無錫AZO靶材型號

玫瑰金靶材有哪些？ PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的，不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別，大概分為以下幾種： 1、皇冠金（crown gold），黃金含量在22K(91.667％)，由英國亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見的也是典型的18K玫瑰金，黃金含量也在18K(75％)，但其它另含有約4％的銀和21％的銅，呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金，黃金含量在14K(58.33％)，其它添加金屬為銅(41.67％)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素，用來達(dá)到不同的色調(diào)或用來改變鍍層的性能，這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因之一。

晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。無錫AZO靶材型號

主要產(chǎn)品：1、鈀 顆粒 99.99%常規(guī)尺寸：φ3*6mm；量大可定做2、鈀 靶材 99.99%?常規(guī)尺寸：φ50*1mm；φ60*3mm；φ76.2*4mm等，尺寸可定做3、電鏡鈀片常規(guī)尺寸：φ57*0.1mm*0.2mm4、鈀 箔片 99.92mm等，尺寸可定做二、其他：打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工。回收流程如下：稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材產(chǎn)品編碼產(chǎn)品名稱規(guī)格應(yīng)用Sc-I4006鈧x真空熔煉Li-G30610鋰顆粒99.9%φ6*10mm真空熔煉Sr-I2011鍶塊狀99%氮?dú)獍b真空熔煉Mg-G3514鎂顆粒99.93%4mm類球形真空熔煉Mg-I3503鎂塊狀99.95%200g/塊真空熔煉Fe-G3533鐵顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Cr-G3501mm真空熔煉Al-G4066鋁顆粒99.99%φ6*6mm真空熔煉Cu-G5033銅顆粒99.999%φ3*3mm真空熔煉Cu-G3533銅顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Ti-G3033鈦顆粒99.9%φ3*3mm真空熔煉Ni-G3025鎳顆粒99.9%φ2*5mm真空熔煉V-G3015釩顆粒99.9%樹枝狀真空熔煉Mn-F2701杭州鈧靶材費(fèi)用采用中頻電源或射頻電源，可以濺射不導(dǎo)電的陶瓷靶材。

背景技術(shù)：濺射鍍膜屬于物相沉積方法制備薄膜的工藝之一，具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出，并沉積在基材或工件表面，從而形成薄膜。由于背板具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能，且還可以起到固定支撐作用，因此，靶材在鍍膜前需與背板焊接在一起，然后共同裝配至濺射基臺。一般活性金屬靶材，例如鋁靶材，由于長期暴露在空氣中，靶材表面材料容易氧化形成一層氧化皮。在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞該氧化皮，導(dǎo)致靶材原子或分子難以逸出，因此在將靶材安裝至濺射基臺之前，需要對靶材表面進(jìn)行拋光。此外，對于活性金屬靶材及非活性金屬靶材，拋光操作有利于改善靶材的濺射速率的穩(wěn)定性，有助于提高濺射鍍膜質(zhì)量。

與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對比例4與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。通過上述實(shí)施例和對比例的結(jié)果可知，本發(fā)明中，通過調(diào)整靶材表面的高度差及硬度，保證濺射強(qiáng)度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。申請人聲明，本發(fā)明通過上述實(shí)施例來說明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征，但本發(fā)明并不局限于上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征，即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征才能實(shí)施。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了，對本發(fā)明的任何改進(jìn)，對本發(fā)明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等，均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍和公開范圍之內(nèi)。以上詳細(xì)描述了本發(fā)明的 實(shí)施方式，但是，本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié)，在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業(yè)效率。為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。可選的，所述拋光片表面與靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱相匹配?？蛇x的，所述固定板內(nèi)側(cè)面彎折處形成夾角，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度不均。可選的，所述固定板內(nèi)側(cè)面彎折處呈弧狀，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度均勻?？蛇x的，所述固定板的材料為金屬或合金?？蛇x的，所述拋光片為砂紙?？蛇x的，所述靶材拋光裝置還包括：防護(hù)層，所述防護(hù)層位于所述固定板與所述拋光片之間?？蛇x的，所述防護(hù)層為彈性材料?？蛇x的，所述防護(hù)層的材料為***、橡膠或棉花?？蛇x的，所述靶材拋光裝置還包括：把手，所述把手設(shè)置于所述固定板的外表面上。可選的，所述把手的數(shù)量為兩個，其中一個所述把手設(shè)置于所述固定板的頂部，另一個所述把手設(shè)置于所述固定板的側(cè)壁上。LLZO靶材和LLZTO靶材，是一種新型陶瓷復(fù)合靶材。上海釩靶材圖片

密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。無錫AZO靶材型號

所述把手510包括桿狀部511和第二桿狀部512，所述桿狀部511的一端連接所述頂板210，另一端連接所述第二桿狀部512。所述桿狀部511延伸方向與所述頂板210表面相垂直，所述第二桿狀部512延伸方向與所述頂板210表面相平行。所述把手510的結(jié)構(gòu)有利于操作人員牢固的抓握所述把手510，防止從所述把手510上滑脫。在其他實(shí)施例中，所述固定板200內(nèi)側(cè)面彎折處呈弧狀，所述防護(hù)層400彎折處呈弧狀，位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度均勻。此外，與前一實(shí)施例不同的是，所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為一體成型。且所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330厚度相等。無錫AZO靶材型號

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設(shè)備兩臺，等靜壓設(shè)備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。