南京氮化硼靶材廠家

靶中毒的解決辦法（1）采用中頻電源或射頻電源。（2）采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。（3）采用孿生靶（4）控制鍍膜模式的變換：在鍍膜前，采集靶中毒的遲滯效應(yīng)曲線，使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿，確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應(yīng)對？磁控濺射金屬靶時(shí)，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：1.靶材安裝準(zhǔn)確否?2.靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì)，打磨清理干凈后即可。3.起輝電源是否正常------------檢查靶電源。4.靶與地線之間短路----------關(guān)掉機(jī)器，把設(shè)備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細(xì)清洗一下；----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x，調(diào)整距離即可。5.永磁靶表面場強(qiáng)是否下降太多？---------如果下降太多，需要更換磁鋼。6.起輝濺射真空度與前次的差別？---------更換不同的靶材，起輝壓強(qiáng)不盡相同。換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的，只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電，使陰極濺射無法進(jìn)行下去。南京氮化硼靶材廠家

所述靶材的比較大厚度為24mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁；所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實(shí)施例5本實(shí)施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.82mm；所述靶材表面的硬度為21hv；其中，所述靶材的比較大厚度為23mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為1°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁；所述背板的材質(zhì)包括銅和鋁。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。

常州ZnS靶材廠家需要后續(xù)熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。

在其他實(shí)施例中，所述固定板200內(nèi)側(cè)面彎折處呈弧狀，所述防護(hù)層400彎折處呈弧狀，位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度均勻。此外，與前一實(shí)施例不同的是，所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為一體成型。且所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330厚度相等。所述靶材600呈長方體狀，其頂部表面為靶材濺射面610，底部表面為靶材焊接面620，所述靶材焊接面620貼合于背板表面上，所述靶材600通過所述靶材焊接面620與背板焊接固定。所述靶材600具有四個(gè)側(cè)壁表面630。

真空離子鍍厚功能鍍膜代替現(xiàn)行電鍍 真空離子鍍厚特性： (1)不用酸堿鹽、不用物、不產(chǎn)生六價(jià)鉻，沒有三廢排放，對環(huán)境沒有污染，對人體旡害。 (2)鍍膜附著性好不易脫落，有過渡層。 (3)可鍍制厚功能鍍膜有耐磨、耐蝕、耐熱及特殊性能等鍍膜。 (4)鍍膜硬度可達(dá)Hv2000左右, 可據(jù)要求而定。 (5)鍍膜厚度可達(dá)40微米以上，可據(jù)要求而定。 (6)工件基材鋼鐵為主，有色金屬及其合金也可據(jù)要求采用。 應(yīng)用領(lǐng)域：活塞環(huán)、軸承軸瓦、葉片、搬手、篩具、壓鑄模具、 量具、絞刀、絲錐、 板牙、五金工具、機(jī)床頂針、一般耐磨件、鉗子口、零件修復(fù)等等。而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

非晶硅薄膜的制備方法   非晶硅薄膜的制備方法有很多，如低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)，直流(射頻)磁控濺射等。生長多晶硅薄膜的方法有：化學(xué)氣相沉積包括低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)、大氣壓強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(APCVD)、等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)以及液相生長、激光再晶化和固相晶化法(SPC)等。固相晶化法是指在(高溫)退火的條件下，使固態(tài)非晶硅薄膜的硅原子被、重組，從而轉(zhuǎn)化為多晶硅薄膜。它的特點(diǎn)是非晶固體發(fā)生晶化的溫度低于其熔融后結(jié)晶的溫度。常規(guī)高溫爐退火、快速熱退火、金屬誘導(dǎo)晶化、微波誘導(dǎo)晶化等都屬于固相晶化的范疇。本文采用PECVD 和磁控濺射方法在不同的條件下制備了a- Si: H 和a- Si 薄膜，并采取高溫退火和激光誘導(dǎo)晶化的方式，利用X- 射線衍射及拉曼光譜，對制備的非晶硅薄膜晶化過程進(jìn)行了系統(tǒng)地研究。為確保足夠的導(dǎo)熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。南京氮化硼靶材廠家

正離子堆積：靶中毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜。南京氮化硼靶材廠家

釬焊：一般使用軟釬料的情況下，要求濺射功率小于20W/cm2，釬料常用In、Sn、In-Sn；導(dǎo)電膠：采用的導(dǎo)電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。二.綁定的適用范圍：建議綁定的靶材：ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材；錫、銦等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴的情況等。但下列情況綁定有弊端：1.熔點(diǎn)低的靶材，像銦、硒等，金屬化的時(shí)候可能會(huì)變軟變形；2.貴金屬靶材，一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧，二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料，建議墊一片銅片。三.背靶的選擇對材質(zhì)的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右；導(dǎo)電性好：常用無氧銅，無氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好；強(qiáng)度足夠：太薄，易變形，不易真空密封；結(jié)構(gòu)要求：空心或者實(shí)心結(jié)構(gòu)；厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強(qiáng)；太薄，容易變形。南京氮化硼靶材廠家

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設(shè)備兩臺，等靜壓設(shè)備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。