與實施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為8mm；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對比例3與實施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對比例4與實施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。通過上述實施例和對比例的結(jié)果可知，本發(fā)明中，通過調(diào)整靶材表面的高度差及硬度，保證濺射強度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。申請人聲明，本發(fā)明通過上述實施例來說明本發(fā)明的詳細結(jié)構(gòu)特征，但本發(fā)明并不局限于上述詳細結(jié)構(gòu)特征，即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細結(jié)構(gòu)特征才能實施。所屬技術(shù)領域的技術(shù)人員應該明了，對本發(fā)明的任何改進，對本發(fā)明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等，均落在本發(fā)明的保護范圍和公開范圍之內(nèi)。導電膠：采用的導電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。湖北BN靶材
靶材拋光裝置100還包括：防護層400，所述防護層400位于所述固定板200與所述拋光片300之間。防護層400為彈性材料，能夠在所述固定板200及靶材間提供緩沖，避免所述固定板200觸撞靶材導致靶材受損。防護層400的厚度為30mm～35mm。若所述防護層400的厚度過小，所述防護層400起到的緩沖效果差，難以有效的保護靶材。若所述防護層400的厚度過大，使得所述防護層400的體積過大，進而造成所述靶材拋光裝置100的體積過大，對操作者使用所述靶材拋光裝置100帶來不必要的困難。防護層400的材料。在其他實施例中，所述防護層的材料還可以為橡膠或棉花。防護層400與所述固定板200間通過粘結(jié)劑相粘接。所述防護層400與所述拋光片300間也通過粘結(jié)劑相粘接。在其他實施例中，所述拋光片朝向所述防護層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)，所述防護層與所述拋光片間通過所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。福建鈹靶材濺射出靶材的原子、原子團、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團沉積到基材上形成薄膜。
靶中毒的解決辦法（1）采用中頻電源或射頻電源。（2）采用閉環(huán)控制反應氣體的通入量。（3）采用孿生靶（4）控制鍍膜模式的變換：在鍍膜前，采集靶中毒的遲滯效應曲線，使進氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿，確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應對？磁控濺射金屬靶時，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：1.靶材安裝準確否?2.靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì)，打磨清理干凈后即可。3.起輝電源是否正常------------檢查靶電源。4.靶與地線之間短路----------關(guān)掉機器，把設備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細清洗一下；----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當?shù)木嚯x，調(diào)整距離即可。5.永磁靶表面場強是否下降太多？---------如果下降太多，需要更換磁鋼。6.起輝濺射真空度與前次的差別？---------更換不同的靶材，起輝壓強不盡相同。換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的，只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。
磁控濺射鍍膜生產(chǎn)ZnO∶Al（AZO）薄膜的工藝探討 目前主要的薄膜太陽能電池有：碲化鎘（CdTe）系薄膜太陽能電池、硒銦銅（CIS）系薄膜太陽能電池、非晶硅系薄膜太陽能電池、晶硅系薄膜太陽能電池。研究人員研制出了價格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶Al陷光結(jié)構(gòu)來作為薄膜太陽能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結(jié)構(gòu)的AZO透明導電薄膜可以增強太陽光的散射作用，改善陷光效果，增加電池對太陽能的吸收量，提高薄膜太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優(yōu)點，是較為合適的生產(chǎn)AZO薄膜的工藝方法。 目前由磁控濺射工藝生產(chǎn)透明導電薄膜AZO時所用靶材有兩種類型：①陶瓷AZO靶材；②合金鋅鋁靶材。應根據(jù)實際情況，選擇適合本企業(yè)的靶材產(chǎn)品。 作為一種新的TCO材料，AZO相對于ITO和FTO有很大優(yōu)勢，要大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化還必須在如何降低設備及工藝成本上進一步研發(fā)。從根本上說，AZO薄膜的結(jié)構(gòu)性能的好壞決定了其光電性能的優(yōu)劣，必須在工藝參數(shù)上多做研究，實現(xiàn)高質(zhì)量和低成本的雙贏。采用中頻電源或射頻電源，可以濺射不導電的陶瓷靶材。
濺射靶材的制備方法有哪些？濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材普遍應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領域，不同領域需要的靶材各不相同。濺射靶材的制備：濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類，除嚴格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外，對熱處理條件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴格控制。粉末冶金法：粉末冶金法制備靶材時，其關(guān)鍵在于：(1)選擇高純、超細粉末作為原料；(2)選擇能實現(xiàn)快速致密化的成形燒結(jié)技術(shù)，以保證靶材的低孔隙率，并控制晶粒度；(3)制備過程嚴格控制雜質(zhì)元素的引入。采用閉環(huán)控制反應氣體的通入量。杭州鉻硅靶材功能
靶材密度越高，薄膜的性能越好。湖北BN靶材
影響磁控靶濺射電壓的主要因素有：靶面磁場、靶材材質(zhì)、氣體壓強、陰-陽極間距等。本文詳細分析這些因素距對靶濺射電壓的影響。一、靶面磁場對靶濺射電壓的影響1.磁控靶的陰極工作電壓，隨著靶面磁場的增加而降低，也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而降低。濺射電流也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而加大。這是因為靶的濺射刻蝕槽面會越來越接近靶材后面的磁鋼的強磁場。因此，靶材的厚度是有限制的。較厚的非磁性靶材能夠在較強的磁場中使用。2.鐵磁性靶材會對磁控靶的濺射造成影響，由于大部分磁力線從鐵磁性材料內(nèi)部通過，使靶材表面磁場減少，需要很高電壓才能讓靶面點火起輝。除非磁場非常的強，否則磁性材靶材必須比非磁性材料要薄，才能起輝和正常運行(永磁結(jié)構(gòu)的Ni靶的典型值<0.16cm，磁控靶非特殊設計最大值一般不宜超過3mm，F(xiàn)e，co靶的最大值不超過2mm;電磁結(jié)構(gòu)的靶可以濺射厚一些的靶材，甚至可達6mm厚)才能起輝和正常運行。正常工作時，磁控靶靶材表面的磁場強度為0.025T~0.05T左右;靶材濺射刻蝕即將穿孔時，其靶材表面的磁場強度大為提高，接近或大于0.1T左右。
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江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。