什么是負(fù)離子,沃壹小編給大家分析一下
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【負(fù)離子科普二】自然界中的負(fù)離子從哪里來的?
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負(fù)離子發(fā)生器的原理是什么呢?
負(fù)離子到底是什么,一般涉及到的行業(yè)、產(chǎn)品有哪些?
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關(guān)于負(fù)離子的常見十問
運(yùn)動(dòng),需要選對(duì)時(shí)間和地點(diǎn)
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中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射與直流反應(yīng)磁控濺射相比具有以下幾個(gè)顯巨優(yōu)點(diǎn): (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象,中頻反應(yīng)磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應(yīng)磁控濺射鍍制的同種膜相比,膜面缺 陷要少幾個(gè)數(shù)量級(jí); (2)可以得到比直流反應(yīng)磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率; (3)中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射的整個(gè)濺射沉積過程,可以始終穩(wěn)定在所設(shè)定的工作點(diǎn)上,為大規(guī)模工業(yè)化穩(wěn)定生產(chǎn)提供了條件。 選用非對(duì)稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同,使用單個(gè)磁控靶進(jìn)行反應(yīng)磁控濺射,調(diào)節(jié)相應(yīng)的鍍膜工藝參數(shù),可以消除磁控靶面打弧放電現(xiàn)象和實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定的薄膜沉積,可以達(dá)到上述“中頻-雙靶反應(yīng)磁控濺射”的同樣效果。而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。常州錫鋅靶材
所述靶材600具有十二條側(cè)棱601,各條側(cè)棱601均經(jīng)過圓角處理。在圓角處理前,所述靶材600的側(cè)棱601位置較為銳利。如果使用側(cè)棱未經(jīng)圓角處理的靶材600進(jìn)行濺射鍍膜,在濺射鍍膜工藝過程中,所述靶材600的側(cè)棱601位置容易發(fā)生前列放電的現(xiàn)象,導(dǎo)致鍍膜的均勻性差,影響鍍膜質(zhì)量。圓角處理使得靶材側(cè)棱601鈍化,有助于防止前列放電現(xiàn)象的發(fā)生。
利用所述靶材拋光裝置100對(duì)所述靶材600進(jìn)行拋光時(shí),將所述靶材拋光裝置100放置于所述靶材600上,使所述拋光片第二部分320表面與所述靶材600的側(cè)棱601表面相貼合,并使所述拋光片部分310表面與所述靶材濺射面610相貼合,且所述拋光片第三部分330表面與所述靶材600的側(cè)壁表面630相貼合。操作人員利用所述把手推動(dòng)所述靶材拋光裝置100,所述靶材拋光裝置100相對(duì)所述靶材600移動(dòng),移動(dòng)方向平行與被拋光的所述側(cè)棱601延伸方向。所述拋光片300表面的磨砂顆粒與靶材600表面相摩擦,以獲得光亮、平整的靶材600表面。 鎮(zhèn)江LiTaO3靶材所以如果是表面容易變質(zhì)的靶材,如果不拋光去除表面變質(zhì)部分,沉積到基材上的膜層性質(zhì)就是表面變質(zhì)的雜質(zhì)。
與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv;所得靶材組件濺射強(qiáng)度差,使得濺射過程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。對(duì)比例4與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv;所得靶材組件濺射強(qiáng)度差,使得濺射過程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。通過上述實(shí)施例和對(duì)比例的結(jié)果可知,本發(fā)明中,通過調(diào)整靶材表面的高度差及硬度,保證濺射強(qiáng)度,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。申請(qǐng)人聲明,本發(fā)明通過上述實(shí)施例來說明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征,但本發(fā)明并不局限于上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征,即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征才能實(shí)施。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了,對(duì)本發(fā)明的任何改進(jìn),對(duì)本發(fā)明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等,均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍和公開范圍之內(nèi)。以上詳細(xì)描述了本發(fā)明的 實(shí)施方式,但是,本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié),在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi),可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型,這些簡(jiǎn)單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
靶材600呈長(zhǎng)方體狀,其頂部表面為靶材濺射面610,底部表面為靶材焊接面620,所述靶材焊接面620貼合于背板表面上,所述靶材600通過所述靶材焊接面620與背板焊接固定。所述靶材600具有四個(gè)側(cè)壁表面630。靶材600具有十二條側(cè)棱601,各條側(cè)棱601均經(jīng)過圓角處理。在圓角處理前,所述靶材600的側(cè)棱601位置較為銳利。如果使用側(cè)棱未經(jīng)圓角處理的靶材600進(jìn)行濺射鍍膜,在濺射鍍膜工藝過程中,所述靶材600的側(cè)棱601位置容易發(fā)生前列放電的現(xiàn)象,導(dǎo)致鍍膜的均勻性差,影響鍍膜質(zhì)量。圓角處理使得靶材側(cè)棱601鈍化,有助于防止前列放電現(xiàn)象的發(fā)生。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。
由于操作人員同時(shí)對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光,因此操作人員施加在靶材側(cè)壁表面及側(cè)棱上的力度差異小,拋光工藝結(jié)束后,靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面具有相近似甚至完全相同的平整度,使得拋光表面具有良好的均一性,有助于改善濺射鍍膜質(zhì)量。若分步驟對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面進(jìn)行拋光,操作人員在兩個(gè)步驟中施加的力度容易差別較大,造成拋光處理后,靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面粗糙度差異大,使得靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面交接處具有臺(tái)階。在濺射鍍膜過程中,所述臺(tái)階容易導(dǎo)致前列放電,影響濺射鍍膜的均一性,造成鍍膜質(zhì)量差。拋光片部分310的厚度均勻。所述拋光片第三部分330的厚度均勻。位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度不均,即所述拋光片第二部分320的厚度不均。拋光片部分310的厚度與所述拋光片第三部分330的厚度相等,均為2mm~3mm。拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為分體的。在其他實(shí)施例中,所述拋光片部分、拋光片第二部分及拋光片第三部分還可以為一體成型。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽(yáng)能電池等眾多領(lǐng)域。鎮(zhèn)江LiTaO3靶材
此外,提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。常州錫鋅靶材
作為本發(fā)明 的技術(shù)方案,所述靶材的比較大厚度為28-30mm,例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等,但不限于所列舉的數(shù)值,該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案,所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案,所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案,所述靶材包括用于濺射的濺射面。 地,所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案,所述斜面與水平面的夾角≤10°,例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等,但不限于所列舉的數(shù)值,該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案,所述斜面位于所述***平面和第二平面之間。 地,所述平面為圓形。 地,所述第二平面為環(huán)形。常州錫鋅靶材
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。