規(guī)格說明： 產品規(guī)格 靶材可定制 產品數(shù)量 1000 包裝說明 雙層真空包裝 價格說明 1000 ◆ 產品說明： 高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材 鈀，是銀白色過渡金屬，較軟，有良好的延展性和可塑性，能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣，使體積***脹大，變脆乃至破裂成碎片。 原 子 量：106.4 密 度（20℃）/g?cm-3：12.02 熔 點/℃：1552 蒸發(fā)溫度/℃：1460 沸 點/℃：3140 汽化溫度/℃：1317 比 電 阻 率（0℃）/uΩ?cm：10.6 熔 化 熱/kJ?mol-1：16.7 汽 化 熱/ kJ?mol-1：361.7 熱 導 率（0～100℃）/J?（cm?s?℃）-1：0.753 電阻溫度系 外 觀：銀白色 蒸 發(fā) 源（絲、片）：W（鍍Al2O3） 坩 堝：Al2O3 性 質：與難溶金屬形成合金，閃爍蒸發(fā)，在EB 內激烈飛濺，鈀是銀白色過渡金屬，較軟，有良好的延展性和可塑性，能鍛造、壓延和拉絲。
所以結論就活性金屬靶材要求表面拋光，不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。南京三元合金靶費用
濺射靶材，主要應用于IC制造的沉積PVD工藝，是表面電子薄膜制備的關鍵材料。由于工藝方法是，利用離子源的離子在真空中加速聚集，形成高速離子束流轟擊固體表面，固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面形成沉積薄膜，因此被轟擊的固體原材料，就稱為濺射靶材。濺射靶材普遍用于芯片、面板、太陽能電池制造，分為金屬靶、陶瓷靶和合金靶。芯片制造中，對金屬靶材和合金靶材所用的金屬純度的要求極高，通常要求達到5N5到6N以上，面板要達到5N，太陽能電池分別要達到4N5。問題就出在這里。我國有色金屬資源豐富，產量也不低。但因為金屬提純工藝技術和設備落后，長期以來，濺射靶材和超高純度金屬基材主要被美日壟斷，比如霍尼韋爾、日礦金屬、東曹、普萊克斯、住友化學、愛發(fā)科，海德魯、三菱材料等。其中日礦金屬全球市占約30%；霍尼韋爾約20%，東曹20%，普萊克斯10%。國內靶材企業(yè)的超高純度金屬基材基本上都是進口的，價格昂貴。比如超高純度電解銅，價格可以達到40萬人民幣/噸。 南京三元合金靶費用通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學反應無法繼續(xù)進行。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。4..密度為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。
真空熔煉 Mn-F2701 電解錳 片狀 99.7% 1-10mm 真空熔煉 Co-F3501 電解鈷 片狀 99.95% 1-10mm 真空熔煉 Co-I3504 電積鈷 塊狀 99.95% 40*40*5mm 真空熔煉 Co-G3533 鈷 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 W-G3536 m 真空熔煉 Ta-G3533 鉭 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Nb-G3533 鈮 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Mo-G3533 m 真空熔煉 Si-I5011 多晶硅 塊狀 99.999% 不規(guī)則塊狀 真空熔煉 In-G4501 銦 顆粒 99.995% 1-3mm 真空熔煉 Zr-I2402 海綿鋯 塊狀 99.4% 3-25mm 真空熔煉 Hf-I2402 海 m 真空熔煉 Ge-G5006 鍺 顆粒 99.999% 3-5mm 真空熔煉 La-I3011 鑭 塊狀 99.9% 不規(guī)則塊狀 真空熔煉 Er-I3011 鉺 塊狀 99.9% 不規(guī)則塊狀 真空熔煉 Dy-I3011 鏑 塊狀 99.9% 不規(guī)則塊狀 真空熔煉 W-P3504 鎢 粉末 99.95% 325目 粉末冶金 Al-P3504 &nbs 5目 粉末冶金 TiC-P2514 碳化鈦 粉末 99.5% 3-5μm 粉末冶金 HfC-P2514 碳化鉿 粉末 99.5% 3-5μm 粉末冶金 ZrB2-P2519 二硼化鋯 粉末 99.5% 10μm 粉末冶金 Ti-F2612 .2*L 耗材配件 Ta-F3513 鉭 0*0.2mm 耗材配件 Nb-F3513 *100*0.2mm 耗材配件 合金定制 流程：1.客戶提供需要的配比、塊材大小和用量要求；
除嚴格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結晶取向之外，對熱處理條件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴格控制。
磁控濺射制備非晶硅薄膜 本實驗采用石英玻璃為襯底，實驗前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，濺射時間120 min，濺射氣壓2.0 Pa，襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊，其中各保留一小塊不做退火處理，其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導方法，研究非晶硅薄膜的晶化過程。濺射靶材安裝過程中**重要的注意事項是一定要確保在靶材和濺射冷卻壁之間建立很好的導熱連接。南京三元合金靶費用
所以在安裝靶材時需要對陰極冷卻水槽進行檢查和清理，確保冷卻水循環(huán)的順暢和進出水口不會被堵塞。南京三元合金靶費用
真空離子鍍厚功能鍍膜代替現(xiàn)行電鍍 真空離子鍍厚特性： (1)不用酸堿鹽、不用物、不產生六價鉻，沒有三廢排放，對環(huán)境沒有污染，對人體旡害。 (2)鍍膜附著性好不易脫落，有過渡層。 (3)可鍍制厚功能鍍膜有耐磨、耐蝕、耐熱及特殊性能等鍍膜。 (4)鍍膜硬度可達Hv2000左右, 可據(jù)要求而定。 (5)鍍膜厚度可達40微米以上，可據(jù)要求而定。 (6)工件基材鋼鐵為主，有色金屬及其合金也可據(jù)要求采用。 應用領域：活塞環(huán)、軸承軸瓦、葉片、搬手、篩具、壓鑄模具、 量具、絞刀、絲錐、 板牙、五金工具、機床頂針、一般耐磨件、鉗子口、零件修復等等。
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江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發(fā)展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。