涂布技術在真空鍍鋁膜中的應用 將涂布技術與真空鍍鋁技術結合起來，通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層，以達到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等，滿足不同應用領域的要求。 一．經(jīng)過等離子預處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高，但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高，或者需要用于水煮殺 菌條件時仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求，通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學涂層，該涂層不對鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能，同時可以滿足后續(xù)的水煮殺 菌條件。涂布后的包裝可以滿足巴氏殺 菌的要求，其鍍鋁層不會因為水煮而發(fā)生氧化。 二．為進一步提高鍍鋁膜的阻隔性能，同時保護鍍鋁層在后續(xù)的印刷、復合等加工過程中不被破壞，可以通過在鍍鋁層上涂布一層高阻隔的納米涂層或聚合物涂層來實現(xiàn)。 三．為提高鍍鋁膜的裝飾性能，在基材薄膜鍍鋁前或鍍鋁后進行各種顏色的涂布，或模壓后再進行鍍鋁，使得鍍鋁膜具有多彩的顏色或具有鐳射效果。此類產品可分為三種：包裝用膜、裝飾用膜、標示用膜。主要應用于禮品、禮盒的裝飾或防偽包裝用途，如食品、藥品、玩具等的外包裝以及酒等的防偽包裝。當濺射靶被化合物全部覆蓋的時候，靶完全中毒，在靶面上沉積一層化合金屬膜。南京碲靶材圖片
作為本發(fā)明推薦的技術方案，所述靶材的比較大厚度為28-30mm，例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等，但不限于所列舉的數(shù)值，該范圍內其他未列舉的數(shù)值同樣適用。
作為本發(fā)明推薦的技術方案，所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板。
作為本發(fā)明推薦的技術方案，所述靶材呈凹形結構。
作為本發(fā)明推薦的技術方案，所述靶材包括用于濺射的濺射面。
推薦地，所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面。
作為本發(fā)明推薦的技術方案，所述斜面與水平面的夾角≤10°，例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等，但不限于所列舉的數(shù)值，該范圍內其他未列舉的數(shù)值同樣適用。
作為本發(fā)明推薦的技術方案，所述斜面位于所述***平面和第二平面之間。
推薦地，所述平面為圓形。
推薦地，所述第二平面為環(huán)形。 常州磷酸鋰靶材價格在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮。
磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎？磁控濺射過程中，等離子體的離子撞擊靶材，濺射出靶材的原子、原子團、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團沉積到基材上形成薄膜。
濺射發(fā)生在靶材表面，靶材表面物理狀態(tài)不均勻也沒有關系，濺射的時候會先濺射凸起，濺射時間長了，靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態(tài)不需要拋光。
濺射過程不影響靶材合金、混合材質的比例和性質，所以如果是表面容易變質的靶材，如果不拋光去除表面變質部分，沉積到基材上的膜層性質就是表面變質的雜質。
靶中毒現(xiàn)象：
正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。
靶中毒的物理解釋：
一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當發(fā)生靶中毒時，濺射電壓會明顯降低。
金屬靶材與化合物靶材本來濺射速率就不一樣，一般情況下金屬的濺射系數(shù)要比化合物的濺射系數(shù)高，所以靶中毒后濺射速率低。（3）反應濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低，所以反應氣體比例增加后，綜合濺射速率降低。 壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當?shù)木嚯x，調整距離即可。
技術實現(xiàn)要素：
本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業(yè)效率。
為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側的側板；拋光片，位于所述固定板內側面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。
可選的，所述拋光片表面與靶材側壁表面及經(jīng)圓角處理的側棱相匹配。
可選的，所述固定板內側面彎折處形成夾角，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度不均。
可選的，所述固定板內側面彎折處呈弧狀，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度均勻。
可選的，所述固定板的材料為金屬或合金。
可選的，所述拋光片為砂紙。
可選的，所述靶材拋光裝置還包括：防護層，所述防護層位于所述固定板與所述拋光片之間。
可選的，所述防護層為彈性材料。
可選的，所述防護層的材料為***、橡膠或棉花。
可選的，所述靶材拋光裝置還包括：把手，所述把手設置于所述固定板的外表面上。
可選的，所述把手的數(shù)量為兩個，其中一個所述把手設置于所述固定板的頂部，另一個所述把手設置于所述固定板的側壁上。 磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎？南京碲靶材圖片
靶材密度越高，薄膜的性能越好。南京碲靶材圖片
所述靶材600具有十二條側棱601，各條側棱601均經(jīng)過圓角處理。在圓角處理前，所述靶材600的側棱601位置較為銳利。如果使用側棱未經(jīng)圓角處理的靶材600進行濺射鍍膜，在濺射鍍膜工藝過程中，所述靶材600的側棱601位置容易發(fā)生前列放電的現(xiàn)象，導致鍍膜的均勻性差，影響鍍膜質量。圓角處理使得靶材側棱601鈍化，有助于防止前列放電現(xiàn)象的發(fā)生。
利用所述靶材拋光裝置100對所述靶材600進行拋光時，將所述靶材拋光裝置100放置于所述靶材600上，使所述拋光片第二部分320表面與所述靶材600的側棱601表面相貼合，并使所述拋光片部分310表面與所述靶材濺射面610相貼合，且所述拋光片第三部分330表面與所述靶材600的側壁表面630相貼合。操作人員利用所述把手推動所述靶材拋光裝置100，所述靶材拋光裝置100相對所述靶材600移動，移動方向平行與被拋光的所述側棱601延伸方向。所述拋光片300表面的磨砂顆粒與靶材600表面相摩擦，以獲得光亮、平整的靶材600表面。 南京碲靶材圖片
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。