什么是負(fù)離子,沃壹小編給大家分析一下
負(fù)離子室內(nèi)呼吸健唐解決方案燃爆國(guó)際綠色建博覽會(huì)
【負(fù)離子科普二】自然界中的負(fù)離子從哪里來(lái)的?
多地呼吸道ganran高發(fā),門診爆滿,秋冬呼吸道疾病高發(fā)期的易踩誤區(qū)
負(fù)離子發(fā)生器的原理是什么呢?
負(fù)離子到底是什么,一般涉及到的行業(yè)、產(chǎn)品有哪些?
負(fù)離子空氣凈化器去除PM2.5
關(guān)于負(fù)離子的常見十問(wèn)
運(yùn)動(dòng),需要選對(duì)時(shí)間和地點(diǎn)
負(fù)離子給我們生活帶來(lái)的好處-空氣凈化負(fù)離子發(fā)生器制造商
磁控濺射制備非晶硅薄膜 本實(shí)驗(yàn)采用石英玻璃為襯底,實(shí)驗(yàn)前先將玻璃襯底浸泡在溶液中,放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機(jī)清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機(jī)中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設(shè)備上,分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前,預(yù)濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式, 濺射功率為100 W, 本底真空度6×10- 4 Pa , 濺射時(shí)間20 min,濺射氣壓0.5 Pa,襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式,濺射功率150 W,本底真空度6×10- 4 Pa,濺射時(shí)間120 min,濺射氣壓2.0 Pa,襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊,其中各保留一小塊不做退火處理,其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃,2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導(dǎo)方法,研究非晶硅薄膜的晶化過(guò)程。在直流脈沖、中頻濺射過(guò)程中,離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮,所以一般在濺射的時(shí)候進(jìn)行物理拋光。杭州硼靶圖片
真空離子鍍耐高溫性能: 航空零件,特別是許多發(fā)動(dòng)機(jī)零件往往需要在高溫下工作。例如渦輪葉片及導(dǎo)向葉片工作溫度通常在攝氏一千度左右,有的甚至達(dá)攝氏一千四百度。神話小說(shuō)《西游記》里孫悟空被太上老君放在爐內(nèi)燒煉時(shí),恐怕也達(dá)不到這么高的溫度吧?,F(xiàn)代航空發(fā)動(dòng)機(jī)零件在這樣高的溫度下工作,依賴零件基體材料本身的性能是很難滿足要求的。那么,發(fā)動(dòng)機(jī)零件怎樣才能不怕高溫?zé)g呢?目前除在零件結(jié)構(gòu)上采取措施(如采用空心冷卻葉片、發(fā)散冷卻葉片等)以外,大都需用耐熱鍍層進(jìn)行保護(hù)。離子鍍對(duì)于沉積耐熱膜有相當(dāng)多的優(yōu)點(diǎn),能鍍各種高熔點(diǎn)材料,如氧化鋁、氧化硅、氧化鈹、鉿合金等。合金鍍層的成份也比較容易控制,適合于鍍成分較復(fù)雜的耐熱合金,如鐵鉻鋁釔,鈷鉻鋁釔或鎳鉻鋁釔合金等。 目前渦輪葉片是試圖采用離子鍍耐熱鍍層的主要對(duì)象。據(jù)悉,有一種葉片用此法鍍復(fù)一種鎳鉻鋁釔合金后,其高溫工作壽命比鍍鋁提高了三倍。適于采用離子鍍耐熱鍍層的發(fā)動(dòng)機(jī)零件還有渦輪盤、氣缸活塞零件等。有些零件經(jīng)過(guò)這種先進(jìn)工藝處理后,可在高溫下工作上千小時(shí)。
杭州硼靶圖片再用手轉(zhuǎn)緊對(duì)角線上的另外一顆鏍栓,如此重復(fù)直到安裝上所有鏍栓后,再用工具收緊。
中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射與直流反應(yīng)磁控濺射相比具有以下幾個(gè)顯巨優(yōu)點(diǎn): (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象,中頻反應(yīng)磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應(yīng)磁控濺射鍍制的同種膜相比,膜面缺 陷要少幾個(gè)數(shù)量級(jí); (2)可以得到比直流反應(yīng)磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率; (3)中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射的整個(gè)濺射沉積過(guò)程,可以始終穩(wěn)定在所設(shè)定的工作點(diǎn)上,為大規(guī)模工業(yè)化穩(wěn)定生產(chǎn)提供了條件。 選用非對(duì)稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同,使用單個(gè)磁控靶進(jìn)行反應(yīng)磁控濺射,調(diào)節(jié)相應(yīng)的鍍膜工藝參數(shù),可以消除磁控靶面打弧放電現(xiàn)象和實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定的薄膜沉積,可以達(dá)到上述“中頻-雙靶反應(yīng)磁控濺射”的同樣效果。
陶瓷靶材ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、濺射靶材氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
在受到離子轟擊之后,釋放的二次電子數(shù)量增加,提高了空間的導(dǎo)通能力。
靶中毒的影響因素影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過(guò)量就會(huì)導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過(guò)程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長(zhǎng)的過(guò)程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下,參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加,化合物生成率增加。如果反應(yīng)氣體量增加過(guò)度,化合物覆蓋面積增加,如果不能及時(shí)調(diào)整反應(yīng)氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到***,濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋,當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候,靶完全中毒,在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應(yīng)。除嚴(yán)格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外,對(duì)熱處理?xiàng)l件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴(yán)格控制。杭州氟化鈰靶
所以在安裝靶材時(shí)需要對(duì)陰極冷卻水槽進(jìn)行檢查和清理,確保冷卻水循環(huán)的順暢和進(jìn)出水口不會(huì)被堵塞。杭州硼靶圖片
國(guó)統(tǒng)局?jǐn)?shù)據(jù)顯示,2019年上半年儀器儀表大行業(yè)規(guī)模以上企業(yè)4927個(gè),營(yíng)收規(guī)模4002億元,營(yíng)收同比增長(zhǎng)7.57%;收入總額為361億元,同比增長(zhǎng)2.87%,比主營(yíng)收入低4.70個(gè)百分點(diǎn);中國(guó)的新型工業(yè)化進(jìn)程,信息化和工業(yè)化融合的進(jìn)一步加深,帶動(dòng)各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域?qū)τ诖趴貫R射靶材,蒸發(fā)材料,背板,靶材綁定等產(chǎn)品的需求。在國(guó)民經(jīng)濟(jì)運(yùn)行中,金屬靶材,合金靶材,陶瓷靶材,鍍膜材料的研發(fā)銷售(以上項(xiàng)目均不含危險(xiǎn)品);鍍膜技術(shù)的研究,開發(fā);鍍膜生產(chǎn)**設(shè)備,其他機(jī)械設(shè)備,電子產(chǎn)品,五金產(chǎn)品的銷售;自營(yíng)和代理各類商品以及技術(shù)的進(jìn)出口業(yè)務(wù),但國(guó)家限定企業(yè)經(jīng)營(yíng)或禁止進(jìn)出口的商品和技術(shù)除外。等設(shè)備是提高勞動(dòng)生產(chǎn)率的倍增器,對(duì)國(guó)民經(jīng)濟(jì)有著巨大的作用和影響力。美國(guó)商業(yè)部地區(qū)技術(shù)和標(biāo)準(zhǔn)研究院(NIST)提出的報(bào)告稱:美國(guó)90年代儀器儀表工業(yè)產(chǎn)值只占工業(yè)總產(chǎn)值的4%,但它對(duì)國(guó)民經(jīng)濟(jì)(GNP)的影響面卻達(dá)到66%。盡管在我國(guó)相關(guān)政策的引導(dǎo)和支持下,我國(guó)儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展。但是從銷售整體上看,我國(guó)的儀器儀表行業(yè)還是落后于國(guó)際水平的。重點(diǎn)技術(shù)缺乏、高精尖產(chǎn)品嚴(yán)重依賴進(jìn)口、儀器儀表產(chǎn)品同質(zhì)化嚴(yán)重、生產(chǎn)工藝落后、研發(fā)能力弱、精度不高等問(wèn)題的凸顯,為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來(lái)了嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。杭州硼靶圖片
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。