積與承載功率范圍 (1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。 (2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。 (3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶功率密度范圍一般為40~50瓦/c...

陰-陽極間距對靶濺射電壓的影響：真空氣體放電陰-陽極間距能夠?qū)Π袨R射電壓造成一定的影響。在陰-陽極間距偏大時，等效氣體放電的內(nèi)阻主要由等離子體等效內(nèi)阻決定，反之，在陰-陽極間距偏小時，將會導(dǎo)致等離子體放電的內(nèi)阻呈現(xiàn)較小數(shù)值。由于在磁控靶點(diǎn)火起輝后進(jìn)入正常濺射時...

電致變色的工作原理： 電致變色材料在外加電場作用下發(fā)生電化學(xué)氧化還原反應(yīng)，得失電子，使材料的顏色發(fā)生變化電致變色器件的典型結(jié)構(gòu)器件結(jié)構(gòu)從上到下分別為：玻璃或透明基底材料、透明導(dǎo)電層（如：ITO）、電致變色層、電解質(zhì)層、離子存儲層、透明導(dǎo)電層（如：ITO）、...

什么是電致變色，它有哪些分類：電致變色是指材料的光學(xué)屬性（反射率、透過率、吸收率等）在外加電場的作用下發(fā)生穩(wěn)定、可逆的顏色變化的現(xiàn)象，在外觀上表現(xiàn)為顏色和透明度的可逆變化。具有電致變色性能的材料稱為電致變色材料，用電致變色材料做成的器件稱為電致變色器件。電致變...

頂板210與所述側(cè)板220為一體成型。在其他實(shí)施例中，所述頂板與所述側(cè)板還可以采用焊接、螺接或緊密配合方式固定連接。固定板200的材料為合金，具體的，所述固定板200的材料為不銹鋼。在其他實(shí)施例中，所述固定板的材料還可以為金屬。固定板200的厚度為10mm...

常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設(shè)計和加工。又稱粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。 2. IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶...

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素： 本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業(yè)效率。 為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧...

陽光控制鍍膜玻璃的優(yōu)點(diǎn) 陽光控制鍍膜玻璃主要就是為了遮光隔熱，根據(jù)它的物理特性也叫做熱反射鍍膜玻璃，在普通的透明玻璃上通過磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍上一層或多層薄膜，在這里我們簡稱反射玻璃。 反射玻璃相對于普通透明玻璃而言，在太陽能的反射性能上，反射...

一種靶材拋光裝置100，包括：固定板200，所述固定板200包括頂板210和位于所述頂板210一側(cè)的側(cè)板220；拋光片300，位于所述固定板200內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板200彎折處的拋光片300呈弧狀。 所述固定板200能夠起到支架的作用，以固定支...

3D玻璃漸變色的應(yīng)用 3D玻璃漸變色主要應(yīng)用于3C產(chǎn)品，特別是手機(jī)領(lǐng)域。隨著雙玻璃加金屬邊框的盛行，3D后蓋裝飾工藝需要不斷革新。現(xiàn)有的裝飾工藝主要是在裝飾防爆膜上進(jìn)行鍍膜絲印，再與3D玻璃貼合實(shí)現(xiàn)裝飾效果，外觀裝飾主要還是防爆膜紋理和鍍膜顏色搭配實(shí)現(xiàn)。漸變色...

鈀，是銀白色過渡金屬，較軟，有良好的延展性和可塑性，能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣，使體積***脹大，變脆乃至破裂成碎片。 原 子 量：106.4 密 度（20℃）/g?cm-3：12.02 熔 點(diǎn)/℃：1552 蒸發(fā)溫度/℃：1460 沸 ...

所述靶材600具有十二條側(cè)棱601，各條側(cè)棱601均經(jīng)過圓角處理。在圓角處理前，所述靶材600的側(cè)棱601位置較為銳利。如果使用側(cè)棱未經(jīng)圓角處理的靶材600進(jìn)行濺射鍍膜，在濺射鍍膜工藝過程中，所述靶材600的側(cè)棱601位置容易發(fā)生前列放電的現(xiàn)象，導(dǎo)致鍍膜的...

等離子預(yù)處理工藝在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用。 等離子體是電離了的氣體。它由電子、離子和中性粒子3種成分組成，其中電子和離子的電荷總數(shù)基本相等，故整體是電中性的。在基材薄膜鍍鋁前，通過等離子處理裝置將電離的等離子體中的電子或離子打到基材薄膜表面，一方面，可以打開材料的...

密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘R射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。 是晶粒尺寸...

密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘R射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。 是晶粒尺寸...

非晶硅薄膜的制備方法 非晶硅薄膜的制備方法有很多，如低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)，直流(射頻)磁控濺射等。生長多晶硅薄膜的方法有：化學(xué)氣相沉積包括低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)、大氣壓強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(APCVD)、...

本實(shí)施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.78mm；所述靶材表面的硬度為26hv； 其中，所述靶材的比較大厚度為22mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所...

純度：純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘Ρ∧さ男阅苡绊懞艽?。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”、 8”發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13u...

真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技巧 1、真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。 方法：用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并...

電子束鍍膜 Au-T4025 金 靶材 99.99% φ50.8*5mm 磁控濺射鍍膜 Pt-T4034 鉑 靶材 99.99% φ60*4mm 磁控濺射鍍膜 Pd-T3575 鈀 靶材 99.95% φ101.6*5mm 磁控濺射鍍膜 Ag-T4043 銀 ...

真空技術(shù)中的清潔處理 (一)概述 真空技術(shù)清潔處理一般指的是真空裝置的結(jié)構(gòu)材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強(qiáng)度和氣密性，提高產(chǎn)品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類型 ①油脂:加工、安裝和操作時...

氧化物鍍膜技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用 近年來，迅速發(fā)展微波加熱技術(shù)給微波食品包裝及需經(jīng)微波殺 菌消毒的一類商品的包裝提出了新的要求，即包裝材料不要具有優(yōu)良的阻隔性能，而且還要耐高溫、微波透過性好等特性，傳統(tǒng)的包裝材料很難具備這些特點(diǎn)。因此，近年來日本、德國、美國...

陽光控制鍍膜玻璃的優(yōu)點(diǎn) 陽光控制鍍膜玻璃主要就是為了遮光隔熱，根據(jù)它的物理特性也叫做熱反射鍍膜玻璃，在普通的透明玻璃上通過磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍上一層或多層薄膜，在這里我們簡稱反射玻璃。 反射玻璃相對于普通透明玻璃而言，在太陽能的反射性能上，反射...

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素： 本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業(yè)效率。 為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧...